Fターム[5H307AA01]の内容
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Fターム[5H307AA01]に分類される特許
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半導体工程用ガス流量を制御する差圧式流量制御器
流路に差圧を発生させ、半導体デバイスに用いられるガスの流量を制御する差圧式流量制御器が提供される。差圧発生要素は半導体デバイスの製造に用いられるガスの流路に差圧を発生させ、流路上のバイパスに設置される圧力センサは差圧を検出し、中央処理装置(CPU)はガスの流量を測定および制御する。その結果、本発明は、ガスの流量を精密かつ迅速に制御することができるとともに、差圧発生要素自体のフィルタリング機能によってガスの純度を高めることができる。
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