高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するＰ₂Ｏ₅−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成：３３〜７５％のＰ₂Ｏ₅、２〜５２％のＳｉＯ₂、８〜３５％のＡｌ₂Ｏ₃を有する。
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高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｐ₂Ｏ₅三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成：５５〜８０％のＳｉＯ₂、１２〜３０％のＡｌ₂Ｏ₃、および２〜１５％のＰ₂Ｏ₅を有する。
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化学的焼戻しのためのガラス組成物は：ＳｉＯ_２６０〜７５；Ａｌ_２Ｏ_３１８〜２８；Ｌｉ_２Ｏ３〜９；Ｎａ_２Ｏ０〜３；Ｋ_２Ｏ０〜０．５；ＣａＯ０〜３；ＭｇＯ０〜３；ＺｒＯ_２０〜３のｗｔ％範囲で酸化物を含む：ここでＭｇＯ＋ＣａＯは０〜６ｗｔ％であり；Ａｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２は１８〜２８ｗｔ％であり、そしてＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏは、０．０５〜３．００ｗｔ％である。このガラスは、１３２８°Ｆ（７２０℃）〜１４９９°Ｆ（８１５℃）の温度範囲でｌｏｇ１０粘度温度；２４３７°Ｆ（１３３６℃）〜２５７５°Ｆ（１４１３℃）の温度範囲で液相線温度、および１５４４°Ｆ（８４０℃）〜１７２４°Ｆ（９４０℃）の温度範囲でｌｏｇ７．６軟化点温度を有する。化学的に焼戻しされたガラスは、他の特性の中でも、７２〜７８ＫＰＳＩの侵食破壊係数および７６〜１１２ＫＰＳＩの破壊係数を有する。 （もっと読む）