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Fターム[5C094AA16]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 目的 (21,550) | 光漏れ防止 (263)

Fターム[5C094AA16]に分類される特許

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【課題】受光領域における「光漏れ」を防止し、画像品質を向上する。
【解決手段】バックライト300によってTFTアレイ基板201の側から対向基板202の側へ向かうように照射された光が、受光領域SAにおいて遮光され、対向基板202の側から透過しないように、液晶層203と第1の偏光板206と第2の偏光板207とを設ける。 (もっと読む)


【課題】アライメントマークからの光漏れを防止しつつ、電気光学装置を小型化する。
【解決手段】電気光学装置は、基板と、該基板上に、画素領域の周囲を規定する額縁領域に形成されており、所定箇所に開口部211,212が開けられた又は切り欠かれた額縁遮光膜としての配線400と、開口部211,212内に形成されたアライメントマーク221,222a,222b,231,232と、基板上で平面的に見て、開口部211,212を覆うように形成された開口部遮光膜としてのマーク遮光膜300とを備える。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、表示画像の縁付近における光漏れを低減する。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、複数の画素電極(9a)と、複数の画素電極が設けられた画素領域(10a)の周辺に位置する周辺領域に設けられ、層間絶縁膜(43)を介して互いに異なる層に配置されると共に互いに重なる部分を夫々有する複数の遮光膜(60b、400b)とを備える。更に、複数の遮光膜のうち少なくとも一の遮光膜における他の遮光膜に対向する側に、他の遮光膜と重なる部分に少なくとも部分的に重なるように形成されると共に、一の遮光膜に比べて入射される入射光に対する反射率が低い低反射膜(60a、400a)とを備える。 (もっと読む)


【課題】 ゲート線駆動回路がアレイ基板に形成された画像表示装置において、ゲート線駆動回路の寄生容量を低減し、ゲート線駆動回路の消費電力を抑え、誤動作を防止する。
【解決手段】 ゲート線駆動回路が形成されたアレイ基板と、このアレイ基板に対向するカラーフィルタ基板と、このカラーフィルタ基板に形成され、表示領域の周辺を遮光する遮光層とを具備し、少なくとも前記ゲート線駆動回路に対向する領域に形成される遮光層は樹脂により構成されている。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、トランジスタにおける光リーク電流をより有効に且つより簡易な構成により低減する。
【解決手段】電気光学装置は、走査線11aと絶縁膜12を介して互いに異なる層に配置される半導体膜1aと、チャネル領域1a'に重なるゲート電極3aとを含むTFT30を備える。更に、絶縁膜12には、平面的に見て、チャネル領域1a'の脇に配置された本体部分801aと、半導体膜1aにおける、画素電極側LDD領域1c及び画素電極側ソースドレイン領域1eの第1接続部分1ecを含む第1部分領域110dに対して、本体部分801aから半導体膜1aに沿って延在する第1延在部分801aとを有する、ゲート電極3aと走査線11aとを電気的に接続するためのコンタクトホール801が形成される。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、トランジスタにおける光リーク電流をより有効に且つより簡易な構成により低減する。
【解決手段】電気光学装置は、半導体膜1a及びゲート電極3aを含むTFT30と、ゲート電極3aより第2絶縁膜41aを介して上層側に配置され、平面的に見て、ゲート電極3a及び画素電極側LDD領域1cと少なくとも部分的に重なるように形成されると共にゲート電極3aと電気的に接続された遮光部11bとを備える。更に、第1絶縁膜12及び第2絶縁膜41aには、遮光部11bとゲート電極3aとを電気的に接続する第1部分801aと、該第1部分801aから延在し、半導体膜1aの脇で遮光部11bと走査線11aとを電気的に接続する第2部分801bとを有するコンタクトホール801が形成される。 (もっと読む)


【課題】液晶等の電気光学装置において、光リーク電流の発生を低減し、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)と、基板上において、互いに交差して延在するデータ線(6a)及び走査線(11a)と、データ線及び走査線の交差に対応して規定される画素毎に設けられた画素電極(9a)と、チャネル領域(1a’)、データ線側ソースドレイン領域(1d)、画素電極側ソースドレイン領域(1e)、第1の接合領域(1b)、及び第2の接合領域(1c)を有する半導体層(1a)と、第1の接合領域を覆うように島状に設けられた第1絶縁膜(31a)と、第2の接合領域を覆うように島状に設けられた第2絶縁膜(31b)と、チャネル領域にゲート絶縁膜(2)を介して対向すると共に、第1及び第2絶縁膜上に延在されているゲート電極(3a)とを備える。 (もっと読む)


【課題】画素電極分割部からの光リークを抑制するとともに開口率の大きい液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る液晶表示素子の製造方法によれば、画素電極分割部207の幅を絶縁層106cの底面側から上面側に向かって徐々に狭めることが可能なため、表示領域に対する画素電極分割部207の占める割合を減少させ、開口率の大きい高輝度な液晶表示素子600を作製することができる。また、液晶表示素子600は画素電極分割部207の上面の幅が細いため、画素電極分割部207からの光リークを大幅に低減することが可能となり、光リークに起因する悪影響をより抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、画素内のTFTにおける光リーク電流の発生を低減する。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)と、基板上に設けられるデータ線(6a)及び走査線(11a)と、画素電極(9a)と、半導体層(1a)と、ゲート電極(3a)から画素電極側ソースドレイン領域(1e)側に延設され、ゲート絶縁膜(2)より厚い第1層間絶縁膜部分(202)を介して半導体層の上又は下に積層された第1延設部分(31a)と、ゲート電極から第1延設部分を介して更に延設され、第1層間絶縁膜部分よりも薄い第2層間絶縁膜部分(205)を介して半導体層の上又は下に積層された第2延設部分(32a)とを備える。第1延設部分は、基板上で平面的に見て、走査線及びデータ線の交差する交差領域(99cr)内に少なくとも部分的に配置されている (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、画素内のTFTにおける光リーク電流の発生を低減する。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)と、基板上で互いに交差して延在すると共に遮光性の導電膜を夫々含んでなるデータ線(6a)及び走査線(11a)と、データ線及び走査線の交差に対応して設けられた画素電極(9a)と、半導体層(1a)と、基板上で平面的に見て、半導体層における第2の接合領域(1c)を囲う環形状を有し、半導体層におけるチャネル領域(1a’)にゲート絶縁膜(2)を介して対向するように配置されたゲート電極(3a)とを備える。第2の接合領域は、基板上で平面的に見て、データ線及び走査線の交差する交差領域(99cr)内に少なくとも部分的に配置されている。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、トランジスタ特性を劣化させることなく、周辺領域における光漏れや光反射に起因する表示画像への悪影響を低減する。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、複数の画素電極(9a)と、複数の画素電極が配列された画素領域(10a)の周辺に位置する周辺領域に設けられたトランジスタ(71)と、トランジスタよりも下層側に配置され、基板上で平面的に見て、トランジスタの少なくとも一部に重なると共に、トランジスタのチャネル長方向に沿った長手状の開口部(510s)が形成された遮光膜(510)とを備える。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、プレーナ構造を有する蓄積容量を有し、例えばトランジスタにおける光リーク電流を低減すると共に容易に開口率を向上させる。
【解決手段】電気光学装置は、基板10上に、半導体膜1aと同一膜から形成された第1容量電極と、ゲート電極3aよりも上層側に配置されると共に第1容量電極に誘電体膜75を介して対向する第2容量電極300とを有する第1蓄積容量70a又は70bを備え、第2容量電極300は、第1容量電極に対向する第1本体部分300cと、画素電極側LDD領域1cを少なくとも部分的に覆うように第1本体部分300cから延設され、TFT30と層間絶縁される延設部分300sとを有する。 (もっと読む)


【課題】TFT不良(例えば、ソース電極とドレイン電極との短絡)の修正、また高速表示への対応および消費電力の抑制の実現を図る。
【解決手段】トランジスタと、該トランジスタの一方の導通電極に接続する画素電極17と、保持容量配線18とを備えたアクティブマトリクス基板10であって、上記トランジスタの一方の導通電極から引き出された引き出し配線7と、上記保持容量配線から引き出された修正用配線19とを備え、該修正用配線は、絶縁層を介して上記引き出し配線の一部と重なった構成とする。 (もっと読む)


【課題】光硬化性を有するシールを十分に硬化可能であるとともに周辺領域での光漏れを防止可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】液晶表示装置50は、表示領域52の外側の周辺領域54に配線150,170を有する第1基板100と、第1基板100に対向する第2基板200とを含んでいる。液晶表示装置50の製造方法は、配線150の少なくとも一部分に透明導電材料によって透明部分を形成して配線150を形成する配線形成工程と、光硬化性を有するシール350を介して第1基板100と第2基板200とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、シール350に配線150の上記透明部分を介して光照射を行ってシール350を硬化するシール硬化工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】引出配線上にBM層が形成された後に発見される引出配線の断線の修復を可能とすると共に、引出配線間の光漏れを防止して画面品位を向上する表示用基板を提供することを課題とする。
【解決手段】隣接する2つの引出配線4の間に形成され、一方の引出配線4の少なくとも2箇所において照射により短絡可能な遮光性を有する金属の補助配線5を有するので、引出配線4上にBM層7が形成された場合であっても、断線した引出配線を照射により電気的に再接続することができ、引出配線4間の光漏れを防止して画面品位を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】駆動特性を低下させずに、薄膜トランジスタを遮光し、かつ、コントラスト比の向上効果に優れる遮光構成を有する有機発光パネルを提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタが形成された基板1と、基板1の上に順に形成されている複数の有機発光素子と、隣り合う前記有機発光素子の間に形成されている素子分離層9と、前記有機発光素子および素子分離層9を覆う保護層10と、を有し、各有機発光素子が、少なくとも基板1側から順に、反射電極6と、有機化合物層7と、透明電極8とを有するトップエミッション型の有機発光パネルにおいて、前記有機発光素子の発光部以外の表示領域における保護層10の上に、保護層10に接するように、かつ、素子分離層9の側壁面9aの少なくとも一部を覆うように遮光層13が形成されていることを特徴とする有機発光パネル。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、表示画像の縁付近においても、高品位の画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、複数の画素電極(9a)と、該画素電極を駆動するための配線及び電子素子とを備える。複数の画素電極は、画像表示領域とダミー領域とに配列されており、ダミー領域内に配置された画素電極は、ダミー画素電極(9d)として機能する。基板上に更に、ダミー画素電極における開口領域の少なくとも一部を覆うダミー画素遮光膜(111d)を備える。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置の表示性能を高める。
【解決手段】電気光学装置は、TFTアレイ基板10上に、複数の画素の各々の開口領域を互いに隔てる非開口領域に設けられており、Y方向に沿ったチャネル長を有するチャネル領域1a´、データ線側ソースドレイン領域1d、画素電極側ソースドレイン領域1e、データ線側LDD領域1b及び画素電極側LDD領域1cを有する半導体層1aを含むTFT30を備える。更に、半導体層1aよりも上層側に形成されており、データ線側LDD領域1bを覆う第1部分301と、画素電極側LDD領域1cを覆うと共に第1部分301よりX方向の幅が広い第2部分302とを有する蓄積容量70aとを備える。 (もっと読む)


【課題】光反射層の間から侵入した光が半導体層に入射することを確実に防止することのできる反射型電気光学装置、およびこの反射型電気光学装置を備えた投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】反射型電気光学装置100の素子基板10では、支持基板10dとして透光性基板が用いられ、島状の光反射層としての画素電極9aと重なる領域に半導体層1aが島状に形成されている。走査線3aおよびデータ線6aはいずれも、隣り合う画素電極9aの間9bと重なる部分が、ITOなどの透光性導電材料からなる中継配線部分3f、6fになっている。それ故、隣り合う画素電極9aの間から侵入した光は、反射などをほとんど起こさずに素子基板10を透過し、半導体層1aには入射しない。 (もっと読む)


【課題】マイクロレンズおよびカラーフィルタの双方を同一基板上に高い位置精度で、かつ、安価に形成することができるとともに、混色などの問題点も解消することのできるカラーフィルタ付きマイクロレンズ基板、電気光学装置、電子機器、およびカラーフィルタ付きマイクロレンズ基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】マイクロレンズ基板20aは、第1の透光性基板21に形成された第1の凹部21aにカラーフィルタ材が充填され、カラーフィルタ21(R)、(G)、(B)自身がマイクロレンズとしても機能する。カラーフィルタ22(R)、(G)、(B)を覆う第2の透光性基板24の表面では、第2の凹部24aの内部に遮光層25aが形成されているため、第2の凹部24aの深さ分だけ、カラーフィルタ22(R)、(G)、(B)と遮光層25aとが近接している。従って、斜め方向に進行した光が隣接画素に侵入することがない。 (もっと読む)


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