【課題】トラックピッチ及び溝形状が異なる複数の記録領域を有する情報記録媒体において、安定したフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを実現する。
【解決手段】凹凸パターンにより形成された記録トラックが、第一及び第二の記録領域Ｒ１，Ｒ２と、この領域間に配置された記録領域遷移区間Ｓｘとを備え、Ｒ１におけるトラックピッチｔｐ１、溝幅ｗ１、及び溝深さｄ１並びにＲ２におけるトラックピッチｔｐ２、溝幅ｗ２、及び溝深さｄ２が式（１）と式（２）及び／又は式（３）とを満たし、０＜｜ｔｐ1−ｔｐ２｜（１）、０＜｜ｗ１−ｗ２｜（２）、０＜｜ｄ１−ｄ２｜（３）、Ｓｘが、トラックピッチがｔｐ１からｔｐ２へと遷移するトラックピッチ遷移区間Ｓｔｐと、溝幅がｗ１からｗ２へと、及び／又は、溝深さがｄ１からｄ２へと遷移する溝形状遷移区間Ｓｇとを備え、ＳｔｐとＳｇとが少なくとも一部の領域ＳＬを共有する。 （もっと読む）

【課題】最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図る。
【解決手段】一旦光ディスク記録媒体の作成までを行って原盤の評価値と光ディスク記録媒体の評価値との差分から原盤評価値の目標値を計算した上で、当該目標値に評価値を一致させるように原盤ストラテジの調整（原盤記録信号についての評価値を上記目標値に追い込むストラテジ調整）を行う。ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数を少なくとも１回に抑えることができ、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることができる。このとき、ストラテジの調整は実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値を反映して行われるので、その分、光ディスク記録媒体の信号品質は高めることができる。 （もっと読む）

【課題】熱記録によるマスタリングを行う場合において、記録速度を高速化した際に生じるピットの変形やそれに伴うジッターの悪化を抑制する。
【解決手段】第１のパワーによるランド用パルスと第１のパワーよりも高い第２のパワーによる記録用パルスを有する記録用波形部と、第１のパワーよりも低い第３のパワーを有しランド用パルスと記録用波形部との間に挿入された冷却用パルスとを有する記録波形を用いる。第１の速度よりも高速な第２の速度により記録を行う際に、第１の速度での記録を行う場合と比較して、記録用波形部と記録用波形部の両端に配される冷却用パルスとから成る波形部分の長さ及びランド用パルスの長さは不変とした上で、冷却用パルスのうち前方側の冷却用パルスの長さを縮小し後方側の冷却用パルスの長さを拡大する。これによりピット前方側の熱不足の改善及びピット後方側の冷却期間の確保が図られる。 （もっと読む）

【課題】データが記録されるデータ層を介して、視認可能なパターンを表示する光ディスク、その製造方法及び再生装置を提供する。
【解決手段】データ層は、データ層基板１１、及び、データ層基板１１の上面側に積層される半透過膜であるデータ層反射膜１２を備える。表示層は、視認可能な表示パターン２４が形成された表示層基板２１、及び、表示層基板２１の下面側に積層された表示層反射膜２２を備える。中間層３０は、データ層の上面と前記表示層の下面とを接着する。 （もっと読む）

【課題】 任意のターンテーブル回転速度において設計通りのパターンを高精度に描画してフォーマット情報領域を形成するディスク原盤製造制御方法の提供。
【解決手段】 任意の回転速度で回転されるターンテーブル上の基盤にフォーマット情報領域を形成する場合に、固定クロック信号に基づいて電子ビームの照射オン／オフ制御を行い電子ビーム照射によるパターン描画を行う。このときに、パターン情報とターンテーブルの回転速度とに基づき、電子ビームの照射オンと照射オフとの切り替え制御を行うタイミングを算出し、該算出したタイミングだけ固定クロック信号に基づく計時が行われるまで基盤に対する電子ビームの照射を行う。こうすると、可変周波数クロックを採用しておらずまたエンコーダパルス信号の発生精度にパターンの描画精度が依存しないので、ターンテーブルが任意の回転速度で回転されても設計通りのパターンを基盤上に高精度に描画することができる。 （もっと読む）

【課題】記録マーク全体の形状の測定が可能な原盤検査方法を提供する。
【解決手段】ディスク原盤に記録マークを形成する。そして、スピンドルを回転させ、スライダを一定幅ごとに移動させながら、ピックアップユニットにより記録マークをディスク原盤の内側から外側又は外側から内側まで走査させて再生信号を読み出す。信号取得部において上記再生信号から再生データを取得し、演算部において再生データが適正であるか判断する。適正でないと判断された場合に、ディスク原盤への記録マークの形成条件の最適化を行う。 （もっと読む）

【課題】電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。
【解決手段】（１）円形基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、（２）基板を一方向に回転させながら電子線を照射してフォトレジスト層に複数のパターンを描画する工程と、（３）描画を行ったフォトレジスト層を現像液を用いて処理して、複数のパターンを複数の多角形状凹部に変換する工程とを含み、工程（２）において描画されるパターンのそれぞれは、少なくとも１つの多角形部と、複数の点状部または線状部との組み合わせであり、工程（３）における多角形状凹部と非相似の形状を有することを特徴とするレジスト原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造効率を下げることなく、記録信号に符号間干渉が生じ得るか否かを高精度に評価することが可能な露光状態評価装置を提供する。
【解決手段】光ディスクの記録信号に対応させてレーザ光を照射したレジスト層１０１に、感光しないレーザ光を照射して反射光を検出するディテクタ１４と、検出信号から、記録信号の各符号長を判定する符号長判定部と、判定結果に基づいて、スライスレベルと交差する検出信号の傾き角度の累積分布を算出する算出部と、算出された傾き角度の累積分布に対して、複数の凸部を有するように変化する第１の条件、分布幅が所定の幅以上である第２の条件、ピーク値が所定値未満である第３の条件を満たすか否かを判定する判定部と、少なくとも１の条件を満たすと判定したとき、微細加工されて得られる凹凸パターンには符号間干渉が生じると評価する評価出力部とを備える。 （もっと読む）

【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、レーザ光を集光するレンズ系の焦点距離を最適な値に調整可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に対して、レンズ系１３によりレーザ光を集光して所定の走査方向に並んだ凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光処理部１０と、レンズ系１３の焦点距離を変化させて選択的に感光したレジスト層１０１に対し、レンズ系１３によりレジスト層が感光しないレーザ光を集光して反射光を検出するディテクタ１４と、ディテクタ１４による検出結果から、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、焦点距離の変化に対応した試験露光アシンメトリ値の変化が極値となる焦点距離を、レンズ系１３の焦点距離に設定するオフセット設定部１７と、オフセット設定部１７で設定した焦点距離で、レンズ系１３がレーザ光を集光してレジスト層１０１を露光するように露光処理部１０を制御するフォーカスサーボ制御部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光によるフォトレジストの露光により形成された複数の凸部を備え、ディスク基板に微細な凹凸パターンを形成することができる光ディスク原盤を、ウエット処理を含む現像工程を経ることなく製造することができる、光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】ディスク状の基板３０上に、所定波長のレーザ光に感度を有するヒートモード型の感光材料を積層してフォトレジスト層３２を形成する。ディスク状の基板を回転させながら、フォトレジスト層の表面に、光ディスクの基板表面の凹凸パターンに応じて強度変調された所定波長のレーザ光で露光して、ヒートモード型の感光材料の膨張により、複数の凸部３２Ａを前記基板の回転軸に対し同心円状又はスパイラル状に形成する。これにより、表面に複数の凸部が形成されたフォトレジスト層を備えた光ディスク原盤を製造する。 （もっと読む）

【課題】ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する
【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度（線速度）を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。 （もっと読む）

【課題】
基板面が傾斜し、かつ高さ変位を有する場合であってもフォーカス制御を高精度に行いつつ描画を行うことが可能なビーム描画装置を提供する
【解決手段】
基板面の高さを測定する高さ測定器と、電子ビームの照射半径位置及び角度位置に基づいて基板面の傾斜角度を算出する基板角度算出器と、上記傾斜角度に基づいて基板面の高さ誤差を算出する高さ誤差算出器と、上記高さ測定器による高さ測定値から上記高さ誤差を減算して高さ調整値を算出する調整値算出器と、上記高さ調整値に応じて上記電子ビームのフォーカス調整をなすフォーカスコントローラと、を有する。
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【課題】被描画体上へ同心円状のパターンを精度よくかつ簡単な制御で描画する。
【解決手段】ロータリエンコーダ53を備えた回転ステージ41上に載置された被描画体上に電子ビームを照射し、該回転ステージ41を回転させつつ同心円状のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、所定の同心円に沿ったパターンを描画後、特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオフとし、電子ビームの照射をオフとした状態で、電子ビームの照射位置を半径方向にトラックピッチ分だけ偏向させた後、電子ビームの照射をオフとしてから回転ステージ41が１回転した際に生じる特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオンとして所定の同心円に隣接する同心円に沿ったパターンの描画を開始し、該描画の開始から回転ステージが１回転した際に生じる特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオフとする工程を繰り返して同心円状のパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】基板表面のセクタ内の領域に、トラックに沿って中心角が同一の複数の微小パターンからなるパターンとトラック方向の長さが同一の複数の微小パターンからなるパターンとを混在させて形成する。
【解決手段】基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基準角度に基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。これにより、セクタ内の第１領域内に、同心円トラックに沿って中心角が同一の円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成するとともに、第２領域内に、トラック方向の長さが同一の円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの形成により情報が記憶された情報記憶媒体として、溝の深さ方向における情報記録ができるようにする。
【解決手段】原盤のレジスト材として、レーザ光照射に伴う熱反応により感光する無機レジスト、好ましくは遷移金属の不完全酸化物を用いる。この原盤に対し、入力情報に基づいてパワーを少なくとも３段階以上に変化させてレーザ光照射を行って、上記無機レジストにおける熱反応部分の深さに差を与えることで、情報の記録を行う。この原盤を現像することで、入力情報が複数段の溝によって記録された原盤を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】構造の簡易化、小型化、取扱の簡便化、メンテナンスの簡易化できる記録媒体の製造装置および記録媒体製造用原盤の製造装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成した材料層にレーザ光を記録パターンに応じて照射する工程で用いられる製造装置であって、レーザ光１３の照射によって所要の反射率を有する材料層が形成された基板１１を保持する保持手段４１と、レーザ光源部４２と、レーザ光源部４２からのレーザ光を記録パターンに応じて変調すると共に、該記録パターンの周期よりも高周波の周波数に変調する変調手段４３と、レーザ光を材料層に集光させる集光レンズ系を有する光学系４５と、材料層に対しレーザ光の照射位置を移動させる移動手段と、材料層からの戻り光を検出してフォーカシング調整を行うフォーカシング調整手段５０とを具備して成る。 （もっと読む）

【課題】極めて微細で、光記録媒体の信号特性が良好となる条件に適合した第１グルーブ及び第２グルーブを形成する。
【解決手段】光記録媒体の透明基板を作製する際に使用されるものであって、且つ、表面に第１グルーブ６６及び第２グルーブ６８を有するスタンパ原版５０の製造方法において、シリコンウエハ５２の一主面にレジストパターン６４を形成し、シリコンウエハ５２のうち、レジストパターン６４の第１開口部６０及び第２開口部６２から露出する部分をエッチングして、表面に第１グルーブ６６及び第２グルーブ６８を形成する。このとき、シリコンウエハ５２のエッチングレートをＲ１、レジストパターン６４のエッチングレートをＲ２としたとき、選択比（Ｒ１／Ｒ２）が０．５〜１．５であって、且つ、Ｒ１が５〜４０ｎｍ／分の条件でエッチングを行う。 （もっと読む）

【課題】ごく簡単な処理により無機レジスト感度を向上することができる表面処理液、表面処理方法および微細加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】表面処理液は、有機アンモニウム塩および無機アンモニウム塩から選ばれる少なくとも１種を含んでいる。有機アンモニウム塩、無機アンモニウム塩は、アニオン部分として珪酸イオン（ＳｉＯ₃^2-）、炭酸イオン（ＣＯ₃^2-）、リン酸イオン（ＰＯ₄^2-）から選ばれる少なくとも１種を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】記録媒体および記録媒体製造用原盤の製造過程で、これら記録媒体および記録媒体製造用原盤を構成する基板上に形成した材料層にレーザ光を記録パターンに応じて照射する工程で、レーザ光のフォーカシング制御を容易、確実に行い、また、記録マーク幅をレーザ光スポット以下にする。
【解決手段】記録媒体を構成する基板１１上に感熱性材料層１２を形成する工程と、感熱性材料層１２に、記録パターンに応じたレーザ光を照射して変質部１２ｓを形成する工程と、変質部１２ｓがレーザ光に対して所要の反射率を呈してレーザ光の戻り光を生じさせ、この戻り光を検出してレーザ光の感熱性材料層１２に対するスポットのフォーカス調整を行う工程と、感熱性材料層１２に対する現像処理を行って、感熱性材料層１２の変質部１２ｓもしくは非変質部を除去して、感熱性材料層１２をパターン化する工程を有する。 （もっと読む）