【課題】フォーカスのための基板の正確な位置決めの点で有利なマルチ電子線描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子線を基板に対して射出する荷電粒子光学系と、基板を保持し、荷電粒子光学系の光軸の方向と光軸に垂直な方向とにそれぞれ可動なステージ１０３と、基準反射面を含み、光軸の方向におけるステージの位置を計測する干渉計と、荷電粒子線の特性を計測する計測器２０１と、補正情報を用いて干渉計の計測結果を補正する制御部と、を備える。制御部は、光軸に垂直な方向におけるステージの複数の位置それぞれに関して干渉計による計測としての第１計測と計測器による計測としての第２計測とを並行して行わせ、複数の位置それぞれに関して得られた第１計測および第２計測の結果に基づいて、補正情報を求める。 （もっと読む）

【課題】活性種の生成量を多くしてアパーチャの側面のクリーニングを可能にしつつチャンバ内の圧力の上昇を抑える。
【解決手段】クリーニングユニット２００は、第１個数よりも少ない第２個数の放出孔を有する放出孔プレート２０２を含む容器２０３と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構２２０とを含み、前記チャンバ１１５の中に配置された前記容器の内部空間の圧力と前記容器の外部空間の圧力との差によって前記活性種が前記第２個数の放出孔から放出され、前記駆動機構は、前記第１個数よりも少ない前記第２個数の放出孔から放出される活性種によって前記第１個数のアパーチャのすべてがクリーニングされるように、前記電子光学系に前記放出孔プレートが対面した状態で前記容器を移動させる。 （もっと読む）

【課題】マスクなどの試料面の高さと実質的に等しい高さのマークを用いて、電子ビームの焦点や偏向感度を調整することが可能なマーク台が設けられたステージ装置と、このステージ装置を用いた電子ビーム描画装置とを提供する。
【解決手段】ステージ装置は、電子ビームの光軸と直交する方向に移動可能なＸＹステージと、ＸＹステージ上に固定された電子ビーム調整用のマーク台と、マーク台が固定されている領域を回避してＸＹステージ上に搭載され、光軸方向に移動可能であり、試料が載置されるＺステージとを有する。マーク台には、表面の高さが異なる複数のマーク４ａ_１、４ａ_２、４ａ_３、４ｂ_１、４ｂ_２、４ｂ_３が設けられた基準チップ１１４、１１５が配置されている。 （もっと読む）

【課題】静電電極を用いたリフォーカスレンズによるリフォーカス時間を短縮するとともにリフォーカス精度を向上させることのできる電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子銃と、電子ビームを整形するための開口を有する整形手段と、電子ビームの焦点を補正する静電多重極電極からなるリフォーカスレンズと、リフォーカスレンズの各電極に印加する補正用の電圧を生成するフォーカス補正電圧発生回路と、補正用の電圧に加算するオフセット電圧を生成するオフセット電圧発生回路と、フォーカス補正電圧発生回路及びオフセット電圧発生回路をそれぞれ独立に制御する制御手段と、を備える。制御手段は、オフセット電圧発生回路を、電子ビーム露光装置の筐体を基準として動作させ、フォーカス補正電圧発生回路を、オフセット電圧発生回路により出力されるオフセット電圧を基準として動作させるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】リフォーカス用の静電レンズの電極の配置誤差に起因する収差及び照射位置ずれを補正可能な電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームを試料面上へ結像させる投影レンズと、投影レンズの上方に設置され、電子ビームの焦点を補正する静電多重極電極からなるリフォーカスレンズと、リフォーカスレンズの各電極に対して光軸の回りに回転させて配置した静電多重極電極からなる寄生収差補正用レンズと、電子ビームの断面の面積に応じた電圧を、リフォーカスレンズを構成する電極及び寄生収差補正用レンズを構成する静電多重極電極に印加する制御手段とを備える。寄生収差補正用レンズを構成する多重極電極は、リフォーカスレンズを構成する電極に対し、隣接する２つの当該電極間の角度の１／２だけ光軸の周りに回転させた位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームの異なるドーズ量毎に、荷電粒子ビームのフォーカスを変えて描画を行う。次いで、描画したパターン全体の平均寸法を求め、フォーカスを変えたときの平均寸法の変動量が最小となるドーズ量（Ｄ_１）を取得する。また、描画したパターンについて、局所的な部分における寸法のばらつきを求め、このばらつきが最小となるドーズ量（Ｄ_２）を取得する。ドーズ量（Ｄ_１）とドーズ量（Ｄ_２）の間の値を最適ドーズ量とし、この最適ドーズ量に基づいて荷電粒子ビームを用いた描画装置に入力されるデータを補正する。 （もっと読む）

【課題】測定エラーが生じた場合であってもマップを作成し、その結果を基に荷電粒子ビームを試料の表面に正確に収束させることが可能な荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】マスク表面の高さを測定し、この測定で生じた測定エラーの数を求め、測定エラーの数が所定値より少ない場合にはマスク表面の近似曲面を作成する。次いで、測定データと、近似曲面から得られる高さデータとを比較し、その差分が所定の閾値を超えている点がなければ、近似曲面の信頼性は高いと判断する。そして、この近似曲面に基づいてマスク表面の高さを補正する。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置に関し、描画面の高さ変化とそれに伴うフォーカス補正によるフィールド幅と回転のずれを補正する時、縮小率の設定に対して最適なフィールド幅の高さ補正係数を算出してフィールド幅に対する描画精度の低下を防止することを目的としている。
【解決手段】ファインピッチコントロール描画機能及び最小インクリメント可変描画機能を用いて試料にパターンを描画する場合において、描画面の高さ変化とそれに伴うフォーカス補正によるフィールド幅と回転のずれを補正する時に、縮小率の設定に対して最適なフィールド幅の高さ補正係数を算出する演算制御手段と、算出した高さ補正係数に基づいて試料に描画を行なう描画手段、とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】描画状況下での高さ測定位置の検出が可能なフォトマスク高さ測定方法及びこの高さ測定が可能な電子線描画装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 キャリブレーションマークに光の反射率が異なるパターンを作成し、このパターンを光で走査し、検出された光量データと対応させて高さ測定する測定点の位置を特定し、描画状況下で、前記走査及び前記高さ測定する測定点の位置の特定を行い、所定の光量データに対応する測定点の位置を前記描画状況の前後で比較し、描画状況下における位置ずれを検出し、この位置ずれから、描画状況下の高さ測定する測定点の位置の補正データを生成する高さ測定方法及び電子線描画装置を提供する。
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【課題】本発明は電子ビーム描画装置のビーム位置補正方法に関し、図形の位置を精度よく補正して描画を行なうことができる電子ビーム描画装置のビーム位置補正方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】描画材料上に照射されるビームの位置を偏向して、該描画材料上に所定のパターンを描画するようにした電子ビーム描画装置のビーム位置補正装置において、偏向歪とダイナミックフォーカス補正器１３とダイナミック非点補正器１４の位置ずれに対する補正電圧の最適な近似式をそれぞれ求める近似式算出手段と、前記近似式から偏向歪とダイナミックフォーカス補正器１３とダイナミック非点補正器１４の位置ずれに対する補正電圧を算出する補正電圧算出手段と、算出した補正電圧を基準の走査電圧に加算してフィールド面内のビーム位置を補正する補正手段と、を有して構成される。 （もっと読む）

【課題】マルチコラム方式の荷電粒子ビームを用いたデバイス製造・検査において、低コストおよび高スループットを実現する。
【解決手段】露光するパターンに応じて露光方式を選択し、選択された露光方式毎にパターンを振り分け、前記振り分けられたパターンから、選択された露光方式に応じた露光データを作成し、作成された露光データを、前記選択された露光方式の荷電粒子ビーム光学系のそれぞれに供給して前記パターンを描画する。 （もっと読む）

【目的】描画時間を短縮すると共にマルチカラムを用いた場合でも高さ測定を行なうセンサ数を低減させた装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、試料１０１を載置して、所定の方向に移動するＸＹステージ１０５と、試料１０１の描画領域に電子ビーム２００を照射するカラム２２０と、カラム２２０の後方に位置し、試料１０１の描画領域に電子ビーム３００を照射するカラム３２０と、所定の方向に対してカラム２２０が電子ビーム２００を照射する位置よりも前方と前記照射する位置の略直下とのいずれかの位置での試料の高さを測定するｚセンサ（投光器２０９と受光器２１０）と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、描画時間を短縮することができ、かつカラム数よりもセンサ数を少なくすることができる。 （もっと読む）

【目的】静電レンズで試料面の焦点合わせを行うことが可能な焦点合わせ方法を提供する。
【構成】本発明の一態様の電子ビーム２００の焦点合わせ方法は、レンズコイル２０７を用いて、校正マーク部材１０６の基準面の位置に焦点を合わせるための第１の設定値を測定する工程と、静電レンズ２０８とレンズコイル２０７の設定値を距離に応じて変更する第１と第２の換算係数を取得する工程と、試料１０１面の高さ分布を測定する工程と、第２の換算係数を用いて第１の設定値を補正して、レンズコイル２０７におけるビームの焦点位置を基準面の位置から試料面の高さ分布の中間高さ位置に補正する工程と、第１の換算係数を用いて試料１０１面の高さ位置に応じて静電レンズ２０８の第２の設定値を補正して、静電レンズ２０８により電子ビーム２００の焦点位置を補正する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射する照射系での非点収差を評価する。
【解決手段】基準試料ＷＰの表面に、複数（例えば４つ）の同心円からなる図形パターンを形成し、この基準試料ＷＰを電子線でスキャンすることによって得られる電子信号に基づいて画像（スキャン画像）を形成する。このスキャン画像では、非点収差の方向を長手方向とする領域に像のボケが生じ、また、非点収差の大きさによって、ボケが生じた領域の範囲が変化する。したがって、得られたスキャン画像に基づいて、照射装置１０の照射系での非点収差の方向及び大きさを検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は荷電粒子ビーム装置における非点補正・フォーカスの自動調整方法及び装置に関し、非点補正・フォーカスの自動調整を行なう方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】Ｘ，Ｙ方向に周期的なパターンを持つ調整用試料からの強度分布信号に対してトリミングを行なって第１のフーリエ級数展開を行ない周期パターンを求める手段２５と、この周期パターンに対してトリミング領域を決定して第２のフーリエ級数展開を行なう手段２５と、前記第１のフーリエ級数展開と第２のフーリエ級数展開の結果の差分を求める演算手段２５と、該演算手段２５により求めた差分と非点補正量及びフォーカス値を記憶する記憶手段２７と、該記憶手段２７に記憶されたものの中から差分が最小となる時の非点補正量とフォーカス値が最適になるものを読み出して荷電粒子ビーム装置の動作を調整する非点補正・フォーカス調整手段２８とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】リフォーカス時間を短縮し、スループットの向上を図ることのできる電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法を提供すること。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームを整形するための開口を有する整形手段と、電子ビームを試料面上へ結像させる投影レンズと、投影レンズの上方に設置され、電子ビームの焦点を補正する静電多重極レンズからなるリフォーカスレンズと、整形手段により整形された電子ビームの断面の面積に応じた電圧をリフォーカスレンズに印加する制御手段とを備える。リフォーカスレンズは、４重極静電電極を前記電子ビームのビーム軸方向に３段有するようにしても良く、３段の４重極静電電極のうち、１段目と３段目の電極の長さが同じで、２段目の電極の長さが１段目の電極の長さの２倍にしても良い。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子発生源からの出力を容易に変えることを可能にして、荷電粒子発生源のエネルギーの利用効率を高める光学系、その光学系を用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】荷電ビームを発生する荷電粒子発生源１０１と、コンデンサーレンズ１０２と、複数個の同じ開口を有するアパーチャーアレイ１０３と、コンデンサーレンズ１０２とアパーチャーアレイ１０３との間の少なくとも２段の荷電ビームレンズアレイ１１１ａ，１１３ａとを有する光学系を構成する。各荷電ビームレンズアレイ１１１ａ，１１３ａの間でクロスオーバーを形成し、コンデンサーレンズ１０２に近い側の荷電ビームレンズアレイ１１１ａの開口をアパーチャーアレイ１０３の開口よりも大きい直径にする。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを高い位置精度で試料の所定の位置に照射して情報を記録することができる電子ビーム記録装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム記録装置１０は、電子ビームを用いて試料の表面上に情報を記録するものであって、電子ビームｂを放射する電子源と、電子ビームの照射軸線上に進入または退避可能に設けられ、照射軸線上における磁界情報を得る磁気検出器３６と、この磁気検出器による磁界情報から、試料の表面に対する電子ビームの収束位置を補正するための補正量を求める収束位置制御部２１と、電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整する収束位置調整手段７８とを有する。さらに、収束位置制御部は、補正量に基づいて、収束位置調整手段に電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整させる。 （もっと読む）

【目的】偏向収差の補正残差の確認を容易にすると共に、より適当な偏向収差の補正電圧を求める方法および描画方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の偏向収差補正電圧の演算方法は、複数のフォーカス高さ位置で所定のパターンを描画する描画工程（Ｓ１０４）と、各所定のパターンの寸法変動量を測定する寸法変動量測定工程（Ｓ１０６）と、寸法変動量を用いて、実効分解能を演算する実効分解能演算工程（Ｓ１１０）と、実効分解能が最小となるフォーカス高さ位置に基づいて、電子ビームの偏向収差補正電圧を演算する補正電圧演算工程（Ｓ３０４）と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、より適当な偏向収差の補正電圧を求めることができる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、荷電粒子線を用いて生成する画像のオートフォーカス合わせを行うオートフォーカス方法およびオートフォーカス装置に関し、フォーカス電流を所定幅で変えて試料からラインプロファイルを複数取得し、これら各ラインプロファイルを微分した値の絶対値の総和をそれぞれ算出し、これら総和が最大の点あるいは隣接する総和がほぼ等しくなる点を合焦点と決定してその画像を取得し、再現性高くフォーカス合わせした画像を自動取得することを目的とする。
【構成】 対物レンズの電流あるいは電圧を所定幅で順次変えたときに試料からラインプロファイルをそれぞれ取得するステップと、取得した各ラインプロファイルを微分してその絶対値の総和をそれぞれ算出するステップと、算出した総和が最大あるいは隣接する総和がほぼ等しくなるときの対物レンズの電流あるいは電圧に調整するステップとを有する。 （もっと読む）