【課題】
従来技術による保管装置の荷物搬入出用ポートは、保管棚部に隣接した専用スペースを設けて設置されるため、保管棚部から突出し、ポートの上方および下方には無駄空間が形成される。
【解決手段】
ストッカ１の側面にポート２を設け、ストッカ１へのＦＯＵＰ４の搬入出はこのポート２を介して実行する。ポート２の上方および下方にはＦＯＵＰ収納用棚セグメント３３が設けられおり、ポート２は見掛け上、棚セグメント３３の1つがポートに置換されただけの様相をなし、ポートとしての突出部が無い。
ポート２は内側面シャッタ機構８０、外側面シャッタ機構８１とＦＯＵＰを載置するステージ３０より構成される。内側面シャッタ機構８０はシート部材１１で構成される内側シャッタの開閉動作を司り、外側面シャッタ機構８１はシート部材２１で構成される外側シャッタの開閉動作を司る。 （もっと読む）

【課題】複数カテゴリのいずれか一つに割り当てられるようにしたデバイスをハンドリングする装置および方法を開示する。
【解決手段】上記装置は、垂直経路に沿ってトレイ群を移動させるようにした昇降機、当該トレイ群のトレイを選択的に固定し、当該固定されたトレイの上方に配置された追加トレイと当該固定トレイを支持するようにしたロッキング機構、および、一定の垂直位置に配置され、単数または複数のトレイを支持するための支持機構を有し、垂直経路の内外を水平移動するようにしたトレイロードアームを有する。 （もっと読む）

リフトアセンブリは基板を基板サポートから持ち上げ、かつ該基板を移送することができる。該リフトアセンブリは、該基板サポートの周辺に嵌合するようにサイズ設定されたフープと、該フープ上に搭載された１対のアーチ状フィンとを有しており、各アーチ状フィンは半径方向内側に延びる出っ張りを有する１対の対向端を備えており、各出っ張りは基板を持ち上げるための隆起した突起を有しており、該基板は実質的に該隆起した突起のみに接触して、該１対のフィンが該基板サポートから該基板を持ち上げるのに使用される場合に、該出っ張りとの接触を最小化することができる。該リフトアセンブリおよび他のプロセスチャンバコンポーネントは、（i）炭素および水素と（ii）シリコンおよび酸素の相互リンクネットワークを有するダイアモンド状コーティングを有することができる。該ダイアモンド状コーティングは、約０．３未満の摩擦係数と、少なくとも約８ＧＰａの硬度と、約５×１０^１２原子／ｃｍ^２未満の金属の金属濃度レベルとを有する接触表面を有する。該接触表面は、直接的または間接的に基板に接触する場合に、基板の汚染を削減する。 （もっと読む）

本発明のフークハンドリング装置は、ワークを載せるトレイを担持すると共に所定方向に往復動自在な可動テーブル（２１）、ワークに対して所定の処理を施す処理部（３０）を略中央に挟むようにしてトレイと処理部との間で往復動自在に配置され，かつ，ワークを搬送するべく水平方向及び鉛直方向に駆動される関節型アーム（４１０）及びその先端に設けら
れた複数の吸着ヘッド（４２０）をそれぞれ有する一対のハンドラ（４０，４０’）、一対のハンドラ及び可動テーブルを駆動制御する制御ユニット（７０）を備え、制御ユニットは、トレイから処理部への未処理ワークの搬入動作及び処理部からトレイへの処理済みワークの搬出動作の両動作を，一対のハンドラにそれぞれ行わせるように駆動制御する。これにより、装置が完全に停止するのを防止できる。
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【課題】占有スペースやコストを大幅に削減することができ、しかもスループットを向上させることが可能な被処理体の処理システムを提供する。
【解決手段】第１の大気圧搬送室４と、第１の大気圧搬送室内に設けられた第１の搬送機構２０と、第１の大気圧搬送室にロードロック室を介して直交するように設けた第１の真空搬送室６と、第１の真空搬送室内に設けた第２の搬送機構３６と、第１の大気圧搬送室に接続した大気圧バッファ搬送室８と、大気圧バッファ搬送室内に設けたバッファ用搬送機構４４と、大気圧バッファ搬室に直列に接続した第２の大気圧搬送室１０と、第２の大気圧搬送室内に設けた第３の搬送機構５４と、第１の真空搬送室に接続した真空処理室１２Ａ〜１２Ｃと、第２の大気圧搬送室にロードロック室を介して接続した真空処理室１２Ｄ、１２Ｅとを備えて処理システムを形成する。 （もっと読む）

【課題】基板を処理する処理槽と、処理槽に沿って設けられた搬送路と、搬送路上を移動して基板を搬送する基板搬送装置とからなる基板処理装置で、基板処理装置の設置面積を拡大することなく、基板処理のスループットを向上することが可能な基板処理装置及び基板処理装置における基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】同一搬送路上を移動可能な少なくとも２以上の基板搬送装置を具備し、基板を搬送する前記基板搬送装置は、互いに複数の処理槽を重複して移動可能するようにする。また、スケジューラにより生成されたスケジューリングデータで同時に複数の処理槽での基板搬送が生じた場合には、基板搬送分担処理条件と照合してスケジューリングデータを決定するようにする。 （もっと読む）

【課題】 占有スペースをそれ程大きくすることなく、簡単なプロセスを含めた多種多様な処理を行う。
【解決手段】 被処理体Ｗに対して所定の処理を行う複数の処理装置３２Ａ〜３２Ｆと、前記複数の処理装置に共通に接続された共通搬送室３４と、前記共通搬送室内に設けられて前記処理装置との間で前記被処理体を搬送するための第１及び第２の２つの搬送手段４０、４２と、前記共通搬送室内であって前記２つの搬送手段のそれぞれの搬送範囲が重なる範囲内に設置されて、両側がゲートバルブ５８Ａ、５８Ｂによって開閉されて密閉空間となるバッファ部５０、５２と、前記共通搬送室に接続されて真空引き可能になされたロードロック室３６Ａ、３６Ｂと、前記ロードロック室に接続された導入側搬送室３８と、前記導入側搬送室内に設けられて、前記被処理体を複数収容するカセットと前記ロードロック室との間で前記被処理体を搬送する導入側搬送手段１２４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 ティーチング基準位置における位置合わせを、精度良く且つ効率的に行なうことができる搬送システムの搬送位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 被搬送体Ｗを保持するフォーク４８を有する搬送アーム部２０と、この搬送アーム部を移動させる移動機構３０と、搬送アーム部の移動エリア内に配置された少なくとも１つ以上の容器載置台２４と、被搬送体の偏心量と偏心方向と切り欠き目印６４の回転位置を光学的センサ６２により検出する方向位置決め装置３６と、全体の動作を制御する制御部７２とを備えて位置合わせを行なう搬送システムの搬送位置合わせ方法において、マニュアルにより被搬送体を正確に位置合わせして載置したり、被搬送体を受け取りに行き、これを方向位置決め装置に搬送してその偏心量或いは切り欠き目印の回転誤差を求めることにより真に正しい適正位置座標を得ることができる。 （もっと読む）