説明

Fターム[5F157CD31]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 検知制御 (665) | 検知情報 (664) | 洗浄液、洗浄剤 (245)

Fターム[5F157CD31]の下位に属するFターム

 (69)
温度 (48)
濃度 (74)
種類、質 (4)
濁度、汚染度 (24)
脱気の程度 (5)

Fターム[5F157CD31]に分類される特許

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【解決手段】基板の上方に洗浄剤が配される。洗浄剤は、液体媒質の中に分散された固体成分を含む。液体媒質の中の固体成分に力が加えられ、固体成分を基板の上に存在する汚染物質に接近させる。固体成分に加えられる力は、液体媒質の中の不混和成分によって作用される。固体成分が汚染物質に十分に接近すると、固体成分と汚染物質との間に相互作用が確立される。次いで、固体成分と相互作用した汚染物質が基板から除去されるように、固体成分は基板から遠ざけられる。 (もっと読む)


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