【課題】実デバイスパターンの像位置を高速かつ高精度に推定あるいは決定するために有利な技術を提供する。
【解決手段】原版Ｒまたは原版ステージ２１には、互いに異なる複数のパターンが互いに異なる領域に配置されてなる第１計測パターン２３が設けられ、計測器は、前記第１計測パターン２３を投影光学系３０の投影倍率に応じて縮小した第２計測パターン５１と、前記第１計測パターン２３および前記投影光学系３０を透過し更に前記第２計測パターン５１を透過した光を検出するセンサ５２とを含み、制御部７０は、前記第１計測パターン２３の照明領域を前記原版に応じて決定し、決定された前記照明領域における前記第１計測パターン２３を照明して基板ステージ４１を移動させながら得られた前記センサ５２の出力に基づいて、前記投影光学系３０によって形成される前記照明領域における前記第１計測パターン２３の像の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】計測装置のうち光学系の像面側に配置する部分の構成を簡素化して、光学系の光学特性を計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面側に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａからの反射光を投影光学系ＰＬ及びＬ＆Ｓパターン２１Ａを介して受光する受光系３０と、を備え、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａの像とＬ＆Ｓパターン２３Ａとを相対移動したときに受光系３０から得られる検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの結像特性を求める。 （もっと読む）

【課題】被検光学系の開口数が大きい場合にも、被検光学系の光学特性を正確に計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａを通過した光の開き角を小さくする蛍光膜２４と、蛍光膜２４を通過した光を集光して検出するコンデンサーレンズ３２Ａ〜３２Ｅ及び光電検出器３３Ａ〜３３Ｅと、光電検出器３２Ａ〜３３Ｅの検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの光学特性を求める計測部１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】 小型であり、低額化可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 上面にアライメントマーク４２が形成されている半導体ウエハ４０に対して露光を行う露光装置１０であって、半導体ウエハが載置されるステージ１２と、ステージを移動させる移動手段１３と、光を照射する投光手段２６と、投光手段が照射した光を、ステージの側面に向かう光と、ステージの上面に向かう光とに分光する分光手段３２、３６と、ステージの側面に向かう光の反射光を検出することにより、ステージの位置を検出する位置検出手段２６と、ステージの上面に向かう光が半導体ウエハのアライメントマークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出する散乱光検出手段３０を有する。 （もっと読む）

【課題】パルス発光時における実際の基板ステージの位置と、位置制御システムが取り込んだ基板ステージの位置とが一致しない。
【解決手段】パルス光源の発光タイミングと計測結果の取り込みタイミングとの時間間隔に基づいて計測結果を補正することによって前記発光タイミングにおける基板ステージおよび原版ステージのうち前記一方のステージの位置を決定し、該決定した位置に基づいて第１マークと第２マークとの位置関係を検出する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを１台の撮像装置で撮像可能とする。
【解決手段】 マスクステージ１８は、マスクステージマーク２０を備え、マスク１６を支持する。ウェハステージ３２は、ウェハステージマーク４２を備え、ウェハ３０を支持する。撮像装置４８は、マスクステージマーク２０が撮像可能となる状態と、ウェハステージマーク４２が撮像可能な状態とに切替えられる。制御部４０は、撮像装置４８によって撮像されたマスクステージマーク２０の位置情報とウェハステージマーク４２の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。露光装置は、投影光学系が配置される第１領域と、第１領域と異なる第２領域とを含む所定領域内で、基板を載置して移動可能な第１ステージと、所定領域内で移動可能な第２ステージと、第１、第２ステージをそれぞれ第１、第２領域の一方から他方に移動するとともに、所定領域内で第１、第２ステージを独立に移動するリニアモータシステムと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１ステージとの間に液浸領域が維持される第１状態と、投影光学系と第２ステージとの間に液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、リニアモータシステムによって、投影光学系の下方で第１、第２ステージを移動する制御システムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の基準座標系相互間のずれを較正する。
【解決手段】 ステージＷＳＴ１上に搭載された４つのヘッド６０_１〜６０_４のうち、互いに異なる１つのヘッドを含む３つのヘッドが属する第１ヘッド群と第２ヘッド群とに含まれるヘッドがスケール板上の対応する領域に対向する領域Ａ_０内で、第１ヘッド群を用いて得られる位置情報に基づいてステージＷＳＴ１を駆動するとともに、第１及び第２ヘッド群を用いて得られる位置情報を用いて対応する第１及び第２基準座標系Ｃ_１，Ｃ_２間のずれ（位置、回転、スケーリングのずれ）を求める。その結果を用いて第２ヘッド群を用いて得られる計測結果を補正することにより、第１及び第２基準座標系Ｃ_１，Ｃ_２間のずれが較正され、４つのヘッド６０_１〜６０_４のそれぞれが対向するスケール板上の領域の相互間のずれに伴う計測誤差が修正される。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構でマスクと基板ステージとの位置関係情報を高精度に計測する。
【解決手段】マスクアライメント系１２Ａであって、マスクＭＡに形成されたマスクマーク１５Ａ，１５Ｂのうちのマスクマーク１５Ａを照明する照明系と、プレートステージＰＳＴに設けられ、基準マーク２７Ａ，２７Ｂが形成された基準マーク部材２６と、基準マーク２７Ａの形成面と基準マーク２７Ｂの形成面とを光学的に共役にするリレー光学系２９Ａと、マスクマーク１５Ａ，１５Ｂ及び基準マーク２７Ａ，２７Ｂの像を共通の撮像面で検出する撮像ユニット１４Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】
例えば、ステージの移動中のアライメント計測が可能でスループットの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
基板（３６）を保持して移動するステージ（３０）と、前記ステージ（３０）上のマーク（６１）の像を検出するラインセンサ（６０ａ，６０ｂ）と、前記ラインセンサ（６０ａ，６０ｂ）の長手方向と直交する方向に前記ステージ（３０）を移動させながら前記ラインセンサ（６０ａ，６０ｂ）により前記像を検出するように前記ステージ（３０）および前記ラインセンサ（６０ａ，６０ｂ）を制御し、前記ラインセンサ（６０ａ，６０ｂ）の出力に基づいて、前記ステージ（３０）上の前記マーク（６１）の位置を算出する処理部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】 ２波長露光など、誤計測要因が発生する状態において高精度な像面計測、ベストフォーカス計測、アライメント原点補正を可能にする。
【解決手段】 ２波長露光において、露光時と同様に2波長発振状態にてTTLキャリブレーション計測を行い、特に、露光領域内の軸外パターンでのフォーカス検出を行う際には、レンズ開口の法線方向（サジタル方向）パターンを用いてフォーカス位置を検出することで倍率色収差による像のにじみの影響を無くしたものである。さらに、単一波長露光時と２波長露光時のそれぞれにおいて最適なキャリブレーション計測チャートを選択する。
また、二波長露光における倍率色収差の影響のみに限定するものではなく、distやコマ、テレセン度などフォーカスにより像シフトが起こり計測誤差が発生する場合でも同様な構成手法により誤差量を減らすことが出来る。 （もっと読む）

【課題】液体を、液浸リソグラフィシステムのレンズとウェハテーブルアセンブリの間に実質的に閉じ込めることを可能とするための方法及び装置が開示される。
【解決手段】本発明の一態様に従えば、露光装置はレンズとウェハテーブルアセンブリを含む。ウェハテーブルアセンブリは上面を有し、ウェハを支持して、レンズ及び少なくとも１つのコンポーネントに対して動かされるように配置されている。ウェハの上面とコンポーネントの上面は各々、ウェハテーブルアセンブリの上面とほぼ同じ高さである。ウェハの上面、ウェハテーブルアセンブリの上面及び少なくとも一つのコンポーネントの上面を含むウェハテーブルアセンブリの全上面は、実質的に平面状である。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】露光光の強度が大きいか又は露光時間が長い場合にも高い重ね合わせ精度を得る。
【解決手段】露光用の照明光ＩＬでレチクルＲのパターンを照明し、照明光ＩＬでそのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光方法において、空間像計測系３４でレチクルＲのパターンの像の位置を計測し、そのパターンの像の位置の変動量をレチクルステージＲＳＴの温度情報から予測し、この予測結果に基づいてそのパターンの像とウエハＷとの位置合わせ情報を補正する。 （もっと読む）

【課題】露光装置のチャンバーの内部と外部との間に温度差が存在する場合においても、より正確に投影光学系の投影倍率を補正する。
【解決手段】露光装置は、チャンバーの内部で原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。露光装置は、前記原版の変形量を求めるための計測を行う計測部と、前記チャンバーの内部の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量と前記原版が露光光を受ける時間との関係を示す情報と、前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、前記原版が露光光を受ける時間とに基づいて、前記原版の予測変形量を演算し、前記予測変形量を補正するように前記投影光学系の投影倍率を補正する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】原版と基板との位置合わせの正確度または精度への迷光の影響を軽減する露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版１１の位置を表す原版基準マークと基板３１の位置を表す基板基準マークのそれぞれに含まれ、ＸＹ方向に延びる二種類のマーク部を、投影光学系２０を介して同時に、ＸＹ方向の各々に対応する二種類の検出部を使用して検出する検出器４０と、迷光成分を検出器４０の検出結果から除去した後のピーク位置に基板ステージ３２を移動することによって原版１１と基板３１とをＸＹ平面内で位置合わせする制御部５０と、を有する露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】移動体の正確な速度を取得可能とする干渉計システム、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体に固定され、第１光屈折率を有する第１導波部と、前記移動体に固定され、前記第１光屈折率とは異なる第２光屈折率を有する第２導波部と、前記第１導波部を通過した第１電磁波と、当該第１電磁波と同一波長を有し前記第２導波部を通過した第２電磁波とを干渉させる干渉部と、前記干渉部で生じる干渉波を用いて前記第１電磁波と前記第２電磁波との位相差を検出する検出装置と、検出された前記位相差を用いて前記移動体の移動速度に関する情報を取得する速度取得装置とを備える。 （もっと読む）