【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 ＴｉＯ_２成分、ＷＯ_３成分、ＺｎＯ成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、１０〜７５％含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。 （もっと読む）

【課題】基材上に、優れた光触媒活性と可視光応答性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミックス複合体の製造方法は、酸化物換算組成のモル％で、ガラス中に、酸化タングステン成分を１０〜９５％含有し、さらにＰ_２Ｏ_５成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分、及びＧｅＯ_２成分のうち少なくとも１種以上の成分を５〜６０％含有するように調整された原料組成物から得られた粉砕ガラスを基材上で焼成して、少なくとも酸化タングステン及び／又はその固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックス層を形成する。 （もっと読む）

本発明は高温耐性の基部を具えるモジュール型部品に関連しており、当該高温耐性基部は、セラミックキャピラリ膜を導入するための少なくとも１の貫通路、及び金属又はセラミックの底部と少なくとも１のセラミックキャピラリ膜との間に十分な気密と高温耐性の接合部として形成される少なくとも１のポッティングを有する少なくとも１の金属又はセラミック底部を有している。少なくとも１の金属又はセラミック底部の少なくとも１の貫通穴は、金属又はセラミック底部の少なくとも一面上に十分な気密と高温耐性の接合に対応するための拡張部を有している。 （もっと読む）

乾燥ガラス系フリット、および乾燥ガラス系フリットを製造する方法が開示されている。ある実施の形態において、乾燥ガラス系フリットは、バナジウム、リンおよび金属ハロゲン化物を含む。ハロゲンは、例えば、フッ素または塩素であってよい。別の実施の形態において、乾燥ガラス系フリットを製造する方法は、そのフリットのバッチ材料をか焼し、次いで、バッチ材料を窒素雰囲気などの不活性雰囲気中で溶融する各工程を有してなる。さらに別の実施の形態において、乾燥ガラス系フリットを製造する方法は、フリットのバッチ材料をか焼し、次いで、バッチ材料を窒素雰囲気などの空気雰囲気中で溶融する各工程を有してなる。
（もっと読む）

【課題】グラスライニング表面からのアルカリ成分等の溶出を抑制した、低溶出性グラスライニング及びその製造方法、並びに低溶出性グラスライニングから構成されるグラスライニング構造物を提供すること。
【解決手段】本発明の低溶出性グラスライニングは、金属基材と、下引きグラスライニング層と、上引きグラスライニング層と、ポリテトラフルオロエチレン層とから構成されるグラスライニングであって、前記ポリテトラフルオロエチレン層と接する前記上引きグラスライニング層の表面が脱アルカリ処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明誘電体ガラス組成において、透過率が高く、さらにＰＤＰに代表される電子材料基板の電極周辺に発生する空洞を抑制することができる電子材料基板用の絶縁性被膜材料が望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、質量％で、ＳiＯ_２ ０〜５、Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜３５、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５、ＺｎＯ ３０〜４０、ＢaＯ ２２〜３２、Ｆ ０．１〜４含むことを特徴とする無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（７５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５５０℃以上５８０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、質量％表示で、ＳiＯ_２ ５〜２５、Ｂ_２Ｏ_３ ３５〜６５、ＺｎＯ １０〜４０、ＢaＯ ０〜３、ＺｒＯ_２ ０〜７、ＣｏＯ ０．０１〜２、ＣｅＯ_２ ０．０１〜２、ＣｕＯ ０〜２、Ｋ_２Ｏ ０．０１〜５(ただし５は含まず)、Ｆ_２ ０〜１０、であり、かつ、Ｌi_２ＯとＮa_２Ｏの合計量 １〜１５、であることを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量％でＳiＯ_２を１２〜３０、Ｂ_２Ｏ_３を３５〜５５、ＺｎＯを１５〜３０、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｏＯを０．０１〜２、ＣｅＯ２を０．０１〜２、Ｆ_２を０〜１０、さらにＬi_２Ｏ、Ｎa_２Ｏ、Ｋ_２Ｏのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１８含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２系無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量％でＳiＯ_２を２５〜４０、Ｂ_２Ｏ_３を３５〜５５、ＺｎＯを５〜１４、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｏＯを０．０１〜２、ＣｅＯ２を０．０１〜２、Ｆ_２を０〜１０、さらにＬi_２Ｏ、Ｎa_２Ｏ、Ｋ_２Ｏのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１８含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２系無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量％でＳiＯ_２を２５〜４０、Ｂ_２Ｏ_３を３５〜５５、ＺｎＯを５〜１４、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｕＯを０．１〜２、Ｆ_２を０〜１０、さらにＬi_２Ｏ、Ｎa_２Ｏ、Ｋ_２Ｏのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１８含むことを特徴とする、ＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２系無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴も持つ。 （もっと読む）