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Fターム[5F046GC01]の内容

半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) (57,085) | X線源 (525) | 電子線をターゲットに当てるもの (8)

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【課題】高圧ガス設備の設置許可申請等の手続きを不要とすること等が可能なLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置等を提供する。
【解決手段】このターゲット物質供給装置20は、LPPターゲット物質を出射するための噴射口21aが形成されたスリーブ21と、スリーブ21内に摺動可能に嵌入されたプランジャー22と、プランジャー22を押圧することにより、スリーブ21及びプランジャー22によって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質を加圧して、LPPターゲット物質をスリーブ21の噴射口21aから出射させる押圧装置23とを含む。 (もっと読む)


【課題】市販のインクジェット装置(プリンタ)等の低コストの装置を用いて容易に金属のパターンを製造することができる方法を提供する。
【解決手段】金属化合物溶液13を基体14の表面に付着させることにより金属化合物のパターン16を基体14表面に固定し、次に還元剤17を用いて金属化合物パターン16を還元することにより、固体金属のパターン18を生成する。この方法では、高温の溶融金属を用いた従来法とは異なり、常温で取り扱いが可能な金属化合物溶液13を用いるため、市販のインクジェット装置等を用いて容易に金属パターンを製造することができる。また、還元剤の供給に特別の装置を必要としないため、この点でも装置を低コスト化することができる。更に、基体の材料に対する制約が殆どないため用途に応じた材料を選択することができる。そして、還元後に洗浄処理を行うことが可能であるため、目的の金属のみから成るパターンが得られる。 (もっと読む)


【課題】粒子線とターゲットとの衝突点と、規定された衝突点とのずれが減じられており、ターゲットとの衝突点に関して粒子線の位置安定性も改善されているものを提供する。
【解決手段】互いに垂直な2つの軸線(X軸線及びY軸線)に沿って粒子線を偏向するためのそれぞれの偏向ユニット(26,32)が、次のように形成されている、すなわち、第1の偏向点(20)と第2の偏向点(22)とが、粒子線(12)とターゲットとの規定された、又は規定可能な衝突点(24)と同軸線上に位置しているように形成されているようにした。 (もっと読む)


【課題】 2.3nm−4.4nmの波長を持つ水の窓領域の軟X線を発生する軟X線発生装置であって、小型で安価な軟X線発生装置を提供する。
【解決手段】 電子銃1、ターゲット2、回転装置3、ターゲット容器4からなる軟X線発生装置において、チタンもしくはカルシウムと酸素もしくは窒素とからなる金属−非金属化合物でターゲット2を形成し、電子銃1から4KeV−8KeVの電子ビームを発生してターゲットに照射し軟X線を発生させる。 (もっと読む)


XUV線を発生させかつ放射するための装置(2)は、電気的に帯電した微粒子が衝突の際、XUV線を放出するターゲット(4)を備え、
その際前記ターゲット(4)は基体(18)を有しており、この基体の少なくとも一部は第一皮膜(20)を備え、この皮膜は電気的に帯電した微粒子が衝突の際にXUV線を放射する材料を含んでいる。本発明によれば、第一皮膜(20)に加えて、導電率の高い材料を含んでいる少なくとも一つの第二皮膜(22)が設けられている。
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