【課題】反射型マスクの表面平坦度を高める。
【解決手段】マスク保持面で反射型マスク２０を保持するとともに、内部に複数の空隙１１を有する反射型マスク用静電チャック１０と、マスク保持面の表面形状を変化させるために、空隙１１の内部の圧力を制御する圧力制御部と、を有する露光装置を提供する。当該露光装置を用いた半導体装置の製造方法では、反射型マスク２０を反射型マスク用静電チャック１０に保持させた後、空隙１１内の内部圧力を調整して反射型マスク用静電チャック１０の表面形状を変化させることで、反射型マスク２０の表面平坦度を高める。 （もっと読む）

【課題】簡便にＥＵＶマスクの汚染を防止することができる汚染防止装置、汚染防止方法、並びにそれを用いた露光装置、パターン付きウエハの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる汚染防止装置は、波長１６６ｎｍ以下の真空紫外光を発生する光源と、光源からの真空紫外光のビームをＥＵＶ露光装置１０１内に収容されたＥＵＶマスク１０８に対して照射させる光学系（ミラー１０４ａ、１０４ｂ等）と、を備えるものである。光源としては、フッ素分子レーザを出射するレーザ発振器１１０や、アルゴンダイマー、クリプトンダイマー、あるいはフッ素分子からの自然放出増幅光を出射するＶＵＶ−ＡＳＥ発生装置２１０を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】露光ユニットを大気開放することなくレチクルステージを洗浄することができる洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線露光装置のレチクルステージの洗浄方法において、基板上にパーティクル取込層が形成された洗浄用レチクルのパーティクル取込層をレチクルステージに押し付ける工程と、洗浄用レチクルをレチクルステージから剥離する工程と、基板上からパーティクル取込層を除去する工程と、パーティクル取込層が除去された基板上に新たにパーティクル取込層を形成する工程と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下や露光処理等への悪影響を抑制する。
【解決手段】一対の接続部材ＡＭ１１、ＡＭ１２を所定の軸周りに回転自在に接続する関節部ＪＴ１２を有する。関節部は、一対の接続部材を非接触で、所定の軸周り方向に相対的に回転自在、且つ所定の軸と直交する方向への相対移動を拘束するベアリング装置ＢＲ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において、パターニングデバイス及び／又はテーブルを支持する支持構造、並びに、基板を保持する基板テーブルの改良型材料、及び、それらを製造する方法を提供すること。
【解決手段】基板テーブル又はパターニングデバイス支持体はエアロゲルを含む。エアロゲルは極めて軽量であってもよく、例えば、エアロゲルは、０．５〜５００ｍｇ／ｃｍ^３の範囲内、好ましくは１〜１００ｍｇ／ｃｍ^３の範囲内、最も好ましくは１〜１０ｍｇ／ｃｍ^３の範囲内の密度を有していてもよい。エアロゲルは、シリカゲルから作成されていてもよい。シリカゲルから作成されたエアロゲルは１．９ｍｇ／ｃｍ^３の密度を有していてもよく、エアロゲルから空気が排気された場合でも１ｍｇ／ｃｍ^３の密度を有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】基板が使用されている時に、保護カバーの内面が汚染されることを容易、かつ確実に防止する。
【解決手段】露光装置は、チャンバ１３内に配置されるレチクル３７を保持するレチクルステージ１１を備え、レチクル３７に形成されたパターンの像をウエハに露光する。第1搬送部は、レチクル３７が収納される第１カバー部材を保護する第２カバー部材を開いて第１カバー部材を取り出すとともに、第１カバー部材をチャンバ１３内に搬送する。第２搬送部は、チャンバ１３内で、第１カバー部材を開いてレチクル３７を取り出し、レチクル３７をレチクルステージ１１に搬送するとともに、レチクル３７が取り出された第１カバー部材を閉じた状態で保持する。 （もっと読む）

【課題】チャックから原版が離脱したことの判定に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置は、マスク２を介して基板を露光する露光装置であって、マスク２を鉛直下向きに保持する静電チャック１と、静電チャック１から離脱したマスク２を載置するインナーベース３（インナーベースピン４）と、インナーベース３に加えられた鉛直方向の力を検出する荷重センサー７と、インナーベース３を昇降させるマスク昇降部５と、荷重センサー７の出力に基づいてマスク昇降部５の動作を制御する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】配管の柔軟性を維持しつつ、チャンバ内の真空度を信頼性よく確保することができる配管、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】冷媒が内部を流動する第１配管３４と、該第１配管３４の外周面に対して内周面が所定間隔離れた状態で前記第１配管３４の外側を覆う第２配管３５と、前記第１配管３４の外周面と前記第２配管３５の内周面との間に充填される液体状の水銀と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】処理精度の低下を抑制することが可能な基板処理装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板に対し所定の処理を行う処理装置を有する基板処理装置であって、前記処理装置に接続され、前記処理装置に流体を供給する第一配管と、前記第一配管を内包し、前記処理装置から前記流体を排出する第二配管とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスクの帯電の程度をより確実に低減する露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置は、印加される電圧に応じて原版を保持する保持手段を有し、前記保持手段に保持された原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記保持手段に対して前記原版を昇降させる昇降手段と、前記保持手段および前記昇降手段の少なくとも一方に設けられ、前記原版の少なくとも一部を接地する接地手段と、前記原版が接地されたことを検出する検出手段と、前記検出手段の出力に応じて前記保持手段に印加される電圧を制御する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】外乱の発生を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】物体Ｐを保持して移動する移動体２ａを有する。負圧吸引により移動体に物体を吸着保持させる吸引装置８４と、移動体に温度調整された気体を供給して吸引装置に保持された物体を温度調整可能な温度調整装置ＣＣと、を備える。 （もっと読む）

【課題】レチクルステージの移動中のレチクル滑りを実質的に除去するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】システムは、マスク保持システム、マスク力デバイス、サポート移送デバイスを含む。マスク保持システムは、サポートデバイスおよび保持デバイスを含み、保持デバイスはマスク、例えば、パターンを有するレチクルなどのパターニングデバイスをサポートデバイスに取外し可能に結合する。マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。サポート移送デバイスは、マスクサポートデバイスに結合され、かつマスク力デバイスと同時にマスクサポートデバイスを移動させる。 （もっと読む）

【課題】物体を十分に高い平面度で吸着保持できる物体保持装置を提供する。
【解決手段】物体を保持可能な物体保持装置において、前記物体を静電吸着させる吸着部と、前記吸着部に電圧を印加する電源部と、前記物体と前記吸着部とに流れる漏れ電流を検出する検出部と、前記漏れ電流の変化率に基づいて、前記物体の前記吸着部に対する吸着状態を判定する制御部と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】省スペース化及び低コスト化を図ることができる温調装置、温調方法、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】物体の温調を行う温調装置であって、前記物体に熱的に接触された第１空間と、絞り部を介して前記第１空間に接続された第２空間と、前記第２空間から前記第１空間に前記絞り部を介して気体が流通するように前記第１空間及び前記第２空間のうち少なくとも一方の圧力を調整する圧力調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学素子を迅速に且つ複数の方向に移動又は変位させることができる光学素子駆動装置、鏡筒、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子駆動装置４２は、第１ミラー２８の周縁部に配置される３つの駆動装置４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃを備えている。これら各駆動装置４１Ａ〜４１Ｃは、第１ミラー２８の光軸２８ａに平行な第１の方向への第１電磁気力と、前記第１の方向に交差すると共に、第１ミラー２８の周縁部に沿った第２の方向への第２電磁気力とを発生する駆動源４５をそれぞれ有している。 （もっと読む）

【課題】流体流路内から漏出した冷却用流体を好適に検出できる露光装置、光源装置、漏出検出方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置１１は、内部が真空雰囲気に設定される第１チャンバ１２と、光源装置１３から出力される露光光ＥＬが照明されるレチクルＲを保持するレチクルステージ１５と、レチクルＲで反射した露光光ＥＬが照射されるウエハＷを保持するウエハステージ１７とを備えている。また、露光装置１１は、冷却用水を用いて、各ステージ１５，１７の静電チャック２７，３１を冷却する冷却装置３５を備え、該冷却装置３５は、冷却用水に検出用水を混入させ、該混入水を用いて静電チャック２７，３１を冷却させる。さらに、露光装置１１には、検出用水を構成する原子を検出可能な検出装置４５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板にパターン像を露光する際に、基板に形成されるパターンの形成精度の悪化を抑制できる露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置１１においてレチクルＲを保持するレチクルステージ１５は、吸着面４５ａを有する静電チャック４５を備えている。静電チャック４５の吸着面４５ａは、Ｙ軸方向に沿った断面形状が凸状をなすように形成されている。そのため、レチクルＲを吸着面４５ａに静電吸着させる際には、レチクルＲのうち中央部分が最初に吸着面４５ａに静電吸着され、その後、レチクルＲのうち中央部分とは異なる部位が吸着面４５ａに静電吸着される。 （もっと読む）

【課題】非帯電物質である磁性物質の除塵機能をフォトマスクに備え、露光工程中で除塵機能を有する反射型フォトマスクを提供すること。
【解決手段】表面にパターン形成領域を有する反射型フォトマスクにおいて、反射型フォトマスクの裏面に薄膜コイルが形成され、薄膜コイルに電流を流してパターン形成領域に塵埃が付着するのを防ぐよう構成され、表面のパターン形成領域の外周の全部又は一部に第１のヨークを配置され、反射型フォトマスクの側面の全部又は一部に第２のヨークを配置されることを特徴とする反射型フォトマスク。 （もっと読む）

【課題】露光装置
【解決手段】ベース部に支持されつつパターン面に対して他方の面においてパターン形成基板に接してパターン形成基板を支持する弾性支持部、および、パターン形成基板の互いに異なる領域毎に異なる力を他方の面から加えてパターン面を変形させる駆動部を有する保持部と、保持部に保持されたパターン形成基板のパターン面の表面形状を測定して測定データを生成する測定部と、パターン面の目標形状に関する目標データを格納する格納部と、測定データおよび目標データに基づいて、異なる領域毎の駆動部を個別に制御することにより、パターン面の表面形状を目標形状に近づける制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】反射率測定パターンにより反射した光強度を検出する。
【解決手段】光反射型マスク１００は、基板１０１上に設けられ、かつ光を反射する反射層１０２と、反射層１０２上に設けられ、かつ光を吸収する吸収層１０５と、吸収層１０５の第１の領域に形成されたデバイスパターンと、吸収層１０５の第２の領域に形成された反射率測定パターンとを含む。そして、反射率測定パターンは、回折格子である。 （もっと読む）