【課題】例えば半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から排気された有害排ガスを処理する処理装置に於いて、燃焼室から排気された燃焼排ガスを冷却し、且つ燃焼排ガスに含まれた粉塵の回収と有害ガスの吸収を効率的に行えるようにする。
【解決手段】処理装置は、主燃焼室１に於いて供給された排ガスを高温にして燃焼或いは分解し排気筒４から排気する燃焼室Ａと、排気された燃焼排ガスを冷却すると共に該燃焼排ガスに含まれた粉塵を排除する水スクラバーＣと、燃焼室Ａと水スクラバーＣを納める筐体Ｄと、燃焼室Ａの排気筒４と水スクラバーＣとを接続して配置された閉鎖容器状の排ガス通路Ｂと、排ガス通路Ｂに配置された冷却媒体の噴射ノズル２３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 処理の過程で有害な化合物を一切環境中に排出すること無しに、有害有機化合物を無害な化合物にまで分解する方法および装置に提供。
【解決手段】 有害有機化合物７をアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩または硝酸塩を含んでなる溶融塩１２のミスト９またはベーパーと気相において反応させて、分解・無害化することを特徴とする、有害有機物の気相無害化処理方法およびそれを利用した有害有機物の気相無害化処理装置。 （もっと読む）