【課題】 基板上に塗布された化学増幅型レジストに対する電子線露光によって、光記録媒体製造用のスタンパー原盤を、凹凸パターンの幅寸法の均一性を確保して製造する。
【解決手段】 局所真空電子線露光装置１において、電子線露光の照射電流量を例えば一定として製造したスタンパー原盤に形成されるピット及びグルーブ等の凹凸パターンに関して、アミンによって生じる寸法例えば幅の変動及び不均一性を予め検討し、この検討結果に基づいて、スタンパー原盤を構成する基板４上に塗布された化学増幅型レジストに対する露光の開始位置と終了位置の電子線露光の照射電流量及びその変化を選定する。 （もっと読む）

荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子源と、前記荷電粒子ビームのビーム経路中に配置された多孔プレートとを備えた粒子光学装置である。前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、前記多孔プレートの下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。前記粒子光学装置は、前記荷電粒子ビーム及び／又は前記複数の小ビームを操作するための粒子光学素子をさらに備える。前記第１のアレイパターンは、第１の方向に第１のパターン規則性を有し、前記第２のアレイパターンは、前記第１の方向に電子光学的に対応する第２の方向に第２のパターン規則性を有する。前記第２のパターン規則性は、前記第１のパターン規則性よりも高い。 （もっと読む）

本発明は、真空室内でクロム層をエッチングする方法であって、前記真空室にハロゲン化合物を導入するステップと、電子ビームを前記クロム層のエッチングされるべき領域上に向けるステップと、前記真空室に酸素含有化合物を導入するステップとを備えるような方法に関するものである。他の態様によれば、本発明は、絶縁体又は低い熱伝導性を持つ基板上に配された金属及び／又は金属酸化物からなる層を高い分解能で除去する方法であって、上記層を真空室内に配置するステップと、該層に収束された電子ビームを３〜３０ｋｅＶのエネルギで衝撃させるステップとを有し、上記電子ビームが時間及び面積当たりのエネルギ伝達が上記層の該層の融点及び／又は気化点より高い局部的加熱を生じさせ、上記層の除去が上記真空室への反応ガスの供給無しで実行されるような方法にも関するものである。

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