【課題】試料の所望の領域の所望の層を短時間で一括加工し、荷電粒子線による検査、解析、微細加工等を実現する荷電粒子線装置を提供する。数百ミクロン以上の所望領域を高速に一括加工可能な機能が従来の荷電粒子線装置には無かった。
【解決手段】荷電粒子線装置内にプラズマのガス供給源とプラズマ電源に繋がった電極を所望領域近傍に設置できる構成とし、局所的なプラズマ加工と荷電粒子線による検査、解析、微細加工等の複合機能を実現する。 （もっと読む）

【課題】全てのフィーチャーの解像度を高め、かつ、安価で簡単に実現することができる解像度向上方法を提供する。
【解決手段】半導体デバイス又はリソグラフ用マスクのような製品を製造するためのリソグラフ方法において、基板上に材料を塗布し、パターン付けし、パターン付層を用いる一連のステップにより製品を製造する。所望のパターンは第１のパターンの像をエネルギー感受性材料層中に描画することにより生成される。この像を現像し第１のパターンを生成する。第２の像を、第１のパターン上に形成されたエネルギー感受性材料層中に形成する。第２の像を現像する。所望のパターンを第１のパターン及び第２のパターンから現像する。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルやＰＤＰ、ＬＣＤやＥＬディスプレイ材料、太陽電池の透明電極や裏面電極、ハイブリッド型太陽電池の透明中間層、化合物半導体高速デバイスに用いる低誘電率膜、表面弾性波素子、赤外線カットなどを目的として、基材の両面に透明電極が形成された透明導電膜のパターニングの方法を提供する。
【解決手段】基材１の両面に透明電極層２，３が形成された透明導電膜のパターニングにおいて、ＹＡＧまたはＹＶＯ₄レーザー４の基本波または第２高調波を用いることで、片面のみの精度の高いパターニングが可能となる。 （もっと読む）

【課題】透明電極と金属電極との位置精度を向上させ、画像表示性能に優れた表示デバイスを低コストで実現する。
【解決手段】基板１上に透明電極と金属電極とが順次形成された映像表示装置の製造方法であって、基板１上に透明電極形成層２を形成するステップと、その後、透明電極形成層２の上に金属電極６をパターニング形成するステップと、その後、透明電極形成層２を所定パターンの透明電極９にパターニング形成するステップとを含み、透明電極形成層２をレーザーアブレーション法によりパターンニングする。 （もっと読む）

プラズマ処理装置、及び基板表面の処理方法。処理空間（５）を有し、処理空間（５）において、大気圧プラズマを発生させるために、第一電極（２）、第二電極（３）及び第一電極（２）と第二電極（３）とに接続したパワーサプライ（１１）を含む、誘電体バリア放電電極構造を提供する。プラズマ処理装置は、少なくとも第一電極（２）の表面に提供された磁気層（６）をさらに備える。第一電極（２）は、作動中に、処理される基板（１）、及び基板（１）と接触し、磁気層と相互作用するマスクデバイス（７）を支えるように配置される。
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【課題】複数の処理室でのウエハ処理にぽいて、ウエハ面内の不均一を良くすることができ、処理の効率や歩留まりを向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】減圧された内部に配置された処理対象の基板状の試料を処理可能な処理室を備えた複数の真空容器と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも１つの搬送装置と、前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えた真空処理装置であって、前記位置合せ装置が、前記試料に施される処理に応じて異なる位置に前記試料を位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】 パターンの密度に関係なく、エッチングによる反応生成物がマスク材料の側壁に付着することを抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体装置の製造方法は、所望の目標パターンにパターニングされるべきマスク材料７０、８０を下地材料１０上に堆積し、目標パターンを含みかつそれよりも広い予備パターンにマスク材料をパターニングし、目標パターンにマスク材料をパターニングし、マスク材料をマスクとして用いて下地材料を処理することを具備する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ等の基材の外周部の不要物を反応性ガスにて除去する際、反応効率を向上させ、ガス所要量を低減する。
【解決手段】
基材Ｗの外周部を、ガス案内部材３０の差し込み口３０ｂに差し込み、差し込み口３０ｂの奥に形成された案内路３０ａに位置させる。案内路３０ａは、基材Ｗの外周部を包むようにして周方向に延びている。この案内路３０ａに不要物除去のための反応性ガスを導入し、案内路３０ａの延び方向すなわち基材Ｗの外周部に沿って流す。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントによるパターニングのアライメント可能な微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法を提供する。
【解決手段】 ナノインプリントのモールドを、光等を透過可能なモールド基板に設け、このモールド基板に位置参照用のマークを設ける。ウェハにも、モールド基板のマークに対応したマークを形成する。モールド基板でのモールドの位置決めを精度良く行うために、ナノインプリントのモールドは、モールド基板にマークを形成した後に、マーク位置を参照して形成する。モールド基板にモールドとマークを形成することによって、ウェハ上側から、光等によってモールド基板を透過してモールド基板のマークとウェハのマークを同時に観察・参照することでウェハとモールドとの相対位置をアライメントする。 （もっと読む）