【課題】 バイアル内側面からのアルカリ溶出が少ないバイアルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ホウケイ酸ガラス管よりバイアルを成形するバイアル製造方法において、バイアルの底部を成形してカップ形状とする第１工程と、前記カップ形状の口部を成形する第２工程によりアルカリ溶出を低下させたバイアルを製造する。必要に応じて、バイアルの底部より所定長口部側の内側面を炎でファイアブラストして加工劣化域を除去する。 （もっと読む）

【課題】可視域の透過率の低い着色不透明部と有する強化ガラスの圧縮応力量を非破壊で算出することができる、強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法を提供する。
【解決手段】着色不透明ガラス１０と透明ガラス２０とを積層して一体化し、一体化したガラスの表面に圧縮応力層を形成した強化ガラス１である。加熱し溶融した前記着色不透明ガラス１０を固化状態の前記透明ガラス２０に接触させた状態で冷却し、前記着色不透明ガラス１０を固化することにより積層して一体化し、その際に熱強化処理とする。透明ガラス１０の圧縮応力層の圧縮応力量の測定値は、着色不透明ガラス１０又は強化ガラス１の圧縮応力量の算出に用いられる。 （もっと読む）

【課題】バイアル内側面からのアルカリ溶出が少ないバイアルを形成するためのホウケイ酸ガラス管の処理方法を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸ガラス管の処理方法は、ガラス管の内側面を炎でファイアブラストする。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用基板に表面欠陥が発生した場合でも、簡便にかつ基板の平坦度及び表面粗さに悪影響を及ぼすことなくマスクブランク用基板の表面欠陥を修正することのできる、低コストかつ高い歩留まりのマスクブランク用基板の製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の２つの主表面を研磨する工程と、前記基板の主表面に存在する表面欠陥に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させて前記表面欠陥を修正する工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】裏面のラフネスが大きい透明材料や、欠陥が存在する透明材料などであっても、被加工面を精度良く加工することができるレーザー加工方法を提供する。
【解決手段】レーザー光を用いて透明材料を加工する方法であって、レーザー光の発振波長は、１９３〜１１０００ｎｍであり、且つ、透明材料は、レーザー光の吸収係数が１ｃｍ^−１以下であり、透明材料の被加工面に対し、レーザー光の吸収係数が１μｍ^−１以上のレーザー光吸収物質を付着させるレーザー光吸収物質付着工程と、透明材料に付着させたレーザー光吸収物質の表面側からレーザー光を照射し、透明材料の被加工面に加工を施すレーザー加工工程とを含むことを特徴とする、透明材料のレーザー加工方法である。 （もっと読む）

本発明は、基板の端部を滑らかにし且つ／或いは斜角付けする方法に関する。また、本発明は、本発明による方法によって製造される基板に関し、特に、本発明による方法によって滑らかにされ且つ／或いは斜角付けされた端部を有する基板に関する。

（もっと読む）

【課題】医療用ガラス容器の内面を加熱処理するバーナーであって、ノズル１本当たりのバイアルの処理数を向上させることができる手段を提供する。
【解決手段】ポイントバーナー１０は、混合ガスが流通される第１流路１３を有するバーナー本体１１と、バーナー本体１１の第１流路１３と連続される第２流路１６を有し、加工対象のバイアル５０の内部空間５２に挿入可能な細長形状のノズル１２と、を具備する。このノズル１２はセラミック製のノズル部１４を有する。 （もっと読む）

【課題】生産性を落さずに火炎研磨後のガラス母材の振れ回りを減少させることができるガラス母材の火炎研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス母材の火炎研磨方法は、回転する光ファイバ用ガラス母材１の表面を光ファイバ用ガラス母材１の軸方向に相対的に移動する酸水素火炎１３を用いて火炎研磨する。そして、光ファイバ用ガラス母材１の回転数を、芯出し時は毎分４０回転で回転させ、その後の火炎研磨時は毎分２０回転まで減速して回転させる。 （もっと読む）

【課題】表面構造、特に、非常に精密な表面構造を、未加工ガラス体の基材表面に導入することができる方法を提供すること。
【解決手段】ガラス溶融物から予備成形されかつ既に核形成温度（Ｔ_Ｋｂ）より低い温度に冷却された未加工ガラス体を、ガス赤外多孔発光器によって、ガラスの粘性が１０^６．６Ｐａ ｓ〜１０^９Ｐａ ｓとなるような表面温度に再加熱し、その後、二次成形工程に供し、続いて、高い冷却速度で、変態温度Ｔｇまたはそれより低い温度まで冷却する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を直接載置して熱処理するに際して、セッターに実質的に反りが発生することなく、セッターの表面形状がガラス基板に転写せず、ガラス基板をセッターに安定して載置可能であり、かつ、ガラス基板のセッターからの分離を容易に行うことができるガラス基板の熱処理用セッターの提供。
【解決手段】ガラス基板Ｇを載置面に載置した状態で加熱炉内に導入されるガラス基板熱処理用セッター１おいて、熱膨張係数が１５×１０^−７／Ｋ以下の結晶化ガラスからなり、載置面の平坦度が０．３％以下であり、かつ、載置面の表面粗さがＲａ値で０．１〜１μｍの範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）