説明

Fターム[5D033BA01]の内容

磁気ヘッド−薄膜磁気ヘッド等 (5,645) | ヘッドの構成要素 (1,930) | 磁気コア(磁性層) (528)

Fターム[5D033BA01]の下位に属するFターム

Fターム[5D033BA01]に分類される特許

1 - 9 / 9


【課題】導入された光束の向きを変えながら集光して該光束から近接場光を効率良く発生させること。
【解決手段】光束Lを集光させながら伝播させる光束集光部40bと、集光された光束から近接場光Rを生成して外部に発する近接場光生成部40cと、を有する多面体のコア40と、コアを内部に閉じ込めるクラッド41とを有し、コアは、一端側から他端側に向かう長手方向に沿って延びる1つの側面と他の側面とを有し、光束集光部は、1つの側面が他端側に向かうにしたがって他の側面に近づくように傾くことにより絞り成形され、近接場光生成部は、1つの側面が他端側に向かうにしたがって他の側面に近づき、光束集光部における傾きより大きく傾くことによりさらに絞り成形されると共に、他端側で外部に露出する端面40dが光の波長以下のサイズとされ、且つ1つの側面が遮光膜42によって遮光されている近接場光発生素子22を提供する。 (もっと読む)


データ記憶装置のデータ変換器に使用するための三次元(3D)微細構造コイルを含むがこれに限定されない、多次元微細構造を形成するための方法を提供する。いくつかの実施例に従って、本方法は概して、第1の誘電材料に埋込まれた第1の導電性経路を有するベース領域を設けるステップと、各々が、埋込まれた第1の導電性経路に接触する第1のシード層で部分的に充填された複数のビア領域を、第1の誘電材料にエッチングするステップと、複数のビア領域の各々に導電性支柱を形成するように第1のシード層を使用するステップとを含み、各導電性支柱は、ベース領域の上方の第1の距離まで延在する実質的に垂直の側壁を有する。
(もっと読む)


【課題】製造コストを抑制しつつ漏れ磁界の発生を抑制することが可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】薄膜磁気ヘッド1の製造方法は、第1下部磁極層42a上の一部に第2下部磁極層42bを形成する工程と、第2下部磁極層42bの積層方向における厚さよりも厚くなるように、第2下部磁極層42bよりもエッチングされにくい絶縁層48をウエハ表面全体に形成する工程と、ウエハ表面全体に対して第2下部磁極層42bが露出するまでCMPによる平坦化処理を行う工程と、ウエハ表面全体に対してイオンビームエッチングを施すことで、第2下部磁極層42b及び絶縁層48により構成される凹部56を形成する工程と、ウエハ表面全体に記録ギャップ層52を形成する工程と、凹部56を充填するように上部磁極層44のうち第1上部磁極層44aを形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】軟磁気特性を向上させながら、パルスめっきによるピンホールの発生を抑制することができる磁性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】貴金属及び卑金属を含有する下地層2にパルスめっきを施して、下地層2上に、磁性材料からなるめっき層3を析出させる。貴金属としては、Cu、Ru、Rh、Pd、Ag、Re、Ir、Pt、Auから選択された少なくとも一つを採用することができる。また、卑金属としては、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Moから選択された少なくとも一つを採用することができる。 (もっと読む)


【課題】高温環境下における配線層内でのボイドの発生を抑制して配線層の導通不良を抑制し、半導体装置の信頼性を向上しうる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜34に、配線溝38を形成する工程と、配線溝38内に、Cuを主材料とする配線層44を形成する工程と、配線溝38内に埋め込まれた配線層44の表面に、アンモニア及び水素が溶解された純水を含ませた布2を摩擦させる布摩擦処理を行う工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】 記録磁界傾度の低下を抑えつつ記録磁界強度を増大でき、高周波記録時も高いSN比が得られる高記録性能の垂直磁気記録ヘッドを得る。
【解決手段】 記録媒体との対向面で所定のギャップ間隔をあけて対向する主磁極層及びリターンパス層と、この主磁極層及びリターンパス層に記録磁界を与えるコイル層とを備えた垂直磁気記録ヘッドにおいて、上記リターンパス層は主磁極層と対向する面側から順にギャップ調整層と主体層とを積層してなり、このギャップ調整層は、少なくとも主磁極層及び記録媒体と対向する領域に存在し、主磁性層及び主磁極層よりも比抵抗の小さい磁性材料から形成する。 (もっと読む)


【課題】微小な寸法を有する薄膜パターンをより高精度、かつ容易に形成することのできる薄膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】第1薄膜111Zの上にAl23からなる可溶層102Zを形成したのち下部レジスト層103Zと上部レジスト層104Zとを順次形成する。下部および上部レジスト層103Z,104Zを選択的に露光して2層レジストパターン105を形成し、これをマスクとしたドライエッチングにより第1薄膜111Zおよび可溶層102Zを選択的にエッチングする。これにより、端部111Tにおける第1薄膜パターン111の型くずれを抑制し、より正確にパターニングすることができる。さらに、所定の溶剤をそれぞれ用いて2層レジストパターン105と可溶層パターン102とを順次除去するようにしたので、第1薄膜パターン111の上面にバリが発生せず、円滑なリフトオフが可能となる。 (もっと読む)


【課題】浮上量調整用発熱抵抗体と、シールド膜や磁極等の金属膜との間の電気的リークを防止する。
【解決手段】磁気ヘッド・スライダ1の薄膜磁気ヘッド部分1bには磁気再生素子2bと磁気記録素子2aとからなる磁気記録再生素子2が形成されている。また、磁気ヘッド・スライダ1の一部を加熱して熱膨張、突出させ、浮上量を調整するための発熱抵抗体11が基板部分1aと磁気再生素子2bとの間に形成されている。磁気ヘッド・スライダ1の浮上量調整の応答速度をできるだけ早くし、発熱抵抗体11の発熱による磁気再生素子2bへの影響を少なくするために、発熱抵抗体11を基板部分1aと磁気再生素子2bとの間で、磁気再生素子2bから離れた位置に配置する。発熱抵抗体11と下部シールド膜18の金属膜との絶縁を確保するために、絶縁膜12の膜厚を、発熱抵抗体11の膜厚以上、10倍以下とする。 (もっと読む)


【課題】 マルチヘッドにおける磁極位置の精度を低下させないで記録密度を高くして、記録データの高転送レート化を図るようにした磁気ヘッド装置を提供する。
【解決手段】 記録ヘッド部10のヘッドチップは、2(=m)群のマルチヘッドを薄膜技術により一体に構成したマルチ記録ヘッドである。それぞれ記録方向にずらして隣接配置された4(=q)個の磁気ヘッドH11〜H14が第1群のマルチヘッドを構成し、別の4個の磁気ヘッドH21〜H24が第2群のマルチヘッドを構成している。これらの2群のマルチヘッドは、記録ヘッド部10のヘッドチップ上で隣り合っており、かつ互いに下記の式で決められた距離Dだけずらして配置することにより、8本の記録トラックをそれぞれ同一の記録幅Tpで記録できる。ただし、nは0以上の整数であるが、ここではn=1に設定している。
D=Tp×q×(m×n+1)=12Tp (もっと読む)


1 - 9 / 9