【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器３２内にて載置台３８上に載置された被処理体Ｗに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構６０と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材４４と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段６４とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 （もっと読む）

【課題】 高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれも生ずることのない被処理体の搬送機構を提供する。
【解決手段】 薄い板状の被処理体Ｗを搬送するために比較的長い共通搬送エリア６内に設けられた搬送機構４０において、前記共通搬送エリアの長手方向に沿って設けられる案内レール４２と、前記案内レールに沿って移動可能になされた移動体４４Ａと、前記移動体に設けられて、前記被処理体の周縁部の下側角部に係合される断面Ｌ字状の係合段部８２，８４を有する複数の被処理体支持支柱８０とを備える。これにより、被処理体を上記係合段部により保持することにより、高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれが生ずることも防止する。 （もっと読む）

【課題】 パーティクルやダストがウエハの裏面に付着し難いようにしたエッチング装置を提供する。
【解決手段】 本エッチング装置は、ウエハを上面で支持して、下部ステージを貫通して昇降するウエハ支持板３０と、ウエハ支持板を昇降させる昇降機構とを備え、ウエハ支持板の上面にウエハを載せ、次いでウエハを載せたウエハ支持板を昇降機構により一旦押し上げ、次いで下降して、下部ステージのウエハ載置面にウエハを載置し、ウエハにドライエッチング処理を施す。ウエハ支持板３０は、ウエハを先端で支持する高さ２ｍｍの５個の突起部３２を、ウエハ支持板３０の上面に等間隔に離隔して有する。 （もっと読む）