【課題】 ヘテロ接合半導体素子とダイオード素子とが同一基板上に集積され、ヘテロ接合半導体素子単独の場合と同程度の簡易なエピタキシャル層の積層構造からなり、かつ、ダイオード素子の特性が、ヘテロ接合半導体素子の構成材料層の特性によって制約されることが少ない半導体装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 半絶縁性基板１の上にエピタキシャル成長法によって、サブコレクタ層２、コレクタ層３、ベース層４、エミッタ層５、エミッタキャップ層６の構成材料層を形成し、これらの一部をメサ構造に加工してＨＢＴ１０を形成する。また、別の領域をメサ形状に加工して、それぞれ、ＰＩＮダイオードのｎ型層１６ａと１６ｂ、ｉ型層１５ａと１５ｂおよびｐ型層１４とする。このうち、ｉ型層１５ａと１５ｂは、エミッタ構成材料層１５に不活性化イオンを注入して高抵抗化して形成する。 （もっと読む）

【課題】近接する２つの素子間に高濃度不純物領域を配置し、フローティング電位またはＧＮＤ電位を印加することにより２つの素子間のアイソレーションを向上させる手法は、漏れた高周波信号のパワーが大きい場合に高濃度不純物領域の電位が変動してしまう。このため、結果として２つの素子間のアイソレーションが十分確保できなくなる問題があった。
【解決手段】近接する２つの素子間に伝導領域または金属層による分離素子を配置する。分離素子は高抵抗素子を接続し、直流端子パッドに接続する。また直流端子パッドから分離素子に至る接続経路は電位が高周波振動しない経路とする。これにより、少なくとも一方に高周波信号が伝搬する２つの素子の間に高周波ＧＮＤ電位を配置したこととなり、２つの素子間の高周波信号の漏れを防止できる。 （もっと読む）

【課題】増幅特性の劣化なしにインダクタで発生する逆起電力による破壊を防止することが可能な電力増幅器及び電力増幅器用バイアス回路を実現することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】バイポーラトランジスタ２のコレクタ端子と電源端子６とを接続しているバイアス線路５に、アノードがコレクタ端子側になるように並列にダイオード９ａを接続することにより、あるセルで暴走が始まったときは、ダイオード９ａによりその逆起電圧をクリップして下げるため、バイポーラトランジスタ２に大きな電圧がかかるのを抑制するとともに、暴走の起こっていない段階では、ベース端子に供給される経路で抵抗成分等によるロスを無くし、結果的に従来のような高出力時の出力電力の低下を抑制する。 （もっと読む）

【課題】高周波増幅回路に悪影響を与えること無く、バイポーラトランジスタの熱暴走を防止することが可能なバイポーラトランジスタおよび高周波増幅回路の提供を目的とする。
【解決手段】直流バイアスが供給される直流バイアス（ＤＣ）端子３と、ＤＣ端子３に接続されたＤＣ用ベース電極６と、高周波信号が供給される高周波電力（ＲＦ）端子４と、ＲＦ端子４に接続されたＲＦ用ベース電極７と、ＤＣ用ベース電極６とＲＦ用ベース電極７とに接続されているベース層８とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ＨＢＴのベースが直接制御端子に接続するスイッチ回路装置では、制御端子から、ＨＢＴの駆動に必要なベース電流を供給する必要がある。しかし、この回路構造ではＨＢＴの電流増幅率ｈ_ＦＥが限られているため、必要なベース電流を制御端子から十分に得られない問題があった。
【解決手段】スイッチング素子を構成するＨＢＴのベースにソースが接続する駆動ＦＥＴを設け、駆動ＦＥＴのドレインを電源端子に接続し、ゲートを制御端子に接続する。制御信号により駆動ＦＥＴが導通し、電源端子から供給される電流によってＨＢＴが動作する。従って一般的な制御用ＬＳＩからの制御信号を利用できる。またＨＢＴの各単位ＨＢＴに駆動ＦＥＴの各単位ＦＥＴを対応させることによりＨＢＴの２次降伏による破壊を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 ＨＢＴは、ベース−エミッタ間電流が正の温度係数を持つため、コレクタ電流も正の温度係数を持つ。従って、ベース電流を増加させて電流密度の向上を図ると、複数並列接続されたＨＢＴの単位素子のうち、１つの単位素子に電流が集中して二次降伏を起し、破壊に至りやすくなる。
【解決手段】 ＨＢＴとＦＥＴを分離領域を介して隣接して配置し、ＨＢＴのベース電極にＭＥＳＦＥＴのソース電極を接続した単位素子を複数接続してスイッチ回路装置を構成する。単位素子を並列に複数接続したスイッチ回路装置において、単位素子毎に動作電流が不均一となっても、１つの単位素子に電流が集中することはなく二次降伏による破壊は発生しない （もっと読む）

【課題】 ＨＢＴとＦＥＴを１チップに集積化する際、ＨＢＴのエミッタキャップ層をＦＥＴのチャネル層としており、ＦＥＴのピンチオフ性が悪く相互インダクタンスｇｍが低い。また、複数回のイオン注入、アニール、ベースペデスタルの形成、さらには２回のエピタキシャル成長を行うなど製造工程が複雑であった。
【解決手段】 ＨＢＴのエミッタ層とＦＥＴのチャネル層を、同一のｎ型ＩｎＧａＰ層とする。また、ＨＢＴのベース層であるｐ＋型ＧａＡｓ層を、ＦＥＴのｐ型バッファ層として利用する。これにより、ＦＥＴのピンチオフ性が良好となり相互インダクタンスｇｍを高めることができる。またエピタキシャル成長が１回で、イオン注入、アニール工程も不要のため製造工程も簡素化でき、ウエハコストも低減できる。 （もっと読む）

【課題】 ＨＢＴは、ベース−エミッタ間電流が正の温度係数を持つため、コレクタ電流も正の温度係数を持つ。従って、ベース電流を増加させて電流密度の向上を図ると、複数並列接続されたＨＢＴの単位素子のうち、１つの単位素子に電流が集中して二次降伏を起し、破壊に至りやすくなる。
【解決手段】 ＨＢＴとＦＥＴを分離領域を介して隣接して配置し、ＨＢＴのベース電極にＭＥＳＦＥＴのソース電極を接続した単位素子を複数接続して能動素子を構成する。単位素子を並列に複数接続した能動素子において、単位素子毎に動作電流が不均一となっても、コレクタ電流が負の温度係数を持つため１つの単位素子に電流が集中することはなく二次降伏による破壊は発生しない （もっと読む）

【課題】 ＨＢＴは、ＨＥＭＴより低オン抵抗を得ることができる。しかし各単位素子において動作上の微小なアンバランスから二次降伏による破壊を起こすため、信頼性が低い問題があった。
【解決手段】 単位ＨＢＴのベース電極に、ベース層に連続した抵抗層により形成されたバラスト抵抗を接続する。そしてＨＢＴとバラスト抵抗が接続された単位素子を複数並列接続し、スイッチング素子を構成する。これにより各単位素子において単位ＨＢＴの発熱が直接バラスト抵抗に伝わる。抵抗は負の温度係数を持つため、単位ＨＢＴが発熱するとそれに接続するバラスト抵抗の抵抗値が大きくなりバラストとしての機能が増す。従って、ＨＢＴによるスイッチ回路装置において二次降伏による破壊を回避し、信頼性を大幅に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】ＨＢＴにおける高い耐電圧特性と優れた高速特性を維持した状態で、バラクタダイオードにおける広い容量可変幅を確保する。
【解決手段】１つの共通の半絶縁性基板１上に、ＨＢＴ２０とバラクタダイオード２１とを形成したマイクロ波モノリシック集積回路において、ＨＢＴとバラクタダイオード２１とに共通するコレクタ層を、コレクタコンタクト層４側に位置する第１のコレクタ層２２ａ、２２ｂと、反コレクタコンタクト層側に位置する第２のコレクタ層２３ａ、２３ｂとで構成し、さらに、第１のコレクタ層のキャリア濃度を第２のコレクタ層のキャリア濃度より高く設定している。そして、バラクタダイオード２１においては、第２のコレクタ層２３ｂ上にショットキー電極２４を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高周波数帯で動作する半導体装置の特性の向上、ならびに信頼性の向上に関するものである。
【解決手段】半導体基板の表面側にキャリア走行層として積層された、サブコレクタ層、コレクタ層、ベース層、エミッタ層を用いて形成した単数もしくは複数のバイポーラトランジスタと、前記キャリア走行層の直下に設けられた絶縁層と、さらに前記絶縁層の直下に設けられた導電層と、前記導電層に到達するように形成された非貫通のバイアホールと、トランジスタの何れかの端子と電気的に接続された状態に半導体基板の表面に形成された金属配線層と、バイアホールの側壁及び底面に形成された金属配線層とを備えた構造とする。 （もっと読む）

【課題】ＨＢＴ、ＨＥＭＴという異種類のトランジスタを、極めて小さい接続抵抗の下で接続した構成を持つ化合物半導体エピタキシャルウェハを提供すること。
【解決手段】同一ウェハ内で、一単位のＨＢＴエピタキシャル層（ＨＢＴ構造４０）の上に一単位のＨＥＭＴエピタキシャル層（ＨＥＭＴ構造５０）を積層した構造とする。 （もっと読む）

【課題】 熱的安定性と信頼性を両立し、さらに静電破壊耐量を向上したＨＢＴを備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 化合物半導体からなる基板の主面上に、順に形成されたサブコレクタ層、コレクタ層、ベース層４およびエミッタ層５、ならびにコレクタ層４と電気的に接続されたコレクタ電極、ベース層４と電気的に接続されたベース電極、エミッタ層５上に形成され、エミッタ層５と電気的に接続されたエミッタメサ層６Ｍ、およびエミッタメサ層６Ｍと電気的に接続されたエミッタ電極１３を備えたＨＢＴであって、このエミッタメサ層６Ｍが、ｎ型ＧａＡｓ層からなる半導体層６と、半導体層６上のｎ^＋型ＧａＡｓ層からなる高濃度半導体層６Ｂと、高濃度半導体層６Ｂ上のｎ型ＩｎＧａＡｓ層からなるバラスト抵抗層７とを有する。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置の熱抵抗を低減すること、および小型化できる技術を提供する。
【解決手段】 複数の単位トランジスタＱを有する半導体装置であって、半導体装置は、単位トランジスタＱを第１の個数（７個）有するトランジスタ形成領域３ａ、３ｂ、３ｅ、３ｆと、単位トランジスタＱを第２の個数（４個）有するトランジスタ形成領域３ｃ、３ｄとを有し、トランジスタ形成領域３ｃ、３ｄは、トランジスタ形成領域３ａ、３ｂ、３ｅ、３ｆの間に配置され、第１の個数は、第２の個数よりも多い。 （もっと読む）

【課題】 寄生容量及び寄生抵抗の低減を図ることにより、高周波特性の向上を図ることができる、光電子集積素子及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 光電子集積素子１００は、基板１１０と、基板１１０の上方に設けられ、第１ミラー１２０と、活性層１２２と、第２ミラー１２４と、を含む面発光型半導体レーザ１００Ｖと、面発光型半導体レーザ１００Ｖの上方に設けられ、少なくとも光吸収層１４２を含むフォトダイオード１００Ｐと、基板１１０の上方に設けられたバイポーラトランジスタ１００Ｂと、を含む。バイポーラトランジスタ１００Ｂは、第１ミラー１２０、活性層１２２、第２ミラー１２４、及び光吸収層１４２のそれぞれと同一の半導体層を含む。 （もっと読む）

【課題】 マイクロ波集積回路において、能動素子入力部に配置されるノイズ信号カット用容量素子は、容量素子形成に必要な配線等の部品も含め、大きな面積を必要とし、チップサイズ小型化阻害の要因となっている。又、半導体能動素子、特に電界効果トランジスタにおいては、メサ型素子分離の際、メサ段差部分におけるゲート金属の段切れ、ゲート金属と能動層との接触による特性劣化が問題となっている。
【解決手段】 本発明では、チップ裏面に形成される容量素子において、半導体デバイスの１端子の直下に容量素子の２電極のいずれか一方を接続した構造および、半導体デバイスの１端子の直下に容量素子を作製する。又、半導体表面の平面上にゲート金属を被着し、その後裏面から半導体基板およびトランジスタ能動領域以外の能動層を除去する。 （もっと読む）

【課題】 ＨＢＴ（Hetero-junction Bipolar Transistor）の特性を向上させる。
【解決手段】 ＨＢＴ（Ｑ）は、化合物からなる基板の主面上に順に形成されたコレクタ層、ベース層、エミッタ層およびそれぞれに電気的に接続されたコレクタ電極９ａ、ベース電極８、エミッタ電極７を有し、さらにエミッタ電極７とエミッタ層との間に形成されたエミッタコンタクト層６を有する。その基板の主面に平行な平面において、エミッタコンタクト層６およびエミッタ電極７の平面形状は、ベース電極８を囲う略環状形状を有し、エミッタコンタクト層６の最小寸法Ｌｅは、１．２μｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】 小型化および低消費電力化を図りつつ負荷変動時のＨＢＴの破壊を有効に防止することのできる高周波電力増幅用電子部品（ＲＦパワーモジュール）および移動体通信システムを提供する。
【解決手段】 高周波電力増幅回路の少なくとも最終段の増幅素子（Ｑ１）がＨＢＴ（ヘテロ接合バイポーラ・トランジスタ）で構成されている高周波電力増幅用電子部品おいて、上記ＨＢＴとしてそのコレクタ電流−コレクタ電圧特性の非破壊領域と破壊領域との境界が逆Ｓ字カーブを有し、該逆Ｓ字カーブの極小値が当該高周波電力増幅用電子部品（ＲＦパワーモジュール１００）に接続される電源（２００）の実使用時に想定される電圧の最大値の４倍以上の領域に存在するＨＢＴを用いるようにした。 （もっと読む）

【課題】 能動素子、受動素子、配線、及び電極からなる半導体装置において、機械的強度の確保、小型化、及び熱的安定性を満たすことの出来る半導体装置を提供することにある。
【解決手段】 半導体装置において、能動素子直下の開口の位置に開口を充填するための導体層を有し、開口のない位置にも導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】チップ面積の増大を抑制しつつ、電流コラプス現象を低減することができる半導体装置と高周波増幅器を提供する。
【解決手段】半導体装置は、GaAs基板６と、GaAs基板の上に設けられたサブコレクタ層５と、サブコレクタ層５の上の一部に設けられたコレクタ層４と、コレクタ層４の上に設けられたベース層（第１の半導体層）３と、ベース層３のうち真性ベース領域１１の上に設けられた第２エミッタ層（第２の半導体層）２ａと、ベース層３のうち外部ベース領域２ａの上に設けられた第２エミッタ層（第２の半導体層）２ｂと、第２エミッタ層２ａの上に設けられた第１エミッタ層１とを有している。 （もっと読む）