国際特許分類[C03C3/091]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ガラスの組成物 (4,759) | シリカを含むもの (3,673) | 重量比で40%から90%シリカを有するもの (2,451) | ほう素を含むもの (849) | アルミニウムを含むもの (688)
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亜鉛またはジルコニウムを含むもの (277)
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、SiO2+Al2O3+B2O3を0.1〜60質量%含有し、質量比(BaO+La2O3+Nb2O5+TiO2+ZrO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)が0.1〜50、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(BaO+La2O3+Nb2O5+TiO2+ZrO2)が0〜10、質量比(TiO2+ZrO2)/(BaO+La2O3+Nb2O5)が0.001〜40、屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル%で、SiO2+Al2O3+B2O3 20〜70%、SiO2 20〜70%、B2O3 0〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、BaO+La2O3+Nb2O5+ZrO2+TiO2 0〜30%を含有し、モル比B2O3/SiO2が0〜1、モル比SiO2/(MgO+CaO+SrO+BaO+La2O3+Nb2O5)が0.1〜6、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO+La2O3+Nb2O5+Gd2O3)が0.1〜0.99であると共に、屈折率が1.55〜2.3であることを特徴とする。
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半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管
【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO2 46〜60%、Al2O3 0〜6%、B2O3 13〜30%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、ZnO 0〜20%、Li2O 9〜25%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜7%、TiO2 0〜8%含有し、Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)がモル比で0.48〜1.00の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。
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磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が550℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を62〜74%、Al2O3を6〜18%、B2O3を7〜15%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8〜21%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量合計が70%以上、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。
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無アルカリガラス
【課題】CSP等の用途に要求される種々の特性を満足し得る無アルカリガラス、特にSiと整合する熱膨張係数を有する無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、mol%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 9〜15%、B2O3 11〜20%、CaO 8〜12%を含有し、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3の値が0.8〜1.2であって、密度が2.37g/cm3以下、102.5dPa・sにおける温度が1600℃以下であることを特徴とする。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスおよびそれを結晶化させてなるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス
【課題】例えばフロート成形により作製された場合であっても、白濁が生じにくく透明感の高いLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラス、および当該Li2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスを結晶化させてなるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として質量%で、SiO2 55〜75%、Al2O3 19〜24%、Li2O 3〜4%、TiO2 1.5〜2.8%、TiO2+ZrO2 3.8〜4.8%、SnO2 0.1〜0.5%を含有し、かつ、4≦Li2O+0.741MgO+0.367ZnO≦4.5の関係を満たすことを特徴とするLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラス。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、フッ酸系薬液に対するエッチングレートが速く、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、薄型のディスプレイパネルの製造工程において、スループットを向上させ、更にp−Si・TFTの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 58〜70%、Al2O3 15.5〜20%、B2O3 0〜1%、MgO 0〜5%、CaO 3.5〜16%、SrO 0.5〜6.5%、BaO 5〜15%を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が725℃より高いことを特徴とする。
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多孔質ガラスの製造方法
【課題】 ガラス内部にまでナノサイズの孔径で高い多孔度を有する多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくともホウ素を含有するガラス体を得る工程と、前記ガラス体を相分離させる工程と、前記相分離されたガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppmであるホウ素含有溶液に接触させる工程と、を有する多孔質ガラスの製造方法。
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硼珪酸ガラスの製造方法
【課題】泡の残存数が少ない硼珪酸ガラスを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料を溶融することによりガラス融液を得、前記ガラス融液を冷却することにより硼珪酸ガラスを製造する方法において、塩化物と硝酸塩とを含み、B2O3の含有量が18質量%以下であるガラス原料を用いる。
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強化ガラス及びその製造方法
【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量%で、SiO245〜75%、Al2O35〜25%、Li2O+Na2O+K2O8〜30%、Na2O8〜20%、K2O0〜10%含有し、β−OH値が0.01〜0.5/mmであることを特徴とする。ガラス中のβ−OH値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。
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