【課題】被検光学系の開口数が大きい場合にも、被検光学系の光学特性を正確に計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａを通過した光の開き角を小さくする蛍光膜２４と、蛍光膜２４を通過した光を集光して検出するコンデンサーレンズ３２Ａ〜３２Ｅ及び光電検出器３３Ａ〜３３Ｅと、光電検出器３２Ａ〜３３Ｅの検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの光学特性を求める計測部１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】原版と基板との位置合わせの正確度または精度への迷光の影響を軽減する露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版１１の位置を表す原版基準マークと基板３１の位置を表す基板基準マークのそれぞれに含まれ、ＸＹ方向に延びる二種類のマーク部を、投影光学系２０を介して同時に、ＸＹ方向の各々に対応する二種類の検出部を使用して検出する検出器４０と、迷光成分を検出器４０の検出結果から除去した後のピーク位置に基板ステージ３２を移動することによって原版１１と基板３１とをＸＹ平面内で位置合わせする制御部５０と、を有する露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】物体面に配置されたレチクルのパターンを像面に配置された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を保持するステージに配置された位相シフト型のマークと、前記物体面又は前記物体面と光学的に共役な位置に配置され、前記投影光学系を介して前記マークの像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子で撮像された前記マークの像のうち一対のエッジ部によって形成されるエッジ像の間隔に基づいて、前記マークの前記投影光学系の光軸方向の位置を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 押印装置に含まれるＸ−ＹステージのＸ−Ｙ面におけるストロークの低減。
【解決手段】 ショットに樹脂のパターンを形成する押印装置であって、Ｘ−Ｙステージ上に設けられた基準マークと、モールドに形成されたモールドマークと基準マークとの間のＸ−Ｙ平面における位置ずれを計測するための第１のスコープと、モールドマークを介さずに、基板に形成された基板マークのＸ−Ｙ平面における位置を計測するための第２のスコープと、ショットに液状樹脂を配するディスペンサと、を有し、Ｘ−Ｙ平面において、ディスペンサの中心は、モールドチャックの中心に対して第１の距離（＞０）だけある方向にずれた位置に配置され、第２のスコープの中心は、ディスペンサの中心に対して第１の距離の２倍よりは小さい距離だけ前記方向またはその逆の方向にずれた位置に配置されている、ものとする。 （もっと読む）

【課題】生産の流れを阻害することなく、露光装置による描画を精度よくモニタリングし、そのデータから校正用データを抽出し、該露光装置にフィードバックスするマスクレス露光方法を提供する。
【解決手段】第１方向に走査し、該第１方向に交差する第２方向に走査領域がずらされた後、該第２方向に重なり部分を有するように第１方向に走査することによって、重なり部分を有して隣接する一対の走査領域であって、前記重なり部分の近傍に前記回路パターンと異なる複数のマークを露光し、前記マークは、少なくとも前記重なり部分の一方の側に２個および他方の側に２個で１セットをなすマークで構成され、これら複数のマークの距離のずれの計測によって、互いに隣接する走査領域の前記第１方向と第２方向のずれと前記第１方向に対する前記投影光学系の露光光の傾き及び走査露光中に発生したステージのヨーイング角を解析し、この結果から校正データを得る。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の収差を計測するために使用する収差計測用パターンを短時間で位置合わせしうる露光装置を提供する。
【解決手段】第１のマスク２０に配置された第１の収差計測用パターンと位置合わせさせるための第３のパターン、第２のマスク１０に配置された第２の収差計測用パターンと位置合わせさせるための第４のパターン、第１の収差計測用パターンと第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるために、第３のパターンと第４のパターンとの相対位置を検出する検出系と、検出系によって検出された第３のパターンと第４のパターンとの相対位置に基づいて、第３のパターンから一定距離だけ離れた位置に配置されている第１の収差計測用パターンと第４のパターンから一定距離だけ離れた位置に配置されている第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように原版ステージ５及び基板ステージ８の少なくともいずれかを制御する。 （もっと読む）

【課題】 格子またはパターンの製造が容易である測定システムを提供する。
【解決手段】 測定システムは、構造に対するセンサの第１位置量を決定するために測定システムの構造上に配置される第１パターンと協動するように配置され、かつ構造に対するセンサの第２位置量を決定するために構造上に配置される第２パターンと協動するように配置されるセンサを含み、前記第１および第２パターンが、構造の異なる表面上に配置される。 （もっと読む）

【課題】２つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理を交互に行う露光処理工程のスループットを向上する。
【解決手段】一方のウエハステージＷＳＴ１上のウエハに対する露光動作が行われるのと並行して両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の入れ替えのため他方のウエハステージＷＳＴ２が一方のウエハステージの下方に一時的に位置する工程を含むこととすることで、一方のウエハステージ上のウエハに対する露光動作と並行して、他方のウエハステージをその一方のウエハステージの下方に一時的に位置する手順に従った両ウエハステージの入れ替え動作（交換動作）の一部を行うことができる。これにより、一方のウエハステージ上のウエハに対する露光動作が終了した時点から両ウエハステージの入れ替え動作が開始される場合に比べてその入れ替えを短時間で行うことができる。 （もっと読む）

【課題】これまで知られているものより改善した配置精度を有する基板搬送方法および搬送システムを提供する。
【解決手段】本発明は、基板を第１基板ホルダ、例えばプリアライメントユニットから、第２基板ホルダ、例えばリソグラフィ装置内の基板テーブルへ、搬送ユニットによってそれに利用できる搬送データに基づいて搬送する方法に関する。第１に、基板が第１基板ホルダ上に提供される。引き続いて、基板の位置誤差が測定され、位置調整データが測定された位置誤差に基づいて計算される。次いで、第２基板ホルダを位置調整データに従って、それの基準位置に関して移動させる。最後に、基板を搬送データに従って第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送ユニットによって搬送し、移動した第２基板ホルダ上に基板を配置する。 （もっと読む）

【課題】これまで知られているものより改善した配置精度を有する基板搬送方法および搬送システムを提供する。
【解決手段】本発明は、リソグラフィ投影装置において、基板を、第１基板ホルダから第２基板ホルダへ、搬送ユニットによってそれに利用可能な搬送データに基づいて搬送する方法に関する。第２基板ホルダは、複数の第１バールが設けられた表面を含む。この方法では、バール位置データおよび基板位置データが符号化されたメモリが提供される。それにより、基板は第１基板ホルダ上に提供される。その後、基板の位置誤差および方向が測定される。バール位置データ、基板位置データ、および測定された方向に基づいて、方向調整データが計算される。次いで、方向調整データに従って基板の方向が調整される。その後、基板は、第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送ユニットにより搬送され、第２基板ホルダ上に配置される。 （もっと読む）

【課題】物体上の複数のマークを効率的に、かつ高精度に検出する。
【解決手段】複数の検出領域を備えたアライメント系でウエハマークを検出するマーク検出方法であって、第１検出領域ＡＬ１ｆで検出した基準マークＦＭを、基準マークＦＭを備えたステージの位置情報を計測しつつ第２検出領域ＡＬ２₄ｆに移動して、第２検出領域ＡＬ２₄ｆで基準マークＦＭを検出し、検出領域ＡＬ１ｆ，ＡＬ２₄ｆで基準マークＦＭを検出した結果と、位置計測装置からの位置情報とを用いて、検出領域ＡＬ１ｆ，ＡＬ２₄ｆの相対位置情報を求めた後、検出領域ＡＬ１ｆ，ＡＬ２₄ｆで実質的に同時に別の位置のウエハマークを検出する。 （もっと読む）

【課題】基板の露光用の照明条件に起因する計測の精度の過剰な低下を抑える。
【解決手段】露光装置ＥＸは、露光の制御のための計測を原版ステージＲＳに配置された第１マークＲｍと基板ステージＷＳに配置された第２マークｗｍとを使って行なう計測システムＭと、ある照明条件で基板の露光を行なうために計測システムＭによって計測が行なわれる際に当該照明条件とは異なる照明条件を設定可能な制御部ＣＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】イマージョン・リソグラフィ装置内で基板を正確にアライメントし、かつ／又は正確に平準化する方法及び装置を提供すること。
【解決手段】基板表面のマップを測定ステーションで生成する。次いで基板を、投影レンズと基板の間の空間が液体で充填される場所に移動する。次いで、基板を、たとえば透過イメージ・センサを用いてアライメントし、事前のマッピングを用いて基板を正確に露光できる。すなわち、マッピングは液体環境では行われない。 （もっと読む）

【課題】被露光体の位置決め誤差を低減させた露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置１は、被露光体に転写される所定のパターン３１が形成されたレチクル３０と、レチクル３０を照明するための照明装置５０と、照明装置５０により照明されたレチクル３０のパターン３１を被露光体に投影する投影光学系５５とを備え、レチクル３０を回転可能に保持するレチクルステージ３５１と、レチクルステージ３５１を介して、投影光学系５５の光軸Ｏ１を中心にレチクル３０を回転可能に保持するレチクル回転テーブル３５とを設けた。 （もっと読む）

【課題】基準マークの高さを管理し、平面度を確保するのが容易な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、マークが形成されたマーク基板を固定するレチクルステージ１０５を備え、前記マーク基板の裏面を吸着し、前記マーク基板を前記ステージに着脱可能に固定する固定機構１０１をさらに備える。マーク基板ホルダ１０１が、レチクルホルダ１０３と同様の構造により、静電チャックによりマーク基板の裏面全体を吸着するので、マーク基板の自重たわみの影響は十分に低減することが可能である。したがって、マーク基板の平面度が確保される。 （もっと読む）

【課題】 スループットの向上、もしくは露光欠陥を改善する液浸露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 液体が接触する領域を他の部材と受け渡すことが可能なステージを有する走査型の液浸露光装置であって、前記領域を前記部材へ引き渡すために前記ステージに設けられた引き渡し部と、前記ステージと原版の位置合わせをするために前記ステージに設けられた基準マークとを備え、前記引き渡し部は、前記基板の中心を通り走査方向と直交する第１の直線に対して、露光直前に計測される前記基準マークとは反対側に設けられる。 （もっと読む）

【課題】短時間で基板等の被描画体の基準マークの位置を正確に計測する。
【解決手段】回路パターンを描画する描画装置において、Ｙ方向（主走査方向）に沿って移動可能なカメラを配置し、Ｘ方向（副走査方向）に沿って移動可能な基板を搭載する描画テーブルを設ける。そして、基板スケール１６をＹ方向に沿って配置し、基台に対して固定させる。また、カメラ１１に、赤色光Ｌ１、緑色光Ｌ２を選択的に放射する光源ユニット１３を取り付け、カメラ１１の下方に、ダイクロイックミラー１５を設ける。赤色光Ｌ１は、そのまま基板ＳＷに到達しアライメント穴の位置を検出する。緑色光Ｌ２は、反射によって基準スケール１６へ導かれ、ステージ位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの位置および／または移動を、過剰なコストの増加を伴うことなく、広い移動範囲にわたって正確に測定するために使用することができるシステムを提供する。
【解決手段】変位測定システム、詳細には、基準フレームに対するリソグラフィ装置内の基板テーブルの変位を測定するための変位測定システムが提供される。変位測定システムは、基板テーブルに取り付けられた複数の変位センサと、基準フレームに取り付けられた、個々の変位センサと結合したターゲットとを備えている。 （もっと読む）