【課題】近年、走査電子顕微鏡などの荷電粒子線装置はユーザの裾野が広がっている。そのユーザの誰もが手動調整技術を習得することが求められているが、観察のためのパラメータ全てを適切な値に調整することは非常に困難である。このため初心者にとっては装置の性能を十分に発揮させることが難しかった。本発明は誰もが容易に手動調整技術を習得するためのパラメータ調整練習機能を備えた荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】上記課題を解決するため、フォーカス調整および非点調整の練習手段を設ける。ユーザの操作に応じて対物レンズのフォーカス条件とＸ方向非点補正器とＹ方向非点補正器の制御条件を設定し、設定されたフォーカス条件とＸ方向非点補正条件とＹ方向非点補正条件の組に応じて、当該制御条件に対応した練習用画像を記憶装置から読み出し、画面に表示することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォーカスのための基板の正確な位置決めの点で有利なマルチ電子線描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子線を基板に対して射出する荷電粒子光学系と、基板を保持し、荷電粒子光学系の光軸の方向と光軸に垂直な方向とにそれぞれ可動なステージ１０３と、基準反射面を含み、光軸の方向におけるステージの位置を計測する干渉計と、荷電粒子線の特性を計測する計測器２０１と、補正情報を用いて干渉計の計測結果を補正する制御部と、を備える。制御部は、光軸に垂直な方向におけるステージの複数の位置それぞれに関して干渉計による計測としての第１計測と計測器による計測としての第２計測とを並行して行わせ、複数の位置それぞれに関して得られた第１計測および第２計測の結果に基づいて、補正情報を求める。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡装置を操作するための使用しやすいユーザ・インタフェースを提供すること。
【解決手段】低倍率基準画像と高倍率画像とを同一スクリーン上で組み合わせて、電子顕微鏡の高倍率画像に慣れていないユーザが、サンプル上のどこで画像が得られているかを容易に判断し、その画像とサンプルの残りとの関係を理解できるようにする走査型電子顕微鏡装置を操作するためのユーザ・インタフェース。タッチ・スクリーンを介してユーザが指示を入力することにより、電子画像の視野を変えてサンプルの異なる画像を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】 焦点合わせを良好に行える電子顕微鏡における焦点合わせ方法および電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 対物レンズ電流値がｘ_０＋Δｘに設定された状態において、焦点合わせ部１３は、電子線傾斜前後の像移動量Ｄ_１を求める。次に対物レンズ電流値がｘ_０に設定された状態において、焦点合わせ部１３は、電子線傾斜前後の像移動量Ｄ_２を求める。次に対物レンズ電流値がｘ_０−Δｘに設定された状態において、焦点合わせ部１３は、電子線傾斜前後の像移動量Ｄ_３を求める。そして、焦点合わせ部１３は、その求めた像移動量Ｄ_１〜Ｄ_３に基づき、対物レンズをジャストフォーカス状態にするための対物レンズ電流値を求める。 （もっと読む）

【課題】コストアップと装置の大型化を防ぎなから、試料の表面の立体形状を容易に得ることができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】対物レンズにより電子ビームを集束させて試料を走査し、試料から発生する信号を検出して第１の画像を生成して表示装置の画面へ表示させ、対物レンズの励磁を変えた後に電子ビームを集束させて試料を走査し、試料から発生する信号を検出して第２の画像を生成して表示装置の画面へ表示させ、表示装置の画面に表示させた第２の画像の焦点が合うように制御電極に印加される電圧を調整した後に電子ビームを集束させて試料を走査し、試料から発生する信号を検出して第３の画像を生成し、表示装置の画面に表示させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、視野内に含まれるパターンの量に依らず、画像の定量的な焦点評価を行うことが可能な荷電粒子ビームの焦点評価方法及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子ビームの焦点評価方法であって、荷電粒子線の照射によって得られる画像の輝度ヒストグラムの標準偏差を算出し、当該標準偏差に関する値を、当該画像に含まれるパターンのエッジ量に関する値で除算し、当該除算に基づいて得られる値を用いて、前記画像の焦点調整状態を判定する焦点評価方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】セミインレンズ型の対物レンズを用いたＥＢＳＤ方式による試料の結晶方位観察を良好に行う。
【解決手段】電子線装置は、電子線１１を試料６上で集束させて照射するためのセミインレンズ型の対物レンズ４と、試料６上での電子線１１の走査に応じて走査像を取得するための信号検出手段と、試料６への電子線１１の照射に応じてＥＢＳＰを取得するためのＥＢＳＰ検出手段２２と、対物レンズ４を駆動する駆動回路４ａ中の増幅器の増幅率を切り換えるための増幅率切換手段３１と、対物レンズ４を駆動する駆動回路４ａへ供給される信号を手動にて微調整可能とする手動調整部９とを備えており、制御部７は、ＥＢＳＰの取得時における当該増幅器の増幅率が、走査像の取得時における当該増幅器の増幅率に対して小さくなるように増幅率切換手段３１を制御する。 （もっと読む）

【課題】
対物レンズ１１の物点位置の正確な制御が難しくなるような電子光学条件においても、規定位置に物点３３を作るための機能を備えた走査電子顕微鏡の提供。
【解決手段】
対物レンズ１１の物点を作りたい位置に電子線走査用とは別の物点検出用偏向器を設置し、物点が偏向器位置に存在するときに偏向器による像移動が最小になる性質を利用して、物点検出用偏向器の位置に物点が位置するように自動修正する機能を走査顕微鏡に具備させる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、荷電粒子線を試料へ照射して画像を得る装置において、特にビーム傾斜時のように、垂直ビームとは異なる条件にてビーム条件を調整するのに好適なビーム条件調整方法、及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
非点補正，焦点調整、及び視野ずれ補正を行うように、非点補正器，対物レンズ、及び偏向器を自動的に制御する制御装置を備え、非点補正，焦点調整、及び前記視野ずれ補正の少なくとも１つの実施を禁止するための選択手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】短時間で容易に、かつ、精度良く荷電粒子光学系の調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、荷電粒子光学系の調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置１は、荷電粒子源９と、荷電粒子ビームＩを入力値と対応するビーム特性値に設定して試料に照射させる荷電粒子光学系１２、１６と、荷電粒子ビームＩの照射位置を相対移動させることが可能な走査手段１７と、画像を取得可能な観察手段３２と、制御部３０とを備え、制御部３０は、入力値を異なる値に設定し、試料に位置を異なるものとして荷電粒子ビームＩを複数回照射させて、複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段３３と、スポット特性値が最小値を示すスポットパターンを選択するスポットパターン解析手段３４とを有し、選択されたスポットパターンと対応する入力値にと等しい値に荷電粒子光学系１２、１６の入力値を設定する。 （もっと読む）

【課題】高倍率化しても有効視野が小さくなることがない走査荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査荷電粒子線装置によると、試料の観察時に、試料の表面が焦点深度の上限の位置に又は上限の位置より僅か下方に配置されるように、焦点位置を調整する。更に、試料の表面における合焦領域である有効視野の範囲を計算する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、焦点調整の高精度化と高速化の両立を実現するのに好適な焦点調整方法、及び焦点調整装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明では、焦点位置を示す値の変化と焦点評価値の変化との関係を示す値、換言すれば焦点位置を示す値と焦点評価値との関係を示す値、すなわち焦点評価値の焦点位置方向での傾きに基づいて、焦点調整量を求める方法、及び装置を提案する。一例として、励磁電流（或いは試料への印加電圧）の変化と焦点評価値の変化との関係を示す値に基づいて、対物レンズに供給する電流値（或いは試料への印加電圧値）を演算することを提案する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、上述のような画質の違いによる位置ずれ検出精度の低下を防ぎ、光学条件を変更した場合や光軸の経時変化によって荷電粒子線の状態が変化した場合においても、容易にかつ高精度に、光軸の自動調整を実現できる荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】
光軸調整用のアライメント偏向器の偏向条件を変化させる前に焦点評価、或いは調整を行うか、又はアライメント偏向器の偏向条件に応じた焦点調整量のテーブルを備え、アライメント偏向器の偏向条件を変化させたときに、前記テーブルに従い、焦点調整を行う荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、正確かつ迅速なフォーカス制御を必要とする荷電粒子線装置、特に半導体ウェハやフォトマスク等の表面の観察、検査を行う荷電粒子線装置および荷電粒子線フォーカス制御方法に関し、静電レンズの可変電圧を極めて小さくして正確にフォーカス制御することを目的とする。
【構成】 磁界型対物レンズのレンズ磁界内に配置した静電レンズと、静電レンズを構成する電極に電圧を印加し、磁界型対物レンズの磁界中を通過する荷電粒子線ビームを加速あるいは減速して磁界型レンズによるレンズ作用を弱めあるいは強めさせると共に、静電レンズで荷電粒子線ビームをフォーカスさせ、フォーカス制御するフォーカス制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 Ｚマップの作製を不要とし、高スループットを実現すると共に、高価なステージを必要とせず、また、軸上色収差を補正して大きい開口角を用いた電子光学系を用いてもフォーカスずれを少くして試料の評価ができる電子線装置を提供する。
【解決手段】 試料台を連続移動させパターン評価を行う電子線装置に於て、試料台の連続移動方向と直交する方向にはストライプ幅より大きく、試料台の連続移動方向には上記ストライプ幅の少くとも１／４の視野を有する電子光学系を有し、パターン評価に先立ち、試料台の移動方向にビームを移動させ、合焦条件を測定するための信号波形取得を行い、その結果得られた最適合焦条件でパターン評価を行う。 （もっと読む）

【課題】 最小線幅０．２ミクロン以下のパターンを有する試料の欠陥検査等の評価を、マルチビームを用いて高スループットで行なう。
【解決手段】 単一のカソードから放出された電子線をマルチ開口で分離し、マルチビームを作る。集束したマルチビームを用いて、評価すべき試料と同じＺ座標にあるマーカ上を走査する。マーカ上の走査点から放出された電子線をＥ×Ｂ分離器で一次電子線から分離し、単一の検出器で検出する。単一の検出器を用いた検出によって、ビーム分解能、ビーム間隔およびビーム強度のうちの少なくとも一つを評価する。次にＥ×Ｂ分離器の偏向方向を逆にし、試料上の走査点から放出された二次電子群を二次光学系へ導く。複数の検出器で二次電子群によるマルチビームの各ビームに対応する信号を検出し、試料面上のパターンの評価を行なう。 （もっと読む）