【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】再生専用のコンテンツデータが記録される記録媒体において、グループ単位で固有の情報を効率的に付与できるようにする。
【解決手段】オーサリングで、被差し替えデータが特定のフォルダ内又はファイル内に配置されるデータとしてファイルシステムに管理されるデータ構造のマスターデータ（カッティングマスタ）を生成する。このマスターデータを用いてプリマスタリング、マスタリングで記録媒体原盤を製造するが、グループ毎に固有の差し替えデータを用意し、被差し替えデータを差し替えデータに差し替えてマスタリング（原盤露光）を行う。そして作成した原盤からスタンパを作成し、スタンパを用いて記録媒体を大量生産する。つまりグループ単位で、差し替えデータを変更していくことで、同じコンテンツの記録媒体としてグループ毎に固有の差し替えデータ（ＧＰ１，ＧＰ２等）が再生専用データとして記録された記録媒体が製造できるようにする。 （もっと読む）

【課題】無機レジスト材料を用いたディスク原盤の製造方法において、無機レジスト材料の露光感度をより高いものとする。
【解決手段】所定の凹凸パターン形状を有する光記録媒体用のスタンパを製造するためのディスク原盤の製造方法であって、基板上に、無機レジスト材料からなるレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に露光処理及び現像処理を施すことにより、凹凸パターン形状を形成する凹凸パターン形成工程とを有するディスク原盤の製造方法において、前記レジスト層形成工程前に、前記基板と前記レジスト層との間に中間層を設ける中間層形成工程と、前記中間層の表面に逆スパッタによる表面処理を行う表面処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。
【解決手段】（１）円形基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、（２）基板を一方向に回転させながら電子線を照射してフォトレジスト層に複数のパターンを描画する工程と、（３）描画を行ったフォトレジスト層を現像液を用いて処理して、複数のパターンを複数の多角形状凹部に変換する工程とを含み、工程（２）において描画されるパターンのそれぞれは、少なくとも１つの多角形部と、複数の点状部または線状部との組み合わせであり、工程（３）における多角形状凹部と非相似の形状を有することを特徴とするレジスト原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層における未露光部については高残膜率を維持でき、かつ、露光部については現像後において未露光部に対して高いパターンコントラストを得る。
【解決手段】化学増幅型レジスト層を基体上に形成する工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光前ベークを行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して所定のパターン露光を行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光後ベークを行う工程と、を有し、前記露光前ベーク時間の方が、前記露光後ベーク時間よりも長くする。 （もっと読む）

【課題】無機レジストの現像速度を抑制することができる現像液、およびそれを用いた微細加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】微細加工体の製造方法は、基材上に設けられた無機レジスト層を露光する工程と、露光された無機レジスト層を現像液により現像する工程とを備える。現像液は、アルカリ性水溶液とアミン類とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】プロセス管理が不要で、グルーブの幅、長さと深さの制御を両立させることが可能な原盤用媒体及びその原盤用媒体を用いた原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板１に、反射膜２、保護膜３、光を吸収する第一の光吸収性層４、熱により物理的もしくは化学的変質を起こす熱変質層５、光を吸収する第二の光吸収性層６を順次形成する。この原盤用媒体を用いて、例えば、光ディスク原盤を作製する。即ち、原盤用媒体を用意する工程と、原盤用媒体の第二の光吸収層６側からレーザ光を照射し、熱変質層５に潜像を形成する工程と、第二の光吸収性層６を除去する工程と、熱変質層５に形成された潜像を現像する工程と、から光ディスク媒体原盤９を作製する。 （もっと読む）

【課題】処理の均一性を向上させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｗの上面に遮断板４の下面を対向させた状態で、基板Ｗと遮断板４との間に処理液を供給して、基板Ｗと遮断板４との間を処理液によって液密にする。そして、基板Ｗと遮断板４との間が処理液によって液密にされた状態で、基板Ｗと遮断板４とを鉛直軸線まわりに相対回転させる。 （もっと読む）

【課題】より精度良く、凹凸パターンを形成することができ、且つ、様々な規格の光ディスクの光ディスク用原盤が形成可能な光ディスク用原盤の製造方法、及び、光ディスク用露光原盤を提供する。また、その光ディスク用露光原盤を用いて形成された光ディスクを提供する。
【解決手段】基板１を準備する工程、基板１上に、所定の膜厚の中間層２を形成する工程、中間層２の膜厚と、無機レジスト層３の膜厚との比が、１：１〜１．５：１の範囲である無機レジスト層３を、中間層２上に形成する工程、無機レジスト層３上に、レーザ光を照射して、無機レジスト層３を選択的に露光する工程、露光された無機レジスト層３を現像する工程により形成する。 （もっと読む）

【課題】ニアフィールド露光と無機レジストプロセスを組み合わせて飛躍的な高密度記録を実現できるようにする。
【解決手段】原盤のリソグラフィ工程において、予め無機レジスト層の表面上へ保護薄膜を形成し、露光後に保護薄膜を剥離した上で現像を行う。無機レジスト層が保護薄膜に覆われた状態で露光を行うことで、無機レジスト上へ直接レーザを照射した際にレジスト材料の揮発でソリッドイマージョンレンズ表面が汚れてしまい、原盤−レンズ間のギャップ制御が不安定になる問題を回避する。さらに保護薄膜によって、露光部分の無機レジストの隆起を抑制することで、無機レジスト記録後の数１０ｎｍの隆起現象によって原盤とソリッドイマージョンレンズ間のギャップが塞がって衝突が起こる危険性を回避する。 （もっと読む）

【課題】複数の円周トラックに沿って、連続的に精度よくパターンを描画する。
【解決手段】円周トラックＣＴｒ_１上の描画開始位置ＳＰ_１から円周トラックＣＴｒ_１に沿ってパターンの描画を開始してから、基板が２π−Δθｔｅ_１回転した位置で、電子線をＸ軸へ偏向することで電子線の入射位置を円周トラックＣＴｒ_２上へ位置決めする。そして、円周トラックＣＴｒ_２上の描画開始位置ＳＰ_２から円周トラックＣＴｒ_２に沿ってパターンの描画を開始してから、基板が２π＋Δθｔｅ_１＋Δθｔｅ_２回転（（４π＋Δθｔｅ_２）−（２π−Δθｔｅ_１））した位置で、電子線をＸ軸へ偏向することで電子線の入射位置を円周トラックＣＴｒ_３上へ位置決めする。 （もっと読む）

【課題】 製造コストの大幅な上昇を招くことのない長期間データ保存が可能なガラスディスクを製造する。
【解決手段】 第１ステップにて、ガラス基板１１の上面に石英層１２を形成する。第２ステップにて、石英層１２の上面にフォトレジスト層１３を形成する。第３，第４ステップにて、フォトレジスト層１３にレーザ光を照射した後、現像液でレーザ反応跡１４を除去してフォトレジスト層１３に２値化データを表すピット列１５を形成する。第５ステップにて、ガスエッチングを作用させて石英層１２に２値化データを表すピット列１６を形成する。第６ステップにて、フォトレジスト層１３を剥離する。 （もっと読む）

【課題】反射膜厚変動が生じても信号特性の劣化の少ない光ディスクの実現。
【解決手段】原盤形成基板上に、記録レーザ波長の１７％未満の厚さの蓄熱層を形成し、さらに無機レジスト層を形成して露光前のディスク原盤を生成する。次にディスク原盤の無機レジスト層に対して、記録レーザ光照射によりピット及びスペースから成る記録信号パターンの露光を行い、露光後に現像処理を行ってピット及びスペースによるピット列形状が形成されたディスク原盤を生成する。そしてピット列形状が形成されたディスク原盤を用いて、ピット列形状が転写されたスタンパを製造する。そしてスタンパのピット列形状が転写され、かつピット列形状に対して銀もしくは銀合金による反射膜が形成された記録層を含む所定の層構造を有する光ディスクを製造する。この光ディスク（図２（ｂ））は、長ピットの深さが侵入光波長（λ／ｎ）の２０％以下とされ、また最短ピットとの深さの差は、侵入光波長の１／３０以下とされている。 （もっと読む）

【課題】凸状構造体の側面の傾斜角度を制御できる凸状構造体作製方法を提供する。
【解決手段】凸状構造体作製方法は、亜鉛の酸化物、亜鉛の硫化物、及び亜鉛のセレン化物の内の少なくとも１種を主成分とする第１材料と、シリコンの酸化物、シリコンの窒化物、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの窒化物、錫の酸化物、錫の窒化物、ゲルマニウムの酸化物及びゲルマニウムの窒化物の内の少なくとも１種を主成分とする第２材料と、を混合した無機レジスト層を基板上に設ける工程と、無機レジスト層をレーザ光で露光して潜像を形成する工程と、無機レジスト層を現像して、潜像に応じて残る無機レジスト層に基板に達する開口部のパターンを形成する工程と、無機レジスト層の開口部を介して基板にドライエッチングを施して基板に潜像に応じた凸状構造体を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】凸型構造体形成時の熱干渉を改善できる光学情報記録媒体製造用の原盤を提供する。
【解決手段】光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板上に接して設けられた記録補助層及び感熱層の積層体を含む記録層を有し、感熱層は露光で状態変化を起こす母材を含み、記録補助層が露光に使用する波長の光を吸収すると共に基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料からなる。 （もっと読む）

【課題】記録層として金属を含む無機レジスト層を用いた場合における記録層の酸化防止した光学情報記録媒体製造用の原盤を提供する。
【解決手段】光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板上に設けられた無機レジスト層と、無機レジスト層を被覆する透光性の保護層と、を備える。 （もっと読む）

【課題】処理液案内部材の内方に処理液雰囲気を保持することができ、処理液案内部材外への処理液雰囲気の流出を抑制または防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内構成部材１９は、スピンチャック１の周囲を取り囲むように設けられ、第１案内部２５、廃棄溝２６、内側回収溝２７および外側回収溝５２を一体的に有している。中構成部材２０は、内構成部材１９の外側においてスピンチャック１の周囲を取り囲むように設けられ、第２案内部４８を有している。外構成部材２１は、中構成部材２０の第２案内部４８の外側においてスピンチャック１の周囲を取り囲むように設けられている。外構成部材２１には、スカート部８０が備えられている。スカート部８０の垂下部８１の下端部は、液体貯留部７０に貯留された液体中に浸漬されていて、液封構造を形成している。 （もっと読む）