【課題】
【解決手段】極端紫外線リソグラフィー即ちＥＵＬにおいて高出力パルスレーザーを用いるためのレーザー多重化システム及び方法。第１の実施形態では、レーザー発生プラズマ生成のための高出力ＥＵＶレーザー多重化素子（２００）が、少なくとも２つのレーザービーム（２０８）を夫々共通のワークピース上の焦点（２０４）に収束させる少なくとも２つの収束素子（２１０）を備える複合レンズを有する。第２の実施形態では、レーザー多重化装置が、パルスレーザービームを生成するための少なくとも２つのパルスレーザーソースと、少なくとも２つのパルスレーザービーム（３００）を時間的に交互に配置する時間多重化要素（３０２）と、を有する。第３の実施形態では、レーザー多重化組体がビーム形成素子（４０１）を有し、ビーム形成要素は、第１のレーザービーム（４０６ａ）を、第２のレーザービーム（４０６ｂ）の軸と共通の軸に沿って、上記共通の軸を中心として配置されている共通の収束素子（４０５）へと向ける。 （もっと読む）

レーザノズル（１０）の冷間加工方法は、無酸素銅からなる小塊または管（３４）を鋳型（３６）に置く工程を含んでいる。マンドレル（４０）は、前記無酸素銅からなる小塊または管（３４）に押し込まれる。この結果、圧縮力が生じ、上記銅は、マンドレル（４０）の周りに冷間加工され、レーザノズル（１０）の内側の形状および外側の形状が定められる。
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【課題】
【解決手段】
ターゲット材料を囲む少なくとも１つの材料の電気的または物理的な特徴に望ましくない変化を起こすことなく、微視的な領域内においてターゲット材料を処理するためのレーザに基づくシステムにおいて、システムが、シードレーザと、光学増幅器と、ビーム発射装置とを具える。シードレーザは、第１の予め定められた波長を有する連続するレーザパルスを発生するためのシードレーザである。光学増幅器は、増幅された連続する出力パルスを得るために、連続するパルスの少なくとも一部を増幅するための光学増幅器である。ビーム発射装置は、増幅された連続する出力パルスの少なくとも１つのパルスをターゲット材料に発射して焦点を合わせるためのビーム発射装置である。少なくとも１つの出力パルスが約１０ピコ秒から１ナノ秒未満の範囲のパルス持続時間を有する。パルス持続時間が熱処理範囲内である。少なくとも１つの焦点を合わせられた出力パルスがターゲット材料内の位置で十分なパワー密度を有し、ターゲット材料の反射力を減少して、ターゲット材料を除くために焦点を合わされた出力をターゲット材料内に効果的に結びつける。 （もっと読む）

本発明は、ポンピング用レーザダイオードと、前記レーザダイオードから発射された基本波長のレーザ光によって励起されるNd:YAG増幅用媒質（この増幅用媒質の出力面は前記基本波長に対するBrewster角でカットしてある）と、周波数二逓倍用の複屈折性のKNbO₃結晶とを備えた、イントラキャビティー二逓倍されたレーザ装置に関する。このレーザ装置は、更に、前記複屈折性結晶の入力面（８）と増幅用媒質（２）と複屈折性結晶（４）（これらは１つのモノリシック共鳴キャビティーを構成するべく互いに一体化されている）との間に挿入された、等方性媒質（３）を備えている。更に、複屈折性結晶の結晶軸“ｃ”は、Brewster表面によって画定される基本波の偏光の直交方向に対して、ゼロでない角度θ_ｃを成す。 （もっと読む）

放射線反応性歯科修復材料を備えるカプセルアセンブリを形成する方法は、印を人が容易に目視で検出できるように、および／又は光学機械で読み取って検出できるように、外面に対して十分なコントラストを有する印を外面に作り出すのに十分なエネルギーレベルの、レーザーで発生した放射線に容器の外面の選択された部分を露光させる工程を含む。印は、容器内の放射線反応性歯科修復材料の特性を識別し、容器は、容器内の放射線反応性歯科修復材料に対して不活性なレーザーマーキング向上（ＬＥ）ポリマーから形成されている。容器が圧力下で放射線反応性歯科修復材料を分配する能力は、容器の外面に印を作り出すとき、容器をレーザーで発生した放射線に露光させることによって悪影響を受けない。任意に、レーザーマーキング向上（ＬＥ）ポリマーのレーザーで発生した放射線への露光は、弾性キャップをオリフィスに隣接して容器に係合させるのに有用な、１つ以上の隆起した突起を容器上に作り出すのに十分なエネルギーレベルで行われる。
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本発明の一実施形態に係る金属加熱装置は、中心波長が波長範囲２００ｎｍ〜６００ｎｍ内にある光を出力する光出力部を備える。 （もっと読む）

ダイオードレーザによってポンプされる固体マイクロチップアセンブリを受け入れるように変更された標準半導体レーザパッケージを含む小型化レーザパッケージが提供される。本発明に記載される標準パッケージは、小さな寸法、十分に封止されたハウジング、頑丈な取り付け構造物、半導体プロセス加工産業の既知の特徴を有する材料ならびに経済的な製造および組み立て技法特性を特徴とするＴＯおよびＨＨＬパッケージを含む。詳しくは、これらのマイクロチップレーザは、大量生産に有用である高密度技法を用いて製造され、その結果、非常に低い単位コストとなる。同時に、これらのコンパクトなレーザ素子は、いまだに主としてダイオードレーザ製造に共通の標準化された設計、材料および技法に立脚するダイオードレーザからは得られないさまざまな波長および動作特性、ならびに低いノイズ雑音特徴で、高いビーム品質および良好な信頼性特徴のレーザ放射を提供するという課題に解決法を提供する。従って、本発明が教示する方法によって構築されたデバイスは、パワー、信頼性および性能は高度であるが低いコストが不可欠である多数の用途に容易に集積化され、最終的には多数の既存のシステムのダイオードレーザを置き換えるばかりか、多数の新しい商業、生物医学、科学および軍事システムを可能にする。 （もっと読む）

高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源が記載される。ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。

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特別形態の時間的パワープロファイルのレーザパルスは、従来の時間的波形又はほぼ正方形の波形の変わりに、ICリンクを切断する。特別形態のレーザパルスは、好適に、レーザパルスの開始でのオーバーシュート又はレーザパルスの持続時間内のスパイクパルスのいずれかを有する。スパイクピークのタイミングは、リンク部がほぼ完全に除去されるときの時間の前に、好適に設定される。特別形態のレーザパルス・パワープロファイルは、例えば、緑色、UV域などの、レーザパルスの広いパワー範囲と、短いレーザ波長の使用を可能とし、基板及びリンクの側部及び下部のいずれかに配置する不動態化構造部に、ほぼダメージを与えることなく、リンクを切断する。
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光学的にポンピングされる、殊にダイオードポンピングされる安定した固体レーザが一次レーザビームを形成し、この一次レーザビームの周波数は、後置接続されており非線形の結晶を備えている１つまたは複数の受動的な共振器を用いて可視スペクトル領域または紫外線スペクトル領域に変換される。比較的僅かな手間でもって、ほぼ等しい振幅を有するちょうど２つの縦方向のレーザモードがレーザ共振器において発振される。これによって全体システムの高い効率、また結果として生じる周波数変換されたレーザビームの非常に低いノイズレベルが達成される。本発明の実施形態にとっては周波数変換されたビームが３つまたはそれ以上の隣接する周波数を有する。本発明の別の実施形態においては、周波数変換されたレーザビームがただ１つの周波数のみを有し、したがって単一モードレーザのビームに相当する。
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