【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】再生専用のコンテンツデータが記録される記録媒体において、グループ単位で固有の情報を効率的に付与できるようにする。
【解決手段】オーサリングで、被差し替えデータが特定のフォルダ内又はファイル内に配置されるデータとしてファイルシステムに管理されるデータ構造のマスターデータ（カッティングマスタ）を生成する。このマスターデータを用いてプリマスタリング、マスタリングで記録媒体原盤を製造するが、グループ毎に固有の差し替えデータを用意し、被差し替えデータを差し替えデータに差し替えてマスタリング（原盤露光）を行う。そして作成した原盤からスタンパを作成し、スタンパを用いて記録媒体を大量生産する。つまりグループ単位で、差し替えデータを変更していくことで、同じコンテンツの記録媒体としてグループ毎に固有の差し替えデータ（ＧＰ１，ＧＰ２等）が再生専用データとして記録された記録媒体が製造できるようにする。 （もっと読む）

【課題】無機レジスト材料を用いたディスク原盤の製造方法において、無機レジスト材料の露光感度をより高いものとする。
【解決手段】所定の凹凸パターン形状を有する光記録媒体用のスタンパを製造するためのディスク原盤の製造方法であって、基板上に、無機レジスト材料からなるレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に露光処理及び現像処理を施すことにより、凹凸パターン形状を形成する凹凸パターン形成工程とを有するディスク原盤の製造方法において、前記レジスト層形成工程前に、前記基板と前記レジスト層との間に中間層を設ける中間層形成工程と、前記中間層の表面に逆スパッタによる表面処理を行う表面処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。
【解決手段】（１）円形基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、（２）基板を一方向に回転させながら電子線を照射してフォトレジスト層に複数のパターンを描画する工程と、（３）描画を行ったフォトレジスト層を現像液を用いて処理して、複数のパターンを複数の多角形状凹部に変換する工程とを含み、工程（２）において描画されるパターンのそれぞれは、少なくとも１つの多角形部と、複数の点状部または線状部との組み合わせであり、工程（３）における多角形状凹部と非相似の形状を有することを特徴とするレジスト原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層における未露光部については高残膜率を維持でき、かつ、露光部については現像後において未露光部に対して高いパターンコントラストを得る。
【解決手段】化学増幅型レジスト層を基体上に形成する工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光前ベークを行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して所定のパターン露光を行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光後ベークを行う工程と、を有し、前記露光前ベーク時間の方が、前記露光後ベーク時間よりも長くする。 （もっと読む）

【課題】露光量不足を生じさせずに模様を描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】非露光領域Ａｂのうちの１つが非露光領域Ａｂに対して回転半径方向で接する２つの露光領域Ａａ１と回転方向で接する２つの露光領域Ａａ２とで囲まれ、露光領域Ａａ１の回転方向に沿った長さＬ１よりも露光領域Ａａ２の回転方向に沿った長さＬ２を短くすべき部位が存在する露光パターンＰＡ（模様）の描画時に、露光領域Ａａ１とすべき第１領域への照射回数をＮ回、露光領域Ａａ２とすべき第２領域への照射回数をＭ回としたときに、第１領域の回転半径方向に沿った第３の長さＬ３を（Ｎ＋１）で除した値よりも、Ｍ回のうちの最内周側への照射時におけるビーム中心と最外周側への照射時におけるビーム中心との間の回転半径方向に沿った第４の長さＬ４を（Ｍ−１）で除した値の方が小さくなるように照射する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面側に微細パターンを形成するために設ける合金層を一層だけとすることができる上に、数百ｎｍ周期までの極めて狭い周期で微細パターン穴を確実に形成することができる微細パターン形成材料、および積層構造体、ならびにスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】基板の表面側に設けられ、レーザー光の照射によって溶融することで穴が形成される微細パターン形成材料であって、Ｃｏを３０〜６０原子％含有するＩｎ合金からなる。 （もっと読む）

【課題】薬液を両面に塗布する両面塗布装置であって、ウエハ上の有効チップ面を覆うようなウエハチャックを有する装置において、裏面洗浄機構を省略出来るようにする。
【解決手段】ウエハチャックを有する両面塗布装置において、ウエハ上の有効チップ面を覆うような形状のウエハチャックを有するとともに、ウエハチャックが円形であり、チャック面の半径寸法を着工ウエハの半径寸法に対して小さくして、その差が１ｍｍから１０ｍｍであるようにする。 （もっと読む）

【課題】複数の処理ユニットに基板を搬送する主搬送機構を備えた装置の設置面積を低減することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布処理ユニット３１ａ〜ｃは、塗布用主搬送機構Ｔの搬送経路Ｒと直交する略水平方向の一方側に設けられている。隣接する塗布処理ユニット３１ａ〜ｃ同士はそれぞれ、平面視で搬送経路Ｒに対して斜め方向に並ぶように配置されている。このため、各塗布処理ユニット３１ａ〜ｃが搬送経路Ｒに平行に並べられている場合に比べて、塗布用主搬送機構Ｔの搬送経路Ｒを短くすることができる。また、塗布処理ユニット３１ａ〜ｃを設置するスペースを、搬送経路Ｒ方向の長さで短縮することができる。このように塗布用主搬送機構Ｔおよび塗布処理ユニット３１ａ〜ｃの設置面積を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】基板を略水平に保持した状態で所定の処理を行う基板処理装置および基板処理方法において、遮断板を用いた処理技術と同様の遮断効果を得ながらも、より装置の小型化に適した技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗの略中央上方にガス吐出ヘッド２００を設ける。ガス吐出ヘッド２００の下部に基板表面Ｗfに向けて開口したガス吐出口２８３から、アルゴンガスを基板表面Ｗfに向けて吐出する。また、ガス吐出口２８３を取り囲むように設けたガス吐出口２９３からは、アルゴンガスよりも比重の小さい窒素ガスを吐出する。これにより、基板表面Ｗfに沿って流れるアルゴンガス層Ｌ1の上に窒素ガス層Ｌ2が形成され、周囲に浮遊するゴミＤやミストＭ等がアルゴンガス層Ｌ1に取り込まれ基板表面Ｗf近傍に運ばれるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】記録領域における現像むらを生じにくく均質性の高いプリフォーマットパターンを形成可能な原盤の現像装置を提供する。
【解決手段】 露光済みの原盤を載置する水平な上面を備え載置された露光済みの原盤１の中心を通り上下方向の延びる軸Ｏを回転中心にして回転するテーブル３１と、現像液１３が原盤１の表面を層流としてまた遷移状態で流れるように、テーブル３１に載置され回転している原盤１のフォトレジスト層２に現像液を供給する供給する現像液供給手段５３とを有する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト材料とガラス基板表面との密着力を向上させるのみならず、既存の簡潔な構造の装置を用いてガラス基板表面にフォトレジスト層を積層することができるので、コストアップを抑制することができる光記録媒体用未露光原盤に用いるガラス基板及びその表面改質方法等の提供。
【解決手段】乾燥雰囲気中でガラス基板を加熱し、該ガラス基板表面に密着剤を付与して表面改質することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤に用いるガラス基板の表面改質方法である。該密着剤を付与した後、ガラス基板の表面温度が該ガラス基板表面にフォトレジスト材料を塗布可能な温度になるまで該ガラス基板を乾燥雰囲気中で冷却する態様などが好ましい。 （もっと読む）

光学記憶媒体（１）は、基板層（２）と、前記基板層（２）上のトラック群（Ｔ１−Ｔ４）内に設けられたマーク／スペース構造を有するデータ層（３）と、カバー層（７）とを備える。１つのトラック（Ｔ１、Ｔ３）はポジティブマーク群（ＰＭ）を備えかつそれと隣り合うトラック（Ｔ２、Ｔ４）はネガティブマーク群（ＮＭ）を備える。前記トラック群は、具体的には、スパイラル（Ｓ１、Ｓ２）として設けられ、１つのスパイラルはポジティブマーク（ＮＭ）のみを有するトラックを含みかつそれに隣り合うスパイラルはネガティブマーク（ＰＭ）のみを有するトラックを含む。トラックの当該ポジティブマーク及び対応するトラックの当該ネガティブマークは、スペースによって各々離間している。当該光学記憶媒体は、特に読み取り専用光学ディスクでありかつ超解像近接場構造を有するマスク層を備え、前記データ層の前記トラック群は、２つのスパイラルとして設けられ、一方のスパイラルはポジティブマークのみから成りかつ他方のスパイラルはネガティブマークのみから成る。前記光学記憶媒体の製造のために、前記光学記憶媒体の前記データ層のポジティブ及びネガティブマーク群の各々に対応するポジティブ及びネガティブマーク群を有する表面を備えるスタンパ及びスタンパ製造のためのマスタの製造方法が提供される。
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【課題】レーベル面に記録された可視画像の視認性が良好な光記録媒体及びその基板を製造するための光記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】原版スタンパ５６は、厚み１４０〜１６０μｍの電鋳品であり、例えば、Ｎｉからなる。この原版スタンパ５６の一端面には、レジスト５８が塗布される。さらに、該レジスト５８から好ましくは５〜２００μｍ離間した位置にフォトマスク６０が配設され、この状態で、レジスト５８の一部が除去される。この除去により、レジスト５８は、頂部６２及び裾部６４が湾曲して連なる形状で残留し、その結果、予備波状部が形成される。マスタスタンパにはこの予備波状部の形状が転写されて波状部が形成され、さらに、光記録媒体用基板には、マスタスタンパの波状部が転写されて波状部が形成される。 （もっと読む）

【課題】層厚が内周側から外周側に向けて厚く形成したフォトレジスト層を簡便に、かつ低コストで製造することができるフォトレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】基板上にフォトレジストを塗布することによって形成されるフォトレジスト層の層厚を内周側から外周側に向かって厚く形成するフォトレジスト塗布方法であって、基板を載置したターンテーブルを回転させつつ前記基板上にフォトレジストを塗布する塗布工程と、前記基板上に塗布されたフォトレジストを乾燥させる乾燥工程と、を有し、前記乾燥工程では、前記ターンテーブルを回転させ、これにより基板上に塗布されたフォトレジストを前記基板の外周側に流動させる一方で、前記基板の外部に前記フォトレジストが飛散することを防止するように前記基板の外周側に空気を噴出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚が内周側から外周側に向けて厚く形成したフォトレジスト層を簡便に、かつ低コストで製造することができるフォトレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】基板を均一に加熱する加熱工程と、前記基板の径よりも小さい径をもつターンテーブルに、前記加熱した基板の内周側が接するように載置することで、前記基板のターンテーブルに接している部分近傍の熱を前記ターンテーブルに吸収させる熱吸収工程と、前記基板を載置したターンテーブルを回転させつつ、前記基板上にフォトレジストを塗布する塗布工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 第二のフォトレジスト層のプリベーク中の欠陥の発生を抑制して光記録媒体の欠陥率悪化及び再生時のエラー悪化を防止することができる光記録媒体原盤とその製造方法の提供。
【解決手段】 基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層を順次積層し、二層フォトレジスト原盤を作製するプロセスにおいて、中間層の上に第二のフォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料（以下、第二のフォトレジスト材料という）を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用することを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。 （もっと読む）