【課題】照度が低い日常的な室内環境等においても、実用的な光触媒性能を示す可視光応答型光触媒粉末を提供する。
【解決手段】可視光応答型光触媒粉末は、照度が２００ｌｘ以上２５００ｌｘ以下の範囲の可視光下において、有機ガス分解能力が照射光量に対して非線形な応答を示す。可視光応答型光触媒粉末は、流通式装置に０．２ｇの試料を入れた状態で、初期濃度１０ｐｐｍのアセトアルデヒドガスを流して測定したガス濃度において、光照射前のガス濃度をＡ、光照射から１５分以上経過し、かつ安定したときのガス濃度をＢとし、ガス濃度Ａとガス濃度Ｂから［式：（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００］に基づいて算出した値をガス分解率（％）としたとき、例えば波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が２５００ｌｘの可視光を照射した際に２０％以上のガス分解率を有する。 （もっと読む）

【課題】 窒素酸化物、金属水銀および塩素化物を含む排ガスを、アンモニアおよび脱硝触媒の存在下に脱硝処理する方法において、排ガスが高温で、かつ排ガス中のCl濃度が低い場合（10ppm以下）や、SO_２及びNH_３が存在していても、Hg酸化率の低下を抑制し、かつ高いHg酸化性能を達成すると同時に、SO_２酸化率も低く維持できる排ガス処理方法および触媒を提供する。
【解決手段】窒素酸化物、金属水銀および塩素化物を含む排ガスを、アンモニアおよび脱硝触媒の存在下に還元脱硝するとともに、金属水銀を塩化水銀に酸化する排ガス処理方法であって、前記触媒が酸化チタンに、モリブデンまたはタングステン、およびバナジウムの各酸化物、並びに銀化合物を担持した排ガス処理方法。 （もっと読む）

【課題】不活性雰囲気下で一酸化炭素を効率よく除害処理することができる一酸化炭素の除害剤を提供する。
【解決手段】半導体製造工程等から排出される排ガス中の有害な一酸化端を除害する除害剤であって、主成分となるマンガン酸化物に、金、白金、銀、ロジウムのうち少なくとも一種の金属単体又はこれらの金属化合物を添加した一酸化炭素の除害剤。マンガン酸化物は酸化マンガン(III)又は酸化マンガン(IV)を単独であるいは混合して使用することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えつつ、パティキュレート等の高沸点物質に対して優れた酸化性能を備える排ガス浄化用酸化触媒を提供する。
【解決手段】排ガス浄化用酸化触媒は、一般式Ｍｎ_{２−ｘ−ｙ}Ａｇ_ｘＺｒ_ｙＯ_３で表され、０．０５≦ｘ≦０．２かつ０．０５≦ｙ≦０．３である複合酸化物を含む。前記一般式において、０．０５≦ｘ≦０．２かつ０．０５≦ｙ≦０．３である。また、排ガス浄化用酸化触媒は、一般式Ｍｎ_{２−ｘ−ｙ−ｚ}Ａｇ_ｘＺｒ_ｙＭ_ｚＯ_３で表される複合酸化物を含む。前記一般式において、ＭはＣｅ、Ｒｕ、Ｎｉ、Ｃｏからなる群から選択される１種の金属であり、０．０５≦ｘ≦０．２かつ０．０５≦ｙ≦０．３かつ０．０２≦ｚ≦０．２である。前記複合酸化物は、いずれもＹを含まないので安価であり、排ガス浄化用酸化触媒として用いることにより、カーボンブラック燃焼ピーク温度を実用上必要とされる３４０℃以下の温度とすることができる。 （もっと読む）

【課題】照度が低い日常的な室内環境等においても、実用的な光触媒性能を示す可視光応答型光触媒粉末を提供する。
【解決手段】可視光応答型光触媒粉末は酸化タングステン粉末または酸化タングステン複合材粉末を具備する。初期濃度１０ｐｐｍのアセトアルデヒドガスを流して測定したガス濃度において、光照射前のガス濃度をＡ、光照射から１５分以上経過し、安定したときのガス濃度をＢとし、ガス濃度Ａとガス濃度Ｂから［（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００］に基づいて算出した値をガス分解率（％）とする。可視光応答型光触媒粉末に波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が６０００ｌｘの可視光を照射した際のガス分解率（Ｇ１）に対し、同一試料量の可視光応答型光触媒粉末に波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が２５００ｌｘの可視光を照射した際のガス分解率（Ｇ２）の比（Ｇ２／Ｇ１）が７４％以上である。 （もっと読む）

【課題】照度が低い日常的な室内環境等においても、良好な光触媒性能を得ることが可能な可視光応答型光触媒粉末を提供する。
【解決手段】可視光応答型光触媒粉末は酸化タングステン粉末または酸化タングステン複合材粉末を具備する。流通式装置に０．２ｇの試料を入れた状態で、初期濃度１０ｐｐｍのアセトアルデヒドガスを１４０ｍＬ／ｍｉｎで流して測定したガス濃度において、光照射前のガス濃度をＡ、光照射から１５分以上経過し、かつ安定したときのガス濃度をＢとし、ガス濃度Ａとガス濃度Ｂから［式：（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００］に基づいて算出した値をガス分解率（％）としたとき、可視光応答型光触媒粉末は波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が２００ｌｘの可視光を照射した際に５％以上のガス分解率を有する。 （もっと読む）

【課題】パラフィンを不飽和モノニトリルへ、特にプロパン及びイソブタンをアクリロニトリル及びメタアクリロニトリルへそれぞれアンモ酸化するためのバナジウム及びアンチモンを含有する混合金属酸化物触媒を提供する。
【解決手段】式：
ＶＳｂ_aＭ_bＯ_x
（式中、Ｖはバナジウムであり、Ｓｂはアンチモンであり、Ｍは、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、珪素、ハフニウム、チタン及びニオブからなる群より選択される少なくとも一種の元素であり、ａは０．５〜２０であり、ｂは２〜５０であり、ｘは、存在する他の元素の原子価要件により決定されるものであり、かつ、バナジウムとアンチモンはＭの酸化物のマトリックス中において分離されている。）
の化合物を含む触媒組成物。 （もっと読む）

【課題】内燃機関の排ガス中のパティキュレートをより低温で酸化し浄化することができる排ガス浄化用酸化触媒装置を提供する。
【解決手段】排ガス浄化用酸化触媒装置１は、軸方向に貫通して形成された複数の貫通孔のうち、排ガス流入部４ａが開放されるとともに排ガス流出部４ｂが閉塞された複数の流入セル４と、複数の貫通孔の排ガス流入部５ａが閉塞されるとともに排ガス流出部５ｂが開放された複数の流出セル５とを備え、流入セル４及び流出セル５を交互に配設して各セル４，５の境界部をセル隔壁６とするウォールフロー構造を有する多孔質フィルタ基材２と、セル隔壁６の少なくとも流入セル４側の表面に担持された多孔質複合金属酸化物からなる多孔質触媒層３とを備え、多孔質触媒層３は、直径が０．０１〜５μｍの範囲である細孔を備え、多孔質フィルタ基材２及び多孔質触媒層３全体の気孔率が、３５〜７０％の範囲である。 （もっと読む）

【課題】排ガス中のパティキュレートを酸化し浄化する温度を低くし、排ガスの圧損を小さくできる排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｙ、Ｍｎ、Ａｇ及びＲｕの塩を水に溶解して触媒原料水溶液を作成し、流入セル４、流出セル５及びセル隔壁６を有する多孔質フィルタ基材２に該触媒原料水溶液を導入して、該多孔質フィルタ基材を構成する粒子表面に該触媒原料水溶液を塗布し、焼成して、該粒子表面にＹ、Ｍｎ、Ａｇ及びＲｕを含む複合金属酸化物からなる触媒を均一に担持させる。前記複合金属酸化物は、組成式がＹ_１−ｘＡｇ_ｘＭｎ_１−ｙＲｕ_ｙＯ_３で表され、０．０１≦ｘ≦０．１５かつ０．００５≦ｙ≦０．２である。 （もっと読む）

【課題】内燃機関の排ガス中のパティキュレートをより低温で酸化し浄化することができる排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法を提供する。
【解決手段】排ガス浄化用酸化触媒装置１の製造方法は、複数の金属の化合物を焼成して焼成物を得る工程と、該焼成物と水とジルコニアからなるゾルであるバインダーとを混合粉砕してスラリーを作製する工程と、スラリーを多孔質フィルタ基材２に塗布する工程と、該多孔質フィルタ基材２を焼成して、多孔質フィルタ基材２に担持された多孔質触媒層３を形成する工程とを備える。多孔質触媒層３は、直径が０．０１〜５μｍの範囲である細孔と１０〜１５０μｍの範囲である厚さとを備え、多孔質フィルタ基材２及び多孔質触媒層３全体の気孔率が３５〜７０％の範囲である。多孔質触媒層３は、一般式Ｙ_１−ｘＡｇ_ｘＭｎ_１−ｙＲｕ_ｙＯ_３（０．０１≦ｘ≦０．１５かつ０．００５≦ｙ≦０．２）で表される複合金属酸化物である。 （もっと読む）