【解決手段】ヒドロキシナフチル基及び／又はヒドロキシアセナフチレンを有する繰り返し単位と酸によりアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料で基板上に第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に上記レジスト膜を露光、現像し、その後高エネルギー線照射により第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第２のレジスト膜を露光、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料を用い第１パターンを形成後、波長２００nmを超え３２０nm以下の高エネルギー線による架橋反応によりアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に第２のレジスト材料で第２パターンを形成することでパターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行える。 （もっと読む）

【課題】 複数の波長からなる露光光を用いる場合の、フォーカスずれ、及びそれによる生産性の低下を防止する。
【解決手段】 複数の波長からなる露光光を用いて基板を露光する露光装置において、実際の露光に先立って、露光光源へ設定した波長（スペクトル）と、その露光光源が発光した光より得られるスペクトルとの差分を計測する。実際の露光は、露光パラメータに基づいて算出される露光波長指令値に、計測した差分を加減算することにより、露光光源へ設定する波長指令値を修正して行う。 （もっと読む）

【課題】レーザビームの利用効率を向上させると共に、ＤＭＤにおける迷光の影響を排除し、均一なビームスポットで照射パターンを形成することのできるレーザ照射装置及びレーザ照射方法を提供する。
【解決手段】レーザ照射装置は少なくともレーザ発振器と回折光学素子と微少なミラーが二次元的に多数並べられた光学素子とを有し、該レーザ発振器から射出したレーザビームは回折光学素子によって複数のレーザビームに分割され、該レーザビームは複数のマイクロミラーにおいて偏向される。また、該前記複数に分割されたレーザビームのそれぞれは互いに等しいエネルギーを有する。 （もっと読む）

【課題】所望寸法の転写パターンを精度良く形成できるようにする。
【解決手段】半導体装置の製造方法を、異なるマスク基板上に異なるパターン１Ａ，１Ｂを有する複数のマスクを用いて多重露光を行なって、幅又は角度が変化するラインを含む転写パターンを形成する工程を含むものとする。 （もっと読む）

特定の実施形態においては、集積回路構成要素を形成する方法が提供されている。第１のタイプの集積回路構成要素に対応する第１のジオメトリを有する第１のマスク構成要素を含む第１のフォトマスクが形成される。第１のリソグラフィ・プロセスを実施して、半導体ウェーハ上の第１のダイ上の第１の位置に第１のフォトマスクの第１のマスク構成要素の第１のジオメトリを転写して、第１のダイ上に第１のタイプの集積回路構成要素の第１の集積回路構成要素を形成する。第２のリソグラフィ・プロセスを実施して、半導体ウェーハ上の第１のダイ上の第２の位置に第１のフォトマスクの第１のマスク構成要素の第１のジオメトリを転写して、第１のダイ上に第１のタイプの集積回路構成要素の第２の集積回路構成要素を形成する。
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【課題】 基板とレジスト層との間に設けることで、エキシマレーザー光などの短波長光を光源としても、パターン下部に発生する裾引きやくびれなどの現象を起こすことなく、断面形状が矩形のレジストパターンを与えるリソグラフィー用下地材を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも２個有する含窒素化合物、（Ｂ）脂肪族カルボン酸又はスルホン酸、アルキルベンゼンカルボン酸又はスルホン酸及び無機硫黄酸の中から選ばれた少なくとも１種の酸、及び（Ｃ）吸光性化合物を組み合わせて、リソグラフィー用下地材とする。 （もっと読む）