【課題】同期基準信号以上の分解能で記録媒体上にマーク形成を行う。
【解決手段】マーク形成装置は、ヘッド部により、レーザ駆動パルスに基づくレーザ光照射により記録媒体に対して行ってマークを形成する。このヘッド部に供給するレーザ駆動パルスの開始タイミングの制御信号を生成する制御信号生成部を設け、またヘッド部による記録媒体へのマーク形成動作に同期する同期基準信号を逓倍して逓倍信号を生成する逓倍器を設ける。そしてレーザ駆動パルス生成部は、レーザ駆動パルスを、制御信号に応じて、逓倍信号に基づく分解能で開始タイミングを設定して発生させる。 （もっと読む）

【課題】優れた反射防止機能を有する光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、１層または２層以上の情報信号層上に形成された保護層とを備える。保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】環状の描画領域ＥＡに形成され更に内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２にも形成されたレジスト層３６を備える被加工体３０のレジスト層３６における内側非描画領域ＮＥＡ１又は外側非描画領域ＮＥＡ２の部分に走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を形成し、走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を走査型電子顕微鏡により観察し走査型電子顕微鏡による観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６における描画領域ＥＡの部分に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】被検査対象であるパターンドメディアからなる磁気記録媒体の微細なパターンの形状欠陥を高速で検査できるようにする。
【解決手段】パターンドメディアの欠陥検査方法において、検出された分光波形データをデータベースに記憶しておいたパターン形状が既知の標準試料の分光反射率波形データと比較して、欠陥を検出し、この検出した欠陥の分光波形データと標準試料の分光反射率波形データとの検出波長ごとの差異に基づいて欠陥の種類を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】熱化学反応を利用して無機レジスト層に形成された凹凸パターンを、電鋳処理により、表面に微小な陥没状の欠陥を生じさせることなく、スタンパに転写可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】スタンパに凹凸パターンを転写可能な光ディスク原盤の製造方法において、第１のレジスト層１０１を、基板１００上に成膜する第１の成膜工程と、成膜された第１のレジスト層１０１を、光ディスクの記録用信号の凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光工程と、露光された基板を現像して、第１のレジスト層１０１が成膜された基板１００上に、凹凸パターン１０２を形成する現像工程と、凹凸パターン１０２が形成された基板の第１のレジスト層１０１に、第１のレジスト層１０１よりも酸素含有量が少ない遷移金属の酸化物を含む第２のレジスト層１０３を成膜する第２の成膜工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、レーザ光を集光するレンズ系の焦点距離を最適な値に調整可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に対して、レンズ系１３によりレーザ光を集光して所定の走査方向に並んだ凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光処理部１０と、レンズ系１３の焦点距離を変化させて選択的に感光したレジスト層１０１に対し、レンズ系１３によりレジスト層が感光しないレーザ光を集光して反射光を検出するディテクタ１４と、ディテクタ１４による検出結果から、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、焦点距離の変化に対応した試験露光アシンメトリ値の変化が極値となる焦点距離を、レンズ系１３の焦点距離に設定するオフセット設定部１７と、オフセット設定部１７で設定した焦点距離で、レンズ系１３がレーザ光を集光してレジスト層１０１を露光するように露光処理部１０を制御するフォーカスサーボ制御部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】製造効率を下げることなく、記録信号に符号間干渉が生じ得るか否かを高精度に評価することが可能な露光状態評価装置を提供する。
【解決手段】光ディスクの記録信号に対応させてレーザ光を照射したレジスト層１０１に、感光しないレーザ光を照射して反射光を検出するディテクタ１４と、検出信号から、記録信号の各符号長を判定する符号長判定部と、判定結果に基づいて、スライスレベルと交差する検出信号の傾き角度の累積分布を算出する算出部と、算出された傾き角度の累積分布に対して、複数の凸部を有するように変化する第１の条件、分布幅が所定の幅以上である第２の条件、ピーク値が所定値未満である第３の条件を満たすか否かを判定する判定部と、少なくとも１の条件を満たすと判定したとき、微細加工されて得られる凹凸パターンには符号間干渉が生じると評価する評価出力部とを備える。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光によるフォトレジストの露光により形成された複数の凸部を備え、ディスク基板に微細な凹凸パターンを形成することができる光ディスク原盤を、ウエット処理を含む現像工程を経ることなく製造することができる、光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】ディスク状の基板３０上に、所定波長のレーザ光に感度を有するヒートモード型の感光材料を積層してフォトレジスト層３２を形成する。ディスク状の基板を回転させながら、フォトレジスト層の表面に、光ディスクの基板表面の凹凸パターンに応じて強度変調された所定波長のレーザ光で露光して、ヒートモード型の感光材料の膨張により、複数の凸部３２Ａを前記基板の回転軸に対し同心円状又はスパイラル状に形成する。これにより、表面に複数の凸部が形成されたフォトレジスト層を備えた光ディスク原盤を製造する。 （もっと読む）

【課題】電子線を用いて基板上に所望のパターンを精度良く描画することができる電子線描画装置を提供する。
【解決手段】 駆動信号生成装置２５２からの移動ステージを駆動する信号ｓ５２ａと同期して、該信号の周波数が所定倍された信号を生成する同期信号生成装置２５３、該同期信号生成装置２５３の出力信号ｓ５３とリニアエンコーダの出力信号ｓ１３に基づいて、移動ステージの位置偏差を算出する位置偏差演算装置２５４、該位置偏差演算装置２５４の出力信号ｓ５４に基づいて、基板に照射される電子線の照射位置を調整する照射位置調整装置２５５を備えている。 （もっと読む）

【課題】ブランキングを行う必要をなくすことでビーム電流のロスを無くし、スループットを向上する。
【解決手段】描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。このとき、描画パターンを径方向に太い大きさで形成したい区間Ｒ６においては、最適速度生成器４７で描画速度Ｖexpを区間Ｒ４，Ｒ５よりも遅く設定し、Ｖexpが略一定の場合よりもＶsubを相対的に遅くすることで、太い描画を実現できる。 （もっと読む）

【課題】形状変形を起こすまでの寿命が改善されたスタンパを提供する。
【解決手段】表面にデータ領域の記録トラックまたは記録ビットに対応するパターンおよびサーボ領域の情報に対応するパターンが凹凸で形成され、内周および外周が加工され、裏面で内周端および外周端と裏面主面とが同一平面になっていることを特徴とするスタンパ。 （もっと読む）

【課題】優れた光学特性を有する光学部材の表面加工用の成形型調製に用いられるエッチングレジスト、該エッチングレジストを用いて得られる成形型の製造方法、及び該製造方法により得られる成形型を提供すること。
【解決手段】金属化合物として金属窒化酸化物を含有してなるエッチングレジスト。本発明のエッチングレジストの一態様としては、金属窒化酸化物が層を形成し、該金属窒化酸化物の層に加えて第１発熱層及び第２発熱層を含有し、これらが第１発熱層、金属窒化酸化物層、及び第２発熱層がこの順に積層されている態様が例示される。 （もっと読む）

【課題】プロセス管理が不要で、グルーブの幅、長さと深さの制御を両立させることが可能な原盤用媒体及びその原盤用媒体を用いた原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板１に、反射膜２、保護膜３、光を吸収する第一の光吸収性層４、熱により物理的もしくは化学的変質を起こす熱変質層５、光を吸収する第二の光吸収性層６を順次形成する。この原盤用媒体を用いて、例えば、光ディスク原盤を作製する。即ち、原盤用媒体を用意する工程と、原盤用媒体の第二の光吸収層６側からレーザ光を照射し、熱変質層５に潜像を形成する工程と、第二の光吸収性層６を除去する工程と、熱変質層５に形成された潜像を現像する工程と、から光ディスク媒体原盤９を作製する。 （もっと読む）

【課題】ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する
【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度（線速度）を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。 （もっと読む）

【課題】高精度な現像が可能とされる光ディスク用原盤の現像方法、及び、現像装置を提供する。
【解決手段】レジスト基板８を、回転駆動するターンテーブルに取り付ける工程、ターンテーブル１０を回転駆動すると共に、レジスト基板８の中心から離れた位置に設定した現像液塗布位置Ｐ１の無機レジスト層３上面に向けて、現像液１３を吐出する。そして、レジスト基板８の、現像液塗布位置Ｐ１とは異なる位置に設定するモニタ位置Ｐ２の無機レジスト層３上面に、レーザ光Ｌを照射し、無機レジスト層３上面で反射されたレーザ光Ｌの０次光Ｌ０と１次光Ｌ１との光量を検出し、０次光Ｌ０と１次光Ｌ１の光量比をモニタしながら、光量比が所定の値となるまで、現像液１３の吐出を続ける。 （もっと読む）

【課題】本発明は、極めて微細な加工を簡易な制御により行う。
【解決手段】光ディスク用原盤製造装置２０は遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト材料を基板１００上に成膜してレジスト層１０２を形成しレジスト基板１０３を得て、当該レジスト層１０２に特異出力光ＬＥを照射し所望の凹凸パターンと対応した選択的な露光を施し感光させる。その後光ディスク用原盤製造装置２０は、当該パターンが露光されたレジスト基板１０３を現像し光ディスク用原盤を得る。これにより露光部２６は、レジスト層１０２にレーザ光を照射し発生させる熱の拡散を抑え、微細なパターンの露光ができる。かくして光ディスク用原盤製造装置２０は極めて微細な加工を簡易な制御により行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 共通データ記憶媒体へこみ深さに関する媒体、システム、および方法を提供することにある。
【解決手段】 光学データ記憶媒体は複数のスペーサ層とデータ表面とを含む。レーザ・ダイオードの放出などの放射線ビームの波長が識別される。第１のスペーサ層または基板の屈折率も識別される。基板は、放射線ビームを透過するように構成される。放射線ビームを透過するように構成された第２のスペーサ層の屈折率も識別される。ＲＯＭ媒体用の複数のピット、記録可能媒体用のセクタ・ヘッダ、または各データ表面上の記録可能媒体用の溝のへこみ深さは、放射線ビームの波長を各スペーサ層の屈折率の平均の４倍で割った値に実質的に等しい。一実施形態の平均は、屈折率の算術平均である。代替一実施形態の平均は、屈折率の調和平均である。また、この平均は、屈折率の幾何平均にすることもできる。 （もっと読む）

【課題】レジストへパターン描画を行う電子ビーム描画方法において、露光現像後のレジストに設けられる溝の立ち上がり角度を所望の値に調整可能とする。
【解決手段】基板10を一方向に回転させつつ、電子ビームEBを、回転ステージ41の半径方向Yまたは該半径方向と直交する方向Xへ高速振動させるとともに、半径方向Yおよび／または半径方向Xと直交する方向へ偏向を行い、エレメントの形状を順次塗りつぶすように走査制御し、順次エレメントを描画する際に、高速振動を制御するための高速振動波形信号として、式（１）で表される合成波を用い、レジストの溝の所望の立ち上がり角度に応じて、式（１）におけるｎを定める。
【数１】


（ただし、２≦ｎ≦４９。） （もっと読む）