【課題】 荷電粒子線の特性の計測精度の点で有利な照射装置を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を物体に照射する照射装置は、複数の開口を有する遮蔽板と、前記複数の開口をそれぞれ通過した複数の荷電粒子線をそれぞれ検出する複数の検出器とを含み、前記複数の荷電粒子線の強度を計測する計測器と、前記複数の荷電粒子線がそれぞれ前記複数の開口のエッジを横切るように前記複数の荷電粒子線と前記計測器との間の相対的な走査を行う走査手段と、前記走査手段と前記計測器とを制御して前記複数の荷電粒子線それぞれの特性を求める制御部と、を備える。前記走査の期間において、前記複数の荷電粒子線の前記遮蔽板によって遮断されるエネルギーが時間とともに変動しないように構成されている。 （もっと読む）

【課題】フォーカスのための基板の正確な位置決めの点で有利なマルチ電子線描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子線を基板に対して射出する荷電粒子光学系と、基板を保持し、荷電粒子光学系の光軸の方向と光軸に垂直な方向とにそれぞれ可動なステージ１０３と、基準反射面を含み、光軸の方向におけるステージの位置を計測する干渉計と、荷電粒子線の特性を計測する計測器２０１と、補正情報を用いて干渉計の計測結果を補正する制御部と、を備える。制御部は、光軸に垂直な方向におけるステージの複数の位置それぞれに関して干渉計による計測としての第１計測と計測器による計測としての第２計測とを並行して行わせ、複数の位置それぞれに関して得られた第１計測および第２計測の結果に基づいて、補正情報を求める。 （もっと読む）

【課題】ビームを正確に計測するのに有利なビーム計測装置を提供する。
【解決手段】ビーム計測装置は、エッジを有する遮蔽部材２２と、該遮蔽部材２２で遮蔽されなかったビーム２４を検出する検出器とを含む検出部と、エッジをビーム２４が横切るように遮蔽部材２２とビーム２４との間の相対移動を生じさせる相対移動機構と、制御部とを有する。ここで、制御部は、検出部と相対移動機構とを制御して、エッジ上の複数の箇所それぞれに関し、エッジをビーム２４に横切らせて検出器で信号列を得、複数の箇所でそれぞれ得られた複数の信号列から、相対移動における相対位置が対応する信号どうしを加算して、加算信号列を得、加算信号列からビーム２４の強度分布を求める。 （もっと読む）

【課題】 所望パターンを効率的かつ高い信頼性のもとに露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法、露光装置、及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線をラスタースキャンしながら、照射をオンオフすることにより、パターンを描画する荷電粒子線描画方法において、線幅を測定する対象の前記パターンを描画する第１の描画工程と、前記第１の描画工程の後に前記パターンの描画位置を前記線幅の測定方向に移動して前記第１の描画工程を実行する第２の描画工程と、前記第１の描画工程及び前記第２の描画工程において固定された前記パターンからの荷電粒子線量を測定する測定工程と、測定された前記荷電粒子線量と前記描画位置とに基づいて前記描画パターンの線幅を決定する線幅決定工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置において、幅広い領域に渡ってビームサイズを高精度に計測することが可能な電子ビーム計測技術を提供する
【解決手段】
電子ビーム検出器２１８には、スリット開口やナイフエッジが形成されており、スリットを用いる第１のビームサイズ計測方法とナイフエッジを用いる第２の計測方法を切り替えて使用することにより、広い範囲のビームサイズで高精度な計測を行うことが可能となる。この計測値を元に、ビームサイズ校正を行い、描画制御装置２１１にフィードバックすることで高精度な描画を行う。 （もっと読む）

【課題】 ナイフエッジ部材のエッジ部に理想応答からのずれが生じている場合においても、荷電粒子ビームの正確な評価を行う。
【解決手段】 荷電粒子ビーム１を、ナイフエッジ部材４のエッジ部４ｂを横切るように走査し、この走査に伴って検出された荷電粒子ビーム１の信号波形と、エッジ応答関数に基づいてモデル化された評価関数とのカーブフィッティングを行い、この結果に基づいて荷電粒子ビーム１の特徴量を測定する際に、当該評価関数は、エッジ位置の異なる２つのエッジ応答の和からなるエッジ応答関数に基づいてモデル化されている。よって、ナイフエッジ部材４のエッジ部４ｂに理想応答からのずれが生じている場合においても、荷電粒子ビーム１の正確な評価を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は電子ビーム描画装置におけるフォーカス・非点収差補正調整方法に関し、Ｘ，Ｙ軸から４５゜回転した軸方向にある非点収差を確実に補正することができる電子ビーム描画装置におけるフォーカス・非点収差補正調整方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 ナイフエッジ法を用いたフォーカス調整機構と非点収差補正機構を具備する電子ビーム描画装置であって吸収電子信号検出器としてナイフエッジ法測定器２を用いるものにおいて、非点収差補正器を６用いた非点収差の補正を先に行ない、その後に対物レンズ４を用いたフォーカス調整を行なうようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 バックグランド，検出系及び走査信号の影響や、Ｓ／Ｎ比の低下による波形歪みの無い検出信号を得る。
【解決手段】 電子銃１、集束レンズ２、対物レンズ３、偏向器５Ｘ，５Ｙ、二次電子検出器７、二次電子検出器７の出力信号の内、任意のレベル域にある信号を切り出す振幅制限器１３、及び振幅制限器１３の出力信号の振幅を調整する信号レベル調整回路１４を備えた。 （もっと読む）