国際特許分類[C03C3/083]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ガラスの組成物 (4,759) | シリカを含むもの (3,673) | 重量比で40%から90%シリカを有するもの (2,451) | 酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの (790)
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二価金属の酸化物を含むもの (606)
国際特許分類[C03C3/083]に分類される特許
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。
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強化ガラスの製造方法および強化用ガラスの製造方法
【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する強化ガラスを得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 0〜30%、Li2O+Na2O+K2O 8〜30%、Na2O 8〜20%含有し、ガラスバッチの一部に水酸化物原料を用いて作製されてなり、且つβ−OH値が0.3〜1/mmであることを特徴とする。
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磁気記録媒体用ガラス基板
【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より3.5mm以上外周側でかつ外周端面より3.5mm以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が0.5nm未満であることを特徴とする。
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薄膜化合物太陽電池用ガラス基板及びその製造方法
【課題】本発明は、ガラス基板の表面を研磨処理しなくても、表面品位が良好な太陽電池用ガラス基板を得ることにより、太陽電池の品質向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ(Ra)が20Å以下、好ましくは10Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。
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磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が1〜80nmのシリカ粒子を含有し、pHが3.5〜5.5で電気伝導率が7mS/cm以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。
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携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材
【課題】薄くても非常に高い強度を持つ携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材を提供する。
【解決手段】化学強化によるカリウムイオンを含有する圧縮応力層1aを有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材1であって、前記主表面においてカリウムイオンが5000ppm以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層1aを有し、前記ガラス基材1の厚さが0.5mmとなるように構成され、前記ガラス基材1の外周の縁部を支持した状態で前記主表面の中央部を加圧子により加圧した際の破壊荷重が546N以上であることを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
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化学強化ガラス板
【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60%以上、Al2O3を3%以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが0.4〜2.0mm、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σCが400MPa〜1GPa、前記圧縮応力層の深さDCが15〜30μmであることを特徴とする化学強化ガラス板。
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ガラスの製造方法及びガラス
【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜3%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であることを特徴とする。
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携帯機器用カバーガラスのガラス基材
【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板1が、ガラス基板1の一方及び他方の主表面11,12のそれぞれからエッチングされることにより、所望の形状に切り抜かれてなるとともに、主表面11,12の面方向外側へ突出する頂部14が端面13に形成された携帯機器用カバーガラスのガラス基材1であって、端面13の頂部14には、丸みが形成され、主表面11,12と端面13との間の面取り寸法が10〜100μmであるガラス基材1。
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