【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、裏面洗浄処理ユニットＲＳＷを含む。裏面洗浄処理ユニットＲＳＷにおいて、露光処理前に基板Ｗの裏面が洗浄される。 （もっと読む）

本発明は、光学ビームを用いて読み出される情報を有する光学式情報担体に係る。本発明は、より高いコントラストを有する情報担体を与えることを目的とする。この目的は、５０μｍ又はそれ以下の幅を有するキャビティと、該キャビティ間のランドとを有する少なくとも１つの情報層を有する情報担体によって達成される。該キャビティは、深さより小さい幅と、光学ビームによって刺激される際に光学信号を示すよう適合されたランド上に蒸着された光学活性材料とを有する。
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