【課題】無機レジスト材料を用いたディスク原盤の製造方法において、無機レジスト材料の露光感度をより高いものとする。
【解決手段】所定の凹凸パターン形状を有する光記録媒体用のスタンパを製造するためのディスク原盤の製造方法であって、基板上に、無機レジスト材料からなるレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に露光処理及び現像処理を施すことにより、凹凸パターン形状を形成する凹凸パターン形成工程とを有するディスク原盤の製造方法において、前記レジスト層形成工程前に、前記基板と前記レジスト層との間に中間層を設ける中間層形成工程と、前記中間層の表面に逆スパッタによる表面処理を行う表面処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ニアフィールド露光と無機レジストプロセスを組み合わせて飛躍的な高密度記録を実現できるようにする。
【解決手段】原盤のリソグラフィ工程において、予め無機レジスト層の表面上へ保護薄膜を形成し、露光後に保護薄膜を剥離した上で現像を行う。無機レジスト層が保護薄膜に覆われた状態で露光を行うことで、無機レジスト上へ直接レーザを照射した際にレジスト材料の揮発でソリッドイマージョンレンズ表面が汚れてしまい、原盤−レンズ間のギャップ制御が不安定になる問題を回避する。さらに保護薄膜によって、露光部分の無機レジストの隆起を抑制することで、無機レジスト記録後の数１０ｎｍの隆起現象によって原盤とソリッドイマージョンレンズ間のギャップが塞がって衝突が起こる危険性を回避する。 （もっと読む）

【課題】 製造コストの大幅な上昇を招くことのない長期間データ保存が可能なガラスディスクを製造する。
【解決手段】 第１ステップにて、ガラス基板１１の上面に石英層１２を形成する。第２ステップにて、石英層１２の上面にフォトレジスト層１３を形成する。第３，第４ステップにて、フォトレジスト層１３にレーザ光を照射した後、現像液でレーザ反応跡１４を除去してフォトレジスト層１３に２値化データを表すピット列１５を形成する。第５ステップにて、ガスエッチングを作用させて石英層１２に２値化データを表すピット列１６を形成する。第６ステップにて、フォトレジスト層１３を剥離する。 （もっと読む）

【課題】記録マークの先頭と記録マークの終端の形状が対称的なピット形状を持ち、且つ再現性良くピットを形成することが可能な原盤記録装置及び原盤記録方法を提供する。
【解決手段】この発明の１つの実施の形態を用いることで、記録マークの先頭（記録開始位置）と記録マークの終端（記録終了位置）の形状が対称的な形をしたピットを、スタンパ用の原盤に、高い再現性で形成できる。これにより、最終製品である光ディスクから再生して得られる再生信号のノイズレベル／ジッターの程度が低減可能な、安定な信号再生ができる光ディスクが低コストで製造できる。 （もっと読む）

【課題】記録層として金属を含む無機レジスト層を用いた場合における記録層の酸化防止した光学情報記録媒体製造用の原盤を提供する。
【解決手段】光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板上に設けられた無機レジスト層と、無機レジスト層を被覆する透光性の保護層と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光ディスク原盤の母型に剥離層またはその一部が転写されることを抑制してスタンパから母型を安定して剥離でき、また、光ディスク原盤の子型に剥離層またはその一部が転写されることを抑制して母型から子型を安定して剥離できる、光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】凹状または凸状の案内溝やピット２が形成されたガラス基板１の表面上に、厚さが２〜３ｎｍの範囲内であり水の接触角θａが８０°〜９０°の範囲内である自己組織化単分子膜１２を剥離層として形成し、この自己組織化単分子膜上に金属からなる母型２０を形成する。また、この母型の表面上に、厚さが２〜３ｎｍの範囲内であり水の接触角θｂが９０°〜１００°の範囲内である自己組織化単分子膜２８を剥離層として形成し、この自己組織化単分子膜上に金属からなる子型３０を形成する。 （もっと読む）

フォトリソグラフィプロセスが説明される。このプロセスは、フォトレジスト層（２）を基板（１）に塗付するステップと、フォトレジスト層（２）を適切な波長をもつ放射線源に局所的に露光させるステップと、適切な液性現像剤組成物を基板（１）に供給するステップと、フォトレジスト層（２）の露光領域又は非露光領域を現像剤組成物で溶解させるステップと、フォトレジスト層（２）をリンスし乾燥させ、それにより上記の溶解ステップを中断させるステップと、を含む。基板（１）はフォトレジスト層（２）と接触する金属表面（１ｃ）をもち、フォトレジスト層（２）は厚さｄｒ＜１００ｎｍをもつ。７０度以上の比較的高いフォトレジスト壁のスティープネスが達成される。このプロセスは、該プロセスで製作されたスタンパ（３）を用いることによって、高密度光データ記憶媒体を製作するために使用され得る。
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【課題】 側壁部分やパターン頭部の平滑性が高い溝形状を有する情報記録媒体用原盤の作成方法を提供すること。
【解決手段】 電子線の照射により基板２１０上の電子線感応レジスト薄膜２３０に形成された所定のパターンの潜像を現像液により現像し、パターン形状を形成する情報記録媒体用原盤作成方法であって、基板２１０と電子線感応レジスト薄膜２３０との間に、電子線感応レジスト薄膜２３０を透過した電子線の基板２１０からの後方散乱電子を抑制する性質を有し、現像液に可溶な有機薄膜２２０を形成する有機薄膜形成工程を有する情報記録媒体用原盤作成方法。
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【課題】 第二のフォトレジスト層のプリベーク中の欠陥の発生を抑制して光記録媒体の欠陥率悪化及び再生時のエラー悪化を防止することができる光記録媒体原盤とその製造方法の提供。
【解決手段】 基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層を順次積層し、二層フォトレジスト原盤を作製するプロセスにおいて、中間層の上に第二のフォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料（以下、第二のフォトレジスト材料という）を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用することを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 パターニングするレジスト材料と原盤または原盤上に設けられた下地層との密着性を改善できる光ディスク原盤およびその製造方法並びに光ディスクスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】 低感度のポジ型レジスト材料からなる中間層３をレジスト層４と原盤１間またはレジスト層４と下地層２間に挿入することで、露光時にレジスト材料と原盤１間またはレジスト材料と下地層２間との界面に応力を入れないようにし、パターン形成されたネガ型レジスト材料との原盤１または下地層２との密着性を確保できる。 （もっと読む）

本発明は、記録層（１２）と基板層（１４）とを有する光学式記録に対するマスタ基板（１０）に係る。記録層は、成長優位の位相変化材料を有し、その化学剤に対する化学的特性は、記録層上に光を投射することによってもたらされる位相変化によって変えられ得る。トラッキングする目的に対して、基板層は、プレグルーブ（１６）を有する。本発明は更に、高密度凹凸構造をレプリカするスタンパを作る方法に係る。

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【課題】原盤表面に対するフォトレジスト層の密着性を高めた光ディスク用原盤を得る。
【解決手段】表面研磨・洗浄したガラス板１１の表面に、感光性を有さないが原盤表面に対する密着性を有し、かつフォトレジストと混合しないがフォトレジストに対し親和性を有する水溶性樹脂層１２を形成する。この水溶性樹脂層を形成するために、ＰＶＡ水溶液をガラス板１１上にスピンコートし、この塗膜を加熱・乾燥する。この水溶性樹脂層上にフォトレジストの微細溝パターン１４を所定の方法で形成した後、ポストベークを行うことなくこのパターン上にニッケル導電皮膜１５を真空蒸着法により形成して光ディスク用原盤１０とする。この導電皮膜上にニッケル盤を電鋳した後、これを原盤から剥離し、所定の後加工を施して光ディスク用スタンパとする。 （もっと読む）

【課題】 同一原盤上に形成されるピット及びグルーブの形状を簡便にコントロールすることができる光記録媒体原盤の製造方法の提供。
【解決手段】 （１）基盤上に第１フォトレジスト層、中間層、第２フォトレジスト層を順次積層して二層フォトレジスト原盤を作製する工程と、強度の異なる二種類の露光ビームにより潜像形成を行う露光工程と、フォトレジスト現像と中間層除去を順に二回行う現像工程からなり、一回目の中間層除去の前後に行うフォトレジスト現像の条件が異なるようにすることを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。（２）一回目の中間層除去前と中間層除去後に行う現像の現像時間あるいは現像液濃度が異なるようにする（１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に、所望のように、凹凸を形成することができ、良好なトラッキング特性や良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる光記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】 光記録媒体１は、光透過性基板２と、光透過性基板２上に形成された情報層３と、情報層３上に形成された接着層４と、接着層４上に形成されたダミー基板５を備え、光透過性基板２側からレーザビームが照射されることにより、データが記録および再生されるように構成されている。光透過性基板２の表面には、グルーブ２ａおよびランド２ｂが形成され、ランド２ｂの断面は、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有している。 （もっと読む）

【課題】案内溝付きの微細ピットパターン、およびそれを利用した読取専用光ディスク原盤を製造する際、ごく微細なピットから大きなピットまでの複数の大きさのピットを、読み取り時に判別可能な面積差で精細に形成することを可能にする。
【解決手段】原盤であるガラス板１１に、案内溝４’を連続して形成し、該案内溝４’内のそれぞれに面積の異なる微細ピット３’を形成し、多値記録方式においても微小な面積差をはっきりと判別可能なシャープなピットと、トラッキング外れを防ぐことができる案内溝とを同時に形成することができる読取専用光ディスク原盤の製造を可能にする。 （もっと読む）