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Fターム[5F045DC00]の内容

気相成長(金属層を除く) (114,827) | 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長 (341)

Fターム[5F045DC00]の下位に属するFターム

2層
3層
4層以上
選択成長層
2層 (71)
3層 (26)
4層以上 (20)
組成 (42)
絶縁体成長層の物性 (159)
絶縁体層の選択成長 (22)

Fターム[5F045DC00]に分類される特許

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【課題】溶射プロセスにおいて液体前駆体をプラズマ・トーチのプラズマ・ガス流内に完全に浸透させること。
【解決手段】プラズマ溶射デバイス1は、加熱区域6内でプラズマ・ガス5を加熱するためのプラズマ・トーチ4を含み、このプラズマ・トーチ4は、プラズマ・ガス流8を生成するためのノズル本体7を含み、且つこのノズル本体7を通って中心長手方向軸線10に沿って延びるアパーチャ9を有している。アパーチャ9は、プラズマ・ガス5用の入口12を有する収束セクション11と、アパーチャの最小断面領域を含むスロート・セクション13と、プラズマ・ガス流8用の出口15を有する発散セクション14とを有し、導入管16が、プラズマ・ガス流8内に液体前駆体17を導入するために提供される。本発明によれば、浸透手段18、182が、プラズマ・ガス流8内部に液体前駆体17を浸透させるために提供される。 (もっと読む)


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