Fターム[5F157BE01]の内容
半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 洗浄液成分による洗浄(無機) (1,715) | 無機成分 (1,715)
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半導体ウェーハの洗浄方法
【課題】 本発明は、洗浄によるウェーハの表面粗さの悪化を低減し、かつ、効果的にウェーハの洗浄を行うことができる半導体ウェーハの洗浄方法を提供する。
【解決手段】 半導体ウェーハを洗浄する方法であって、前記半導体ウェーハをSC1洗浄液により洗浄する工程と、前記SC1洗浄液により洗浄された半導体ウェーハをフッ酸により洗浄する工程と、前記フッ酸により洗浄された半導体ウェーハを、オゾン濃度が3ppm以上のオゾン水により洗浄する工程とを含み、前記SC1洗浄液による半導体ウェーハのエッチング代を0.1〜2.0nmとすることを特徴とする半導体ウェーハの洗浄方法。
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基板処理装置及び基板処理方法
【課題】処理槽の内部において硫酸と過酸化水素とを効率よく混合させ、処理槽の内部にCaro酸を多量かつ均一に生成することにより、基板の表面から有機膜を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、内槽11の内部に硫酸成分を含む液体を吐出する吐出管36a,36bと、吐出管36a,36bから吐出される液体に向けて過酸化水素水を吐出する吐出管55a,55bとを備えている。このため、硫酸と過酸化水素水とを効率よく混合させることができ、それにより、処理槽10の内部においてCaro酸を多量かつ均一に生成することができる。したがって、基板Wの主面からフォトレジスト膜を良好に剥離することができる。
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