本発明は、特に二酸化炭素及び硫化水素を含有する酸性ガスを分離するため、溶媒化合物を用いて工業ガスをガス洗浄する工程に関連するものである。発明に関する溶媒化合物はアミン水溶液から成り、前記水溶液はＣＯ_２の吸収を改善するためにアンモニアを含有する。第一級及び第二級アミン基は、一又は二の置換基を有するアミンのいかなる種類も含んでいる。発明に関する溶媒化合物の成分として特に適しているのは、ピペラジン及びピペラジン誘導体である。 （もっと読む）

流体の分離のためのガス処理設備が提供される。この設備は、直列に置かれた並流接触装置を含む。各並流接触装置は、炭化水素ガスまたは窒素などの非吸収性ガスを含むガス流を受け入れる。ガス流は、また、酸性ガスまたは他の汚染物質も含む。各並流接触装置は、また、液体溶媒流を受け入れる。次いで、並流接触装置は、それぞれ、スイートニングされたガス流およびガス処理溶液を放出する。１つの処理方向において、接触装置は、段階的にスイートニングされるガス流を送り出すように配置構成される。反対の処理方向において、接触装置は、段階的によりリッチなガス処理溶液を送り出すように配置構成される。一態様において、設備は、第１の並流接触装置、第２の並流接触装置、および最後の並流接触装置を少なくとも含む。しかし、２以上の任意の数の並流接触装置が用いられ得る。ガス流を分離するための方法およびプロセスもまた提供される。 （もっと読む）

【課題】揮発性有機化合物を含むガスの処理効率を向上可能なガス処理方法を提供する。
【解決手段】揮発性有機化合物を含む被処理ガスを、水、界面活性剤及び植物性油を含むエマルジョン１７と接触させること、エマルジョン１７と接触後の被処理ガスを担体配置部１２に充填された微生物担持担体１８ａ，１８ｂに接触させること、及び微生物担持担体１８ａ，１８ｂに、水、界面活性剤及び植物性油を含むエマルジョンを散布手段１３から散布することを含む。 （もっと読む）

本発明は、ＣＯ₂等の酸性ガスの吸収条件下で単一層の吸収溶液を得ることができる、特定の第１級または第２級アミンとともに配合されたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヘキサン−１，６−ジアミンの水溶液を使用した吸収方法における、ガス状流出物からの酸性化合物の除去に関する。本発明は、天然ガスおよび産業起源のガスの処理に有利に適用される。
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【課題】攪拌装置に電動機や減速機を不要にするとともに、簡略な機構で攪拌羽根の駆動軸を低速回転させることができる排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】担体を充填した担体層２に排気ガスを導いて処理するとともに、該担体層２を攪拌羽根３により攪拌する攪拌装置を設けた排ガス処理装置において、ラチェット歯車１１と、ラチェット歯車１１に噛合するラチェット爪８を備えた爪付きアーム７とを同軸かつ個別に回転可能に設け、ラチェット歯車１１と爪付きアーム７の一方を攪拌羽根３の駆動軸４に接続するとともに、ラチェット歯車１１と爪付きアーム７のもう一方をシリンダ１３のロッド１４に揺動可能に接続する。 （もっと読む）

本発明は、ガス精製中に得られ、ＣＯ_２と硫黄化合物が化学的に結合したアミン含有洗浄溶液を再生する方法、および前記方法を実施するのに好適なシステムに関する。本発明によれば、ａ）汚染洗浄溶液を、数段階で加熱、圧縮および膨張して、ＣＯ_２と硫黄化合物を分離し、ｂ）膨張した洗浄溶液を２つの部分ストリームにさらに分け、一方の部分ストリームをプロセスに再循環する。 （もっと読む）

吸収剤溶液を再生するためのシステム(100)であって、該システムは、ボイラー(130)によって生成されたスチーム；ボイラーに流動的に結合された圧力タービンセット(132)；ボイラーによって生成されたスチームの少なくとも一部をサイホン化するサイホン機構(134)；及びサイホン機構に流動的に結合された再生システム(118)を包含してなり、サイホン化スチームを再生システム用の熱源として使用する。
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【課題】炭化水素と共存する重質硫黄系ガスを除去する脱臭方法および脱臭装置を提供する。
【解決手段】炭素数２以上である重質メルカプタンおよび炭素数３以上の重質スルフィドの少なくともいずれかを含む重質硫黄系ガスと、炭化水素ガスとからなる混合ガスに対し、含まれる酸化性化合物の濃度が５００〜３，０００質量ｐｐｍで、かつ、水素イオン濃度（ｐＨ）が１０〜１３である洗浄液を前記混合ガスと接触させ、重質硫黄系ガスを酸化性化合物と反応させることにより除去する。 （もっと読む）

【課題】有機系汚染物、悪臭成分、細菌類などの有害物質を含有するガスの無害化処理、特にオゾンによる無害化効率を向上させた有害物質含有ガスの無害化処理の提供。
【解決手段】有害物質含有ガスにオゾンを添加、混合し、該ガスを、オゾンを吸着し、かつ有害物質を吸着するホウ素ドーピング高シリカゼオライト、ホウ素ドーピング高シリカメソポーラスシリカ、及び水熱合成ホウ素含有高シリカゼオライトの群から選ばれた少なくとも一種を用いる吸着剤充填層に流過させ、ガス中の有害物質をオゾンの作用により無害化する方法、並びに、上記吸着剤層６ａを設けた吸着剤充填塔６と、吸着剤充填塔にガスを供給する供給管と、該供給管に接続され、ガス中にオゾンを添加するオゾン発生器５と、処理ガスを排出する排出管７とを備える有害物質含有ガスの処理装置であって、吸着剤充填塔の下流側に、リークするオゾンを分解するオゾン分解剤層６ｂが設けられている。 （もっと読む）

本発明は、CO₂および少なくとも１つの不純物を含む供給流れの精製方法に関し、次の連続する工程：ａ）予熱する工程；ｂ）圧縮工程；ｃ）前記圧縮ガス流に含まれ、窒素、酸素、アルゴンおよび希ガスから選ばれる少なくとも１つの不純物の除去を冷却サイクル、すなわち温度＜５℃、好ましくはゼロを下回る、中で分離器と組み合わされる交換器を用いることを含む工程；ｄ）CO₂富化精製ガス流れが液体、ガスまたは超臨界の形態で回収する工程を含む。本発明は、精製工程が窒素酸化物および水から選択される少なくとも１つの不純物を少なくとも部分的に除去するために工程ａ）とｃ）の間で遂行される。 （もっと読む）