【課題】熱揺らぎ耐性などの磁気特性およびグライドハイト特性に優れ、かつ容易に製造することができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１と、その上に形成された非磁性下地層３、磁性層４および保護層５を基本構成とし、非磁性下地層３が、ｂｃｃ構造を有し、非磁性基板１と非磁性下地層３との間に、非磁性下地層を（２００）に優先的に配向させる配向調整層２が形成され、磁性層４が、柱状微結晶粒が円周方向に傾いた結晶構造を有し、磁性層４の周方向の保磁力Ｈｃｃと径方向の保磁力Ｈｃｒとの比Ｈｃｃ／Ｈｃｒが１より大きくされている。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板表面に対して付着や水素結合の状態にあるシランカップリング剤を脱水縮合反応により化学結合させることにより、密着性の優れた無電解めっき膜を形成することが可能なガラス基板へのめっき方法及びそれを用いた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板表面に、少なくとも、シランカップリング剤溶液を用いて密着層を形成する密着層形成処理Ｓ２、触媒層形成処理Ｓ３、触媒活性化処理Ｓ４、及び前記密着層のシランカップリング剤をガラス基板表面に化学結合させる乾燥処理Ｓ７を順次施した後に、無電解めっきＳ８を施す。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材料からなる基体上に１μｍ以上の厚い膜であっても密着性良く均一に無電解めっき法でめっき膜を形成することが可能なガラス基体へのめっき方法を提供する。
【解決手段】 ガラス材料からなる基体の表面に、少なくとも、基体表面のシラノール基を２倍以上に増加させる希酸水溶液によるガラス活性化処理Ｓ２、シランカップリング剤処理Ｓ３、Ｐｄ触媒化処理Ｓ４、Ｐｄ結合化処理Ｓ５を順次施した後、無電解めっきＳ６によりめっき膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 表面粗さの更なる低減を行い、コロイダルシリカの残留によるヘッド衝突を無くすことのできる、磁気ディクス基板の研磨方法を提供すること。
【解決手段】 コロイダルシリカを含む研磨剤６１を供給しながらめっき基板５９表面のめっき層を仕上げ研磨する。研磨量は、５００nm以上が望ましく、主加工圧80ｇ／cm²以上とする。仕上げ研磨が終了した後、バルブ６４を閉じ、純水供給用のバルブ６５を開いて純水６２を供給することにより基板５９上のコロイダルシリカを含む研磨剤６１を簡易的に取り除く。次に、研磨剤供給バルブ６４を開き、洗浄研磨用に調合したコロイダルシリカ無しの一般的な有機酸を用いた酸性エッチング剤を供給しながら洗浄研磨を実施する。研磨量は、１nm以上が望ましく、主加工圧３０ｇ／cm²以下とする。 （もっと読む）

【課題】 高保磁力で、熱揺らぎの影響を受けにくく、かつ大幅なＳ／Ｎ比の改善をもたらす磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上に少なくとも、下地層及び磁性層を順次積層してなる磁気記録媒体において、前記下地層と前記基板との間にプリコート層を介在させ、前記プリコート層がＮｉとＰとを含む下層と、Ｃｒ合金からなる上層とを順次積層することにより構成されることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）