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Fターム[5F092BD16]の内容

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Fターム[5F092BD16]に分類される特許

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【課題】 調整可能なグラフェンを用いた磁界センサを提供する。
【解決手段】 グラフェンセンス層を採用する磁界センサであって、センス層内を移動する電荷キャリアに作用するローレンツ力が、グラフェン層内を移動する電荷キャリアの経路に変化をもたらす。磁界の存在を示すこの経路の変化を検出することができる。センサは、非磁性の電気的絶縁材料によってグラフェン層から分離される1つまたは複数のゲート電極を含む。ゲート電極へのゲート電圧の印加により、グラフェン層の電気抵抗が変化し、このゲート電圧の印加を用いて、センサの感度および速度を制御することができる。 (もっと読む)


【課題】室温下での動作が可能な強磁性半導体素子及びその制御方法を提供する。
【解決手段】基板11と、基板11上に設けた二酸化チタン層15と、二酸化チタン層15上に設けた遷移元素ドープ二酸化チタン層12と、遷移元素ドープ二酸化チタン層12上に設けた電解液13と、電解液13と接触するよう設けたゲート電極14と、を含む。電解液13は、CsCl、Sr(ClO、KClO、NaClO、LiClOの一以上の電解質を溶媒に溶かしてなる。ゲート電極14へのゲート電圧印加の有無に応じて、遷移元素ドープ二酸化チタン層12の強磁性の強さが変化する。遷移元素はコバルトが好ましい。 (もっと読む)


【課題】強磁性体からなるソース・ドレインと有機チャネルとの間の界面抵抗が低く、良好なトランジスタ動作を実現するスピントランジスタ及び論理回路装置を提供する。
【解決手段】基板5と、基板上に設けられたチャネル層7と、チャネル層上に設けられ、強磁性体を含む第1電極10及び強磁性体を含む第2電極20と、チャネル層上において前記第1及び第2電極との間に設けられたゲート電極8と、チャネル層と第1及び第2電極との間のそれぞれに設けられた第1挿入層30及び第2挿入層40と、を備えたスピントランジスタを提供する。チャネル層は、六員環ネットワーク構造を有する炭素材料からなる。第1及び第2挿入層は、Pを含むGe、Bを含むGe、Pd、Co及びRhの少なくともいずれかを含む、または、Li、Na、Caのいずれか、または、それらのいずれかの化合物を含む。 (もっと読む)


【課題】
3次元磁気センサの小型化、薄型化を図るために、高さの小さいZ軸用マグネトインピーダンスセンサ素子を提供すること。
【解決手段】
Z軸用マグネトインピーダンスセンサ素子は、非磁性体からなる基板と磁性アモルファスワイヤと磁性アモルファスワイヤ被覆絶縁体と磁性アモルファスワイヤ被覆絶縁体の周囲に形成された検出コイルと、これらを被覆する矩形状の素子絶縁体とを有し、素子絶縁体の端面に電極端子を有するものである。 (もっと読む)


【課題】セルサイズの負担が小さいメモリ素子を具現して集積度を向上させることができる。ナノ磁気メモリ素子を提供する。
【解決手段】ナノ磁気メモリ素子のナノワイヤを経て第1電極から第2電極に流れるワード線電流によって磁性ナノドットが摂動された後に再配列される過程で形成される誘導電流の大きさを制御し、前記ナノ磁気メモリセルに複数のデータを書き込み/読み出すことを特徴とするナノ磁気メモリ素子。 (もっと読む)


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