【課題】ＣＴＥが十分に制御されたシリカ・チタニアガラスを提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのＣＴＥを、試料寸法を限定することなく正確に求める方法を提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのＣＴＥを後処理によって制御する方法を提供する。
【解決手段】漏洩弾性表面波速度Ｖ_ＬＳＡＷと仮想温度Ｔｆを本発明に係る式（１）に代入して得られる線膨張係数ＣＴＥが２２℃において−５０ｐｐｂ／Ｋ以上５０ｐｐｂ／Ｋ以下であり、かつ、仮想温度Ｔｆの範囲が７００（℃）≦Ｔｆ≦１３００（℃）であるようにしたシリカ・チタニアガラスである。 （もっと読む）

【課題】高精度な投影パターンを形成するパターン形成基板。
【解決手段】一方の面と他方の面とを有する基体部と、一方の面に形成されたパターンと、一方の面と他方の面との間に設けられ、一方の面内の異なる領域に対して互いに異なる力を加え、一方の面の形状を変形させる駆動部とを備える。駆動部は、異なる領域に対応した複数の圧電素子を有し、圧電素子への印加電圧を独立に制御することにより、一方の面の形状を変形させてもよい。また、駆動部は、異なる領域に対応した複数の発熱素子を有し、発熱素子への通電を独立に制御することにより、一方の面の形状を変形させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 照明領域の場所によらず、形状の均一性の高い有効光源で照明可能な照明光学系を提供すること。
【解決手段】 光源からの光を集光する第１光学ユニット２１１と、母線方向が揃った複数の円筒反射面を備え、第１光学ユニット２１１からの光で複数の線状光源を形成する反射型インテグレータ２１３と、複数の線状光源を挟むように、母線方向に沿って対向配置された一対の平面ミラーで構成される補助ミラー２１４と、複数の線状光源からの光が通過する開口が設けられた開口絞り２１５と、その開口を通過した複数の線状光源それぞれからの光を被照明面上で重ね合わせる第２光学ユニット２１６とを有するよう、照明光学系を構成すること。 （もっと読む）

【課題】寸法誤差が変化する反射型マスクの許容仕様を緩和しつつ、ウエハに転写したパターンの品質を確保できる反射型露光方法を提供する。
【解決手段】反射型露光方法は、反射型マスクに設けられるトレンチマスクまたはホールマスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、当該パターンについてのマスク寸法を計測するステップとを含む。さらに、計測されたマスク寸法のばらつきから求まるマスク寸法誤差のウエハ寸法の影響が所定の値になるように照明光学系の開口数を求めるステップと、求めた照明光学系の開口数にあうように照明光学系のコヒーレンシーを変更するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の清浄において、清浄用のガス供給システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線源からの放射線を収集するように構成され、分離したコンパートメント５０，５１，５２，５３を形成する複数のシェル２０，２１，２２，２３を有するコレクタＣＯと、ガス注入口３０およびガス排出口３２を有し、ガス流を注入口３０からコンパートメント５０，５１，５２，５３を経由して排出口３２に導くことによって、複数のシェル２０，２１，２２，２３の表面を清浄するように構成された清浄装置とを有する。清浄装置は、ガス流を複数の副流４０，４１，４２，４３に分流するように構成された分流システムと、副流４０，４１，４２，４３の相対量を制御するように構成された制御システムとを有し、各副流４０，４１，４２，４３は、コンパートメント５０，５１，５２，５３のうちの１つまたは複数に対応する。 （もっと読む）

【課題】 露光量（照明光の強度）を広範囲に亘って容易、かつ安定して可変できるＥＵＶ露光装置を提供する。
【解決手段】 ＥＵＶ光源１から放出されたのＥＵＶ光が集光する中間結像点７の位置に、絞り８が設けられ、その近傍で、中間結像点７と凹面反射鏡４の間に、ランダムドットフィルタ９が設けられている。ランダムドットフィルタ９は、オプティカルインテグレータ５の前に設けるのがが好ましく、凹面反射鏡４の後面に設けてもよい。ＥＵＶ光源１から放出されたＥＵＶ光は、絞り８とランダムドットフィルタ９とにより減光されて、マスクＭを照明する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置内部でのＸ線の減衰を来たすことなく、優れたパーティクル付着防止効果を発揮できるＥＵＶ露光装置を提供する。
【解決手段】 ガス注入口９を備え、反射型マスク４を収容する低圧ガス充満室２と、低圧ガス充満室２に隣接し、排気口１０ｂを備え、反射型マスク４に入射されると共に反射されるＸ線を通過可能な中間室３とを有している。低圧ガス充満室２の内部と中間室３の内部とは、反射型マスク４に入射されると共に反射されるＸ線を通過可能な第１のスリット部１１ａを介して互いに連通している。 （もっと読む）

【課題】投影光学系鏡筒内のコンタミ物質の分圧を低減することによって光学素子へのコンタミ物質の付着をできるだけ少なくし、光学特性の劣化を抑え、オーバホールまでの寿命を長くした露光装置を提供する。
【解決手段】紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡を有する投影光学系を備えた露光装置であって、投影光学系鏡筒内にコンタミ物質の分圧を低減する手段として、マイクロ波照射器１１１、レーザ光源、紫外線ランプ、放電洗浄用光源、水分又は酸素吸着剤、ガス溜め込み式吸着板、ガス溜め込み式真空ポンプ、ゲッタ材、潮解性物質のいずれかを備える。 （もっと読む）

【課題】自動焦点システムを備えたリソグラフィ機器の提供。
【解決手段】リソグラフィ機器は、放射ビームを提供する照明系と、この放射ビームの断面にパターンを付与して、パターンの付与された放射ビームを形成するパターン付与装置と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板の目標部分にパターンの付与された放射ビームを投影するように配置された複数のミラーを有する投影系とを備え、さらに、ａ）光源と、ｂ）位置感知検出器と、ｃ）光を方向づける構成体とを有する自動焦点システムを備える。この光を方向づける構成体は、光源からの光の第１部分を前記投影系に入射結合させ、光源からの光の第２部分を位置感知検出器に方向づけ、第１部分の光が、投影系を通過して基板に至り、投影系を逆に通過して光を方向づける構成体に戻った後に、第１部分の光を位置感知検出器に方向づける。 （もっと読む）

【課題】 たとえば露光光としてＥＵＶ光を用い且つ反射型のマスクを用いているにもかかわらず、比較的簡素な構成にしたがって感光性基板上における露光量の調整を良好に行うことのできる走査型の露光装置。
【解決手段】 所定のパターンが設けられたマスク（Ｍ）を照明するための照明系と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に形成するための投影光学系（ＰＬ）とを備え、投影光学系に対してマスクおよび感光性基板を所定方向に沿って相対移動させてマスクのパターンを感光性基板上へ投影露光する露光装置。照明系は、パルス発光型の光源（１１）と、マスクに近接した位置に配置されてマスク上における照明領域を規定するための視野絞り（２１）と、視野絞りを通過する光束の一部を遮るための遮光部材とを有する。 （もっと読む）

【課題】 たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。
【解決手段】 第１面（Ｍ）の像を第２面（Ｗ）上に形成する本発明の投影光学系は、第１面と第２面との間の光路中の所定位置に配置されて第２面上の有効結像領域に達するフレア光の分布を所定分布にするための所要の拡散度分布を有する拡散面を備えている。拡散面は、投影光学系の瞳位置から実質的に離れた所定位置に配置された平面反射鏡（Ｍ０）の反射面に形成されている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線露光装置用マスクへの浮遊粒子の付着を抑制するための手段を提供する。
【解決手段】マスクステージ３に保持された静電チャック２にはセラミクス基板中に電極１１が埋め込まれており、電圧をかけることにより、マスク１を下向きに吸着、保持する。そのマスク１の吸着を行う電極１１の周囲に別の電極１２を配置し、電極１１より高い電圧をかけ、マスク１の吸着領域よりもより強い帯電領域を形成させることにより、浮遊粒子を吸着することができる。 （もっと読む）

極短紫外線を射出する光源と、前記光源から射出した極短紫外線をマスクへ導く複数の照明用反射ミラーと、前記マスクで反射する極短紫外線を感応基板上に導き、マスクの像を感応基板上へ投影結像させる複数の投影用反射ミラーと、前記投影用反射ミラーの少なくとも一つと、前記照明用反射ミラーの少なくとも一つを収納する投影系鏡筒とを有することを特徴とする極短紫外線露光装置。これにより、機械的干渉を生じることなく照明系から投影系までの光学系を最適に配置することができる。
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本発明は、所望波長範囲の放射波をある放出方向に発生させる方法に関する。本方法によれば、その波長が該所望範囲を含んでいる初期放射波を放射波供給源により作り出し、この初期放射波を、波長が所望範囲外の初期放射波のビームを実質的に除去するように濾波する。本発明の方法は、初期放射波のビームをその波長に応じて選択的に偏向させて、所望波長のビームを回収するように、初期放射波が通過するコントロール領域においてビームの屈折率の制御された分布を作り上げることにより濾波を行うことを特徴とする。本発明は関連する装置にも関する。
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