【課題】回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得ること。
【解決手段】円周位置補正信号生成手段（２７）は、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する。半径位置補正信号生成手段（２９）は、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】原盤の表面状態変化、或いは露光装置の光学系デバイス類の状態変化が発生した場合、その露光パワー及びフォーカス状態が変動すること。
【解決手段】非点収差光学系２２３の４分割ディテクタ２２３ｃ、即ち原盤１２１からの反射光でパワーコントロール及びフォーカス位置制御を実行。またそのビームの偏光状態を一定に保つように光学系の所定の位置に偏光子を設置することにより、高精度なパワーコントロールが可能になり、メインテナンス性に優れた光ディスク原盤の露光装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供する。
【解決手段】描画処理後の原盤をターンテーブルから外した後再度ターンテーブルに載置したときの原盤の中心座標と、ターンテーブルの回転中心との差を検出し、ターンテーブルの停止時に検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた検出手段からの検出信号に基づいて移動手段により吸着前の原盤を径方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】 任意のターンテーブル回転速度において設計通りのパターンを高精度に描画してフォーマット情報領域を形成するディスク原盤製造制御方法の提供。
【解決手段】 任意の回転速度で回転されるターンテーブル上の基盤にフォーマット情報領域を形成する場合に、固定クロック信号に基づいて電子ビームの照射オン／オフ制御を行い電子ビーム照射によるパターン描画を行う。このときに、パターン情報とターンテーブルの回転速度とに基づき、電子ビームの照射オンと照射オフとの切り替え制御を行うタイミングを算出し、該算出したタイミングだけ固定クロック信号に基づく計時が行われるまで基盤に対する電子ビームの照射を行う。こうすると、可変周波数クロックを採用しておらずまたエンコーダパルス信号の発生精度にパターンの描画精度が依存しないので、ターンテーブルが任意の回転速度で回転されても設計通りのパターンを基盤上に高精度に描画することができる。 （もっと読む）

【課題】再生専用のコンテンツデータが記録される記録媒体において、グループ単位で固有の情報を効率的に付与できるようにする。
【解決手段】オーサリングで、被差し替えデータが特定のフォルダ内又はファイル内に配置されるデータとしてファイルシステムに管理されるデータ構造のマスターデータ（カッティングマスタ）を生成する。このマスターデータを用いてプリマスタリング、マスタリングで記録媒体原盤を製造するが、グループ毎に固有の差し替えデータを用意し、被差し替えデータを差し替えデータに差し替えてマスタリング（原盤露光）を行う。そして作成した原盤からスタンパを作成し、スタンパを用いて記録媒体を大量生産する。つまりグループ単位で、差し替えデータを変更していくことで、同じコンテンツの記録媒体としてグループ毎に固有の差し替えデータ（ＧＰ１，ＧＰ２等）が再生専用データとして記録された記録媒体が製造できるようにする。 （もっと読む）

【課題】記録マーク全体の形状の測定が可能な原盤検査方法を提供する。
【解決手段】ディスク原盤に記録マークを形成する。そして、スピンドルを回転させ、スライダを一定幅ごとに移動させながら、ピックアップユニットにより記録マークをディスク原盤の内側から外側又は外側から内側まで走査させて再生信号を読み出す。信号取得部において上記再生信号から再生データを取得し、演算部において再生データが適正であるか判断する。適正でないと判断された場合に、ディスク原盤への記録マークの形成条件の最適化を行う。 （もっと読む）

【課題】無機レジスト材料を用いたディスク原盤の製造方法において、無機レジスト材料の露光感度をより高いものとする。
【解決手段】所定の凹凸パターン形状を有する光記録媒体用のスタンパを製造するためのディスク原盤の製造方法であって、基板上に、無機レジスト材料からなるレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に露光処理及び現像処理を施すことにより、凹凸パターン形状を形成する凹凸パターン形成工程とを有するディスク原盤の製造方法において、前記レジスト層形成工程前に、前記基板と前記レジスト層との間に中間層を設ける中間層形成工程と、前記中間層の表面に逆スパッタによる表面処理を行う表面処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】環状の描画領域ＥＡに形成され更に内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２にも形成されたレジスト層３６を備える被加工体３０のレジスト層３６における内側非描画領域ＮＥＡ１又は外側非描画領域ＮＥＡ２の部分に走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を形成し、走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を走査型電子顕微鏡により観察し走査型電子顕微鏡による観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６における描画領域ＥＡの部分に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】フォーカスアクチュエータ駆動部の質量を削減して、追従性を向上させたレーザ露光装置を提供する。
【解決手段】コリメートされたレーザ光Ｌを、偏光ビームスプリッタ１２０，１／４波長板１２１を経て、集光レンズ１２２により、光軸方向に移動可能な反射基板１２３上に集光させる。反射基板１２３からの反射光を再び集光レンズ１２２を通して、再度、コリメート光にした後、固定されている対物レンズ１１０に入射させる。フォーカスずれ情報に基づいて反射基板１２３を光軸方向に移動制御することによりフォーカシングを行う。このようにして、質量の大きな対物レンズ１１０の代わりに質量の小さな反射基板１２３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。
【解決手段】（１）円形基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、（２）基板を一方向に回転させながら電子線を照射してフォトレジスト層に複数のパターンを描画する工程と、（３）描画を行ったフォトレジスト層を現像液を用いて処理して、複数のパターンを複数の多角形状凹部に変換する工程とを含み、工程（２）において描画されるパターンのそれぞれは、少なくとも１つの多角形部と、複数の点状部または線状部との組み合わせであり、工程（３）における多角形状凹部と非相似の形状を有することを特徴とするレジスト原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層における未露光部については高残膜率を維持でき、かつ、露光部については現像後において未露光部に対して高いパターンコントラストを得る。
【解決手段】化学増幅型レジスト層を基体上に形成する工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光前ベークを行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して所定のパターン露光を行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光後ベークを行う工程と、を有し、前記露光前ベーク時間の方が、前記露光後ベーク時間よりも長くする。 （もっと読む）

【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、レーザ光を集光するレンズ系の焦点距離を最適な値に調整可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に対して、レンズ系１３によりレーザ光を集光して所定の走査方向に並んだ凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光処理部１０と、レンズ系１３の焦点距離を変化させて選択的に感光したレジスト層１０１に対し、レンズ系１３によりレジスト層が感光しないレーザ光を集光して反射光を検出するディテクタ１４と、ディテクタ１４による検出結果から、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、焦点距離の変化に対応した試験露光アシンメトリ値の変化が極値となる焦点距離を、レンズ系１３の焦点距離に設定するオフセット設定部１７と、オフセット設定部１７で設定した焦点距離で、レンズ系１３がレーザ光を集光してレジスト層１０１を露光するように露光処理部１０を制御するフォーカスサーボ制御部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、記録媒体の製造方法とそれによって製造された記録媒体に関するもので、生産性を向上することを目的とするものである。
【解決手段】そして、この目的を達成するために本発明は、板状の記録媒体１７の一面側にタルボ効果活用マスク１５を配置し、この記録媒体１７の一面側から、この記録媒体１７内に、前記タルボ効果活用マスク１５を介して第一の平行光１８を入射させるとともに、前記記録媒体１７の他面側からこの記録媒体１７内に、第二の平行光１９を入射させる。 （もっと読む）

【課題】無機レジストの現像速度を抑制することができる現像液、およびそれを用いた微細加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】微細加工体の製造方法は、基材上に設けられた無機レジスト層を露光する工程と、露光された無機レジスト層を現像液により現像する工程とを備える。現像液は、アルカリ性水溶液とアミン類とを含んでいる。 （もっと読む）