Fターム[5F046PA00]の内容
半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) (57,085) | 光の吸収膜、反射膜 (454)
Fターム[5F046PA00]の下位に属するFターム
Fターム[5F046PA00]に分類される特許
1 - 1 / 1
配線構造およびその製造方法
【課題】感光性絶縁膜を用いたダマシン配線法により、微細で信頼性の高い多層配線構造を形成する。
【解決手段】感光性ポリシラザンを主成分とした感光性絶縁膜で第1ビアホール6を有するビアホール用絶縁膜7を形成し、全面にスピン塗布法で第2の感光性絶縁膜8を形成する。そして、フォトリソグラフィ法による露光/現像のみで上記第1ビアホール6の上部に配線溝9あるいは第2ビアホール10を形成する。そして、この配線溝9および第2ビアホール10に導電体材料を埋め込んでデュアルダマシン配線を形成する。ここで、感光性絶縁膜の下層に反射防止機能を有しそのまま層間絶縁膜として使用できる絶縁膜を形成する。
(もっと読む)
1 - 1 / 1
[ Back to top ]