【課題】変形が生じる部材からの所定方向の応力の静電偏向器の電極支持部などへの伝達を抑制し、複数の荷電粒子ビームの偏向ばらつき等を低減することができる荷電粒子光学系を提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系は、熱による変形が生じる可能性がある第１の部材１１２と、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向する静電偏向器１１３と、を含む。静電偏向器は、第１の部材に固定された固定部７を介して第１の部材と組み立てられ、静電偏向器は、電極支持部５と、電極支持部に支持される第一の電極と２第二の電極３を有する。第一及び第二の電極間には、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向するための電界を発生させるギャップ１１が形成されている。電極支持部５は、第１の部材１１２からの電界方向の変形応力の固定部７を介する電極支持部５への伝達が低減されるように、固定部７に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】電極保護膜を有する静電レンズにおける荷電粒子線の軸ずれの抑制、または構成部材の高精度な位置決め状態の実現、維持を可能とした静電レンズを提供する。
【解決手段】静電レンズは、貫通孔３を有する複数の電極１と、電極間に設けられて電極間の間隔を規定する絶縁スペーサ２を有する。絶縁スペーサ２は、その両面が、夫々、対向する電極１と接合されて両電極１と一体化されている。各電極１の両表面には電極保護膜４が配置され、電極保護膜４は、貫通孔３の内壁とこれから連続的に端部まで繋がった貫通孔３の周りの領域の電極１の表面に存在し、電極１と絶縁スペーサ２との界面には存在しない。 （もっと読む）

【課題】ヨーク自身の特性上の飽和による限界を超えた磁場を発生させることが可能な電磁レンズを搭載したビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、コイルと、コイルを内側に配置するヨークと、発生させる磁力線がヨーク自体を通過することによって、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向に閉ループを構成するように配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる対物レンズ２０７と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム描画方法及び装置に関し、限られた数の円形開口を用いながら広いサイズ範囲にわたる円形パターンを得る。
【解決手段】荷電粒子ビーム源１と、該荷電粒子ビーム源から出射した荷電粒子ビームが照射する第１の矩形開口を有する第１成形スリット４と、開口径が異なる複数の円形開口を有する第２成形スリット７と、該第１成形スリットの開口を通過した荷電粒子ビームを第２成形スリット上に結像させる成形レンズ６と、該第１成形スリットの開口を通過した電子ビームを偏向させて前記第２成形スリット上の所望の円形開口に照射させる偏向器５とを備え、第２成形スリットのいずれかの円形開口を通過した成形円形ビームを描画材料１３上にショットし、円形パターンを描画する荷電粒子ビーム描画方法において、前記第２成形スリット上の異なった円形開口で形成された成形円形ビームを、描画材料上に中心位置を一致させ重ねてショットする。 （もっと読む）

【課題】レジストから放出されたガスの影響の小ささの点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】真空下において複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置は、電極板３を含み、該電極板を介して前記複数の荷電粒子線を前記基板に投影する静電レンズを備える。前記電極板は、前記複数の荷電粒子線をそれぞれ通過させる複数の第１の開口と、前記複数の第１の開口とは別の複数の第２の開口８とが形成される。前記複数の第２の開口の合計面積は、前記複数の第１の開口の合計面積より大きい。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線レンズアレイを構成する絶縁体表面が帯電することによって生じる荷電粒子線の収差を補正することが可能な荷電粒子線レンズアレイを提供する。
【解決手段】荷電粒子源から放射された複数の荷電粒子線の光学特性を制御する荷電粒子線レンズアレイは、絶縁体２Ａ、２Ｂを介して互いに光軸３の方向に離間して支持された複数の電極１Ａ、１Ｂ、１Ｃを有する。電極は荷電粒子線５が通過するための複数の貫通孔４を有する。複数の貫通孔の配置が、２つの並進ベクトルで規定されるそれぞれの基準位置８から、荷電粒子線レンズアレイ内で生じる荷電粒子線の収差を補正する方向にずれている。各貫通孔の基準位置からのずらし量は、基準位置が絶縁体の表面６Ａ、６Ｂに近い程大きく、絶縁体の表面から遠ざかるに従って小さくなる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子レンズの汚染を低減するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、前記基板に対向して荷電粒子線を射出する最終電極板を含む荷電粒子光学系と、前記最終電極板に対向する前記基板と前記最終電極との間に配置されるように設けられた捕捉電極板と、前記基板の表面の電位に対して正の電位を前記捕捉電極板に付与する第１電位付与部と、を有することを特徴とする描画装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】複数の電極が互いに間隔を隔てて対向して積層された構造の荷電粒子線レンズにおいて、クーロン引力による電極の変形を効果的に抑制することを可能とする技術を提供する。
【解決手段】静電型の荷電粒子線レンズにおいて、各電極２、４、８内には、荷電粒子線が通過するための複数の貫通孔の組３、５、９が少なくとも一組形成され、各対向電極２、４、８間にはスペーサとして少なくとも１本の線状の絶縁部材１、７が配置されている。線状の絶縁部材１、７は、電極２、４、８の面と平行方向に１回以上屈曲する屈曲部を有し、各電極２、４、８間の間隔を規定する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線を照射する対象物からの飛散物や蒸発物等がレンズの重要な部分に付着するのを抑制でき、レンズと対象物との間隔を狭くすることが可能な静電型レンズ用の電極等を提供する。
【解決手段】静電型の荷電粒子線レンズに用いる電極１は、少なくとも１つの貫通孔４を有する。貫通孔４は、第一の開口輪郭を有する第一の領域αと、第一の領域αに対して荷電粒子線の上流側に位置させられるべき第二の開口輪郭を有する第二の領域βを有する。光軸３の方向から見て第一の開口輪郭は第二の開口輪郭内に含まれる。 （もっと読む）

【課題】電極を支持する支持体の帯電状態の変動を抑制でき、電極の開口を通過する荷電粒子のビーム軌道に与える影響を抑制することができる荷電粒子線レンズを提供する。
【解決手段】荷電粒子線レンズは、１以上の開口４を有する面を含む第１の電極１と、１以上の開口４を有する面を含む第２の電極２を備え、第１の電極と第２の電極との間に、これらの電極を電気的に絶縁して支持する支持体３を有する。第１の電極と第２の電極との間で伸びる支持体３の面は、少なくとも１以上の凸部又は凹部を有する非平坦部３Ａとテーパ状に構成されたテーパ部３Ｂを含み、テーパ部３Ｂと第２の電極２の開口４を有する面とのなす角度が０°より大きく９０°より小さい。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線露光装置内の静電型の荷電粒子線レンズは、電極を支持する支持体からのナトリウム析出により，被照射物であるシリコンウエハーが汚染され、製造したデバイスの動作不良となる場合があった。
【解決手段】 少なくとも１つの開口を有する第１の電極と、１つの開口を有する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、前記第１の電極と、前記第２の電極と、を電気的に分離して支持する支持体と、を含む荷電粒子線レンズにおいて、
前記支持体は無アルカリガラス又は低アルカリガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 照射角度の不均一な照射光学系を備えるも、複数の荷電粒子線の間の特性の均一性の点で有利な描画装置の提供。
【解決手段】 コリメータレンズを含む照射系（１４０）と、照射系から射出した荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割するアパーチャアレイ（１１７）と、アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ複数のクロスオーバを形成する集束レンズアレイ（１１９）と、複数のクロスオーバに対応する複数の開口を備えた素子（１２２）と複数の投影ユニットとを含む投影系（１６０）と、を有し、集束レンズアレイは、上記素子における対応する開口に対して偏心している集束レンズを含み、照射系は、その収差に依る入射角でアパーチャアレイに入射して集束レンズアレイにより形成される複数のクロスオーバのそれぞれの位置が上記素子における対応する開口に整合するように、上記収差を調整する調整手段を含む、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の荷電粒子線の間の不均一性の補償に有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 照射系（１４０）と、アパーチャアレイ（１１７）と、複数のクロスオーバーを形成するレンズアレイ（１１９）と、複数の開口を備えた素子（１２２）と複数の投影ユニットとを含む投影系（１７０）と、を有する。レンズアレイ（１１９）は、上記複数のクロスオーバーのそれぞれの位置が上記素子における対応する開口に整合するように、該開口に対して偏心している集束レンズを含む補正レンズアレイ（１６２）と、上記複数のクロスオーバーを形成するように、補正レンズアレイにより形成された複数のクロスオーバーをそれぞれ拡大して結像する拡大レンズアレイ（１６３）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】露光装置の大型化を抑制し、荷電粒子線を用いてマスクレス露光方式で効率的にターゲットを露光する。
【解決手段】電子ビーム露光装置ＥＸは、電子ビームＥＢが照射される複数のアパーチャ１５が形成されたＢＡＡ部材１４と、電子ビームＥＢのオン／オフを制御する変調部１３と、アパーチャ１５に対応する配置の複数のアパーチャ２５がそれぞれ形成された複数のサブ・フィールド２３Ａ，２４Ａ等を有する固定アパーチャ部材２２と、変調部１３でオンにされた電子ビームを、一つのサブ・フィールドに偏向する主偏向系２０と、選択されたサブ・フィールドの像に対してウエハＷをＹ方向に移動するウエハステージＷＳＴと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 照射角度の不均一な照射系を備えるも、複数の荷電粒子線の間の特性の均一性の点で有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 発散する荷電粒子線を分割する第１アパーチャアレイと、第１アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線から第１の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、第１の複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第２の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、第２の複数のクロスオーバーに対応する複数の開口を有する素子と、を有し、該主平面における第１の複数のクロスオーバーの配列を該複数の開口の配列に対して異ならせることにより、該素子上において第２の複数のクロスオーバーが該複数の開口に整合するように、第１アパーチャアレイ及び集束レンズアレイは、開口が配置されている、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】複数の荷電粒子線を屈折させる正確さ及びサイズの小ささの両立に有利な静電レンズアレイ。
【解決手段】第１電極板及び第２電極板のそれぞれは、荷電粒子線を通過させる３つ以上の開口をそれぞれ含んで開口どうしが互いに整列している複数の開口サブセット領域を含み、絶縁性スペーサは、第１電極板及び第２電極板における複数の開口サブセット領域にそれぞれ対応し、且つ、対応する開口サブセット領域の外形より大きい外形をそれぞれ有する複数の貫通孔を含み、絶縁性スペーサは、第１電極板における複数の開口サブセット領域の間の領域において第１電極板と接触し、第２電極板における複数の開口サブセット領域の間の領域において第２電極板に接触し、且つ、複数の貫通孔のそれぞれが第１電極板及び第２電極板における対応する開口サブセット領域に整列するように、第１電極板と第２電極板との間に配置されている、ことを特徴とする静電レンズアレイ。 （もっと読む）

【課題】本発明は、磁場レンズ内における電場レンズを構成する中間電極の長さ及び配置を工夫したり、電場レンズの中間電極の内部の中央に絞りを設け、電場レンズ内部でイオンガスの蓄積を阻止させるようにしたので、描画材料の描画フィールドのパターンを描画する時に発生する電子ビームの位置ずれ防止することができる。
【解決手段】電子ビームの描画材料上への集束状態を変化させるための電場レンズであって、電子ビームが内部を通過する円筒型の中間電極と、中間電極の上流側に配置される上段電極と、中間電極の下流側に配置される下段電極とから構成される電場レンズとを備えた電子ビーム描画装置において、磁場レンズが形成する磁場の中心に合わせて中間電極が配置され、且つ中間電極は、少なくとも一つの端部が、磁場レンズが形成する磁場と端部位置に形成される電位の壁とによりイオントラップが形成されない位置に来るように設けた。 （もっと読む）

【課題】開口部の真円度等の形状精度を高くすることができる貫通孔基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】貫通孔２に充填物４が充填された基板３を用意し、その表面に、少なくとも表面の一部が絶縁性の構造体６を形成する。構造体６を形成した基板上にめっき層７を形成後、充填物４と構造体６を除去する。これにより、基板１の少なくとも一方の面に、貫通孔２と連通する開口部９を有するめっき層７が設けられた貫通孔基板８が形成される。 （もっと読む）

【課題】 照射角度の不均一な照射光学系を備えるも、複数の荷電粒子線間の特性の均一性の点で有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 コリメータレンズを含む照射光学系（１４０）と、照射光学系から射出した荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割するアパーチャアレイ（１１７）と、アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ複数のクロスオーバを形成する集束レンズアレイ（１１９）と、複数のクロスオーバに対応する複数の開口を備えた素子（１２２）と荷電粒子線を基板上に投影する複数の投影ユニットとを含む投影系（１６０）と、を有し、照射光学系の収差に依る入射角でアパーチャアレイに入射して集束レンズアレイにより形成される複数のクロスオーバのそれぞれの位置が前記素子における対応する開口に整合するように、集束レンズアレイは、前記素子における対応する開口に対して偏心している集束レンズを含む、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】 静電型の荷電粒子線レンズは、開口が円形の場合の真円度のような開口形状の対称性に対する非点収差が敏感であり低収差とすることが困難。
【解決手段】 静電型の荷電粒子線レンズであって、前記荷電粒子線レンズは光軸方向を法線とする第１の面と、該第１の面とは反対側の第２の面とを有する平板を含み、かつ、前記第１の面から前記第２の面に貫通する貫通孔を有する電極を有し、前記第１の面側である第１の領域における真円度と、前記第２の面側である第２の領域における真円度、が各々、前記第１の面と前記第２の面とで挟まれた前記電極の内部の領域である第３の領域における真円度よりも良い。 （もっと読む）