【課題】 隙間を液シールで気密化することにより、カップ内の排気効率を高めて基板を清浄度高く処理することができる。
【解決手段】 液盛り後、所定時間が経過すると、上部カップ３５を「処理位置」に移動させると、下部かぎ状片４３の凹部４３ｂに、上部かぎ状片３１の垂下部材２９が僅かな隙間をおいてはまり込む。しかし、凹部４３ｂには純水が貯留して液シールを構成しているので、上部カップ３５の側方から外気が侵入するのを防止することができる。また、純水は凹部４３ｂに溜まるように構成してあるので、純水が容易に漏れ出すことがなく、長時間にわたり液シールを維持することができる。 （もっと読む）

【課題】処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１薬液の供給中において、ＣＰＵ６１は、回転数センサ１６から出力された検出値を監視している（ステップＳ７）。そして、回転センサ１６から出力された検出値が回転数範囲外となると（ステップＳ７でＮＯ）、ＣＰＵ６１は、第１薬液表面側バルブ２３を閉じるとともに、その後の開成を禁止し（ステップＳ９）、その第１薬液表面側バルブ２３の開成が禁止された旨の警報を出力した後（ステップＳ１０）、このインターロック処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】基板裏面の洗い残しや基板汚染を無くし、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、駆動動力の低減を図れるようにする。
【解決手段】基板Ｇを回転可能に保持する回転基台２と、回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された基板の外周部を囲む、基板の表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための助走ステージ３と、回転基台に対して昇降移動可能で、かつ基板を吸着して保持する基板保持台４と、基板保持台に保持された基板の表面に沿って移動して基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド５とを設ける。基板保持台が基板を吸着保持すると共に、第１及び第２の環状シール部材２５ａ，２５ｂを介して基板保持台と助走ステージ及び回転基台が密着して液貯留空間７を形成し、吸着保持の解除及び密着が解除された状態で、回転基台及び助走ステージと共に基板を回転可能にする。 （もっと読む）

【課題】保守作業の容易化および省スペース化が実現されつつ安定に飛散防止部材を昇降させることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板処理装置１００は、基板Ｗを水平に保持するとともに鉛直方向の回転中心線Ｐ周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。スピンチャック２１を取り囲むように、カップ１０が設けられている。カップ１０は、内構成部材１１、中構成部材１２および外構成部材１３からなる。内構成部材１１の下方には、一対の第１昇降機構８１が設けられている。一対の第１昇降機構８１のサーボモータ１１９は、制御部により互いに同期して駆動される。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に供給ノズルから処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、この液処理装置に装着されるカップ体の着脱の容易な液処理装置等を提供する。
【解決手段】ウエハＷに対して例えばレジスト液等の処理液を塗布する塗布ユニット等に適用される液処理装置に適用される液処理装置１において、カップ体保持部３は処理液の飛散を抑えるための筒状のカップ体２を保持し、モータ・シリンダ機構４は装着位置にてカップ体２を保持する第１の位置と、当該第１の位置の略垂直上方であって、他の機器と干渉せずに搬出入可能な位置にてこのカップ体２を保持する第２の位置と、の間でこのカップ体保持部３を昇降させる。 （もっと読む）

【課題】基板の一方面の全域に対して、薬液による処理を均一に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの上面１０の中央部には、高温（たとえば、８０℃）のＡＰＭが供給され、下面１１の中央部には、常温（たとえば、２２〜２３℃）のＤＩＷが供給される。ウエハＷの上面１０にＡＰＭが供給されると、ウエハＷの上面１０の中央部との間で熱交換が行われる。一方で、ウエハＷの下面１１に供給される低温のＤＩＷは、熱交換によりウエハＷの中央部に与えられた熱を受けて、ウエハＷの中央部を冷却する。そして、熱を受けたＤＩＷがウエハＷの中央部から周縁部に向けて流れる。ウエハＷの中央部および周縁部の温度は約４０〜４５℃で拮抗する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの線幅寸法のばらつきを抑制可能とした、レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るレジストパターンの形成方法は、第一基板上にフォトレジストを塗布し、この塗布されたフォトレジストに所定のパターンを露光した後、現像を施すレジストパターンの形成方法であって、前記塗布、前記露光および前記現像の少なくとも１つの工程において、前記第一基板が属するロットの切り替え時に常に、前記ロットが滞在する雰囲気の入れ替えを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス時の作業性が良く、処理ユニットの配置の自由度が高い基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ユニット配置部１０は、最下部に、ケミカルキャビネット１１を備え、この上側であって装置の４隅には、液処理ユニットとして、基板にレジスト被膜を形成する塗布処理ユニットＳＣ1、ＳＣ2と、露光後の基板に現像処理を行う現像処理ユニットＳＤ1、ＳＤ2とが配置されている。さらに、これらの液処理ユニットの上側には、基板に熱処理を行う多段熱処理ユニット２０が装置の前部及び後部に配置されている。なお、装置の前側であって塗布処理ユニットＳＣ1、ＳＣ2の間には、基板処理ユニットとして、基板に純水等の洗浄液を供給して基板を洗浄する洗浄処理ユニットＳＳが配置されている。 （もっと読む）

【課題】フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、排気カップの全周に亘って均一に排気することが可能な液処理装置を提供すること。
【解決手段】回転カップ４をウエハＷと一体的に回転させるように構成するとともに回転カップ４の外側を囲繞するように環状の排液カップ５１を設け、さらにこの排液カップ５１を収容するように同心状に排気カップ５２を設け、排気カップ５２に取り入れられた気体成分の気流がほぼ全周から排気口７０に向けて流れるように気流を調整する気流調整機構９９ａ，９７を設けて、ウエハＷに処理液を供給しながら液処理を行う液処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルおよびミストの基板への付着を防止することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１００は、箱形の処理チャンバ１を備える。この処理チャンバ１の４つの側面には、スリット１ａがそれぞれ設けられている。処理チャンバ１を取り囲むように箱形のハウジング２が設けられている。処理チャンバ１とハウジング２との間に空間ＳＰが形成される。ハウジング２の上部には、空間ＳＰ内にダウンフローを形成するためのファンフィルタユニットＦＦＵが設けられている。ファンフィルタユニットＦＦＵに供給された空気は、当該ファンフィルタユニットＦＦＵにより清浄化され、空間ＳＰに供給される。空間ＳＰに供給された空気は、処理チャンバ１の各スリット１ａを介して当該処理チャンバ１内に供給される。これにより、処理チャンバ１内に竜巻状の気流が発生される。 （もっと読む）

【課題】フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、高温の処理液を用いた場合でも熱膨張による破損が生じ難い液処理装置を提供すること。
【解決手段】回転カップ４をウエハＷと一体的に回転させるように構成するとともに回転カップ４の外側を囲繞するように環状の排液カップ５１を設け、さらにこの排液カップ５１を収容するように同心状に排気カップ５２を設け、排液カップ５１は、その内周部分に排気カップ５２に固定される固定部７２を有するようにし、ウエハＷに処理液を供給しながら液処理を行う液処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】基板へのパーティクルの付着を有効に防止しつつ小型化を達成することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】回転カップ４をウエハＷと一体的に回転させるように構成するとともに回転カップ４の外側を囲繞するように排液カップ５１を設け、ウエハＷに処理液を供給しながら液処理を行う液処理装置を構成する。この液処理装置は、回転カップ４から排出されて排液カップ５１の垂直壁５３ではね返った処理液が回転カップ４と排液カップ５１の間を上昇して形成される上昇流を抑制する上昇流抑制部としての傾斜部７３を有している。 （もっと読む）

【課題】排液カップから速やかに処理液を排出することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能な基板保持部２と、基板保持部２に保持されたウエハＷを囲繞するように環状をなし、ウエハＷとともに回転可能な環状をなす回転カップ４と、回転カップ４および基板保持部２を一体的に回転させる回転機構３と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル５と、回転カップ４に対応した環状をなし、回転カップ４から排出された処理液を受け止め、処理液を排液する排液口６０を有する排液カップ５１と、排液カップ５１の内部に挿入され、回転カップ４の回転にともなって回転することにより排液カップ５１内に旋回流を形成し、その旋回流に随伴させて排液カップ５１内の処理液を排液口６０に導く旋回流形成部材３２ａとを具備する。 （もっと読む）

【課題】 基板を水平に保持して回転する基板保持体の下方において発生する気流が、排気や排液の流れに与える影響を極力低減できる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】 液処理装置１００は、ウエハＷを水平に保持する保持部材１４を有し、ウエハＷとともに回転可能な回転プレート１１と、前記回転プレート１１を回転させる回転モータ３と、ウエハＷに処理液を供給する表面処理液供給ノズル５と、回転プレート１１の回転中心からみて保持部材１４よりも径方向外側に設けられ、前記回転プレート１１の下方に形成される気流を遮蔽する遮蔽壁５５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 排液カップに集められた処理液を速やかに排出できるとともに、基板保持体の裏面側に漏出した処理液についても確実に集液できる液処理装置を提供する。
【解決手段】 液処理装置１００は、ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能な回転プレート１１と、回転プレート１１に保持されたウエハＷを囲繞するように環状をなし、回転するウエハＷから振り切られた処理液を受け止める回転カップ４と、回転プレート１１を回転させる回転モータ３と、ウエハＷに処理液を供給する表面処理液供給ノズル５と、回転カップ４に対応した環状をなし、前記回転カップ４から排出された処理液を受け止める主液受け部５６および主液受け部５６よりも内側に設けられ、回転プレート１１の裏面に漏出した処理液を受け止める副液受け部を有する排液カップと、を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板を回転しながら基板の処理又は乾燥を行う際、処理液のミストが基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。
【解決手段】上カップ４０に吸気口４２を設け、下カップ３０の基板１より下の位置に排気口３２を設け、かつ下カップ３０の基板１の周囲の内壁に斜め下向きに傾斜した傾斜板３４を設ける。処理室内では、吸気口４２から基板１の表面を通り排気口３２へ向かう下向きの空気の流れが形成される。そして、基板１の表面を通った空気が、下カップ３０の内壁に設けられた傾斜板３４に沿って斜め下向きに流れ、基板１の回転による空気の流れの乱れが小さくなる。下カップ３０内で発生した処理液のミストを含む空気は、この斜め下向きの空気の流れに押されて、基板１の表面及び裏面へ回り込むことがほとんどなく、さらに上カップ４０と下カップ３０との隙間から処理室の外へ流れることもない。 （もっと読む）

【課題】フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要のない液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部１と、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷを囲繞し、ウエハＷとともに回転可能な回転カップ３と、回転カップ３およびウエハ保持部１を一体的に回転させるモータ２と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４と、回転カップ３の排気および排液を行う排気・排液部６とを具備し、排気・排液部６は、主にウエハＷから振り切られた処理液を取り入れて排液する環状をなす排液カップ４１と、排液カップ４１の外側を囲繞するように設けられ、回転カップ３およびその周囲からの主に気体成分を取り入れて排気する排気カップ４２とを有し、排液カップ４１からの排液と排気カップ４２からの排気が独立して行われる。 （もっと読む）

【課題】基板に対する処理液のミストの飛散を抑制することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部１と、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷを囲繞し、ウエハＷとともに回転可能な回転カップ３と、回転カップ３およびウエハ保持部１を一体的に回転させるモータ２と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４と、回転カップ３から外部へ排気および排液する排気・排液部６と、表面がウエハ表面と略連続するようにウエハの外側に設けられ、保持部材１および回転カップ３とともに回転し、ウエハ表面に供給されてウエハＷから振り切られた処理液をその表面を介して回転カップ３から排気・排液部６へ案内する案内部材３５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板を回転しつつ基板に処理液を供給して基板に液処理を行う液処理装置であって、基板に対する処理液のミストの再付着を抑制することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部１と、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷを囲繞し、ウエハＷとともに回転可能な回転カップ３と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４と、回転カップ３の排気および排液を行う排気・排液部６とを具備し、回転カップ３は、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷに外側から内側に流れる気流をトラップ可能な気体溜まり部３２ａを有する。 （もっと読む）

【課題】ウエーハ裏面での現像液の残留を防止できるようにした現像方法及び現像装置を
提供する。
【解決手段】所定のパターンが露光されたフォトレジストを表面に有するウエーハＷの裏
面をスピンナーチャック１で支持し、当該スピンナーチャック１によって回転可能に支持
されたウエーハＷの表面に現像液Ｌを滴下することによってフォトレジストを現像する方
法であって、スピンナーチャック１を外側から囲むジャマ板９をウエーハＷの裏面側に配
置すると共に、当該ウエーハＷ裏面と該ジャマ板９との間に隙間を設けておき、現像液Ｌ
がウエーハＷの周縁を伝ってその裏面側へ回り込む前までに、当該ウエーハＷの裏面とジ
ャマ板９との間の隙間にリンス液の膜Ｆを形成しておく。 （もっと読む）