Fターム[5F045DC00]の内容
気相成長(金属層を除く) (114,827) | 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長 (341)
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プラズマ溶射デバイス、およびプラズマ・ガス流内に液体前駆体を導入するための方法
【課題】溶射プロセスにおいて液体前駆体をプラズマ・トーチのプラズマ・ガス流内に完全に浸透させること。
【解決手段】プラズマ溶射デバイス1は、加熱区域6内でプラズマ・ガス5を加熱するためのプラズマ・トーチ4を含み、このプラズマ・トーチ4は、プラズマ・ガス流8を生成するためのノズル本体7を含み、且つこのノズル本体7を通って中心長手方向軸線10に沿って延びるアパーチャ9を有している。アパーチャ9は、プラズマ・ガス5用の入口12を有する収束セクション11と、アパーチャの最小断面領域を含むスロート・セクション13と、プラズマ・ガス流8用の出口15を有する発散セクション14とを有し、導入管16が、プラズマ・ガス流8内に液体前駆体17を導入するために提供される。本発明によれば、浸透手段18、182が、プラズマ・ガス流8内部に液体前駆体17を浸透させるために提供される。
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