【課題】感度、解像度、パターン疎密度への依存性、表面平滑性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、ＳＯ_２に隣接したフッ素原子を含むノルボルナン構造を有する酸発生剤と樹脂成分とを含有し、樹脂成分は、ポジ型では、ヒドロキシスチレンとｔ−ブトキシスチレンとの共重合体に代表される樹脂（Ｂ１）または（メタ）アクリル酸アダマンチルおよび／または（メタ）アクリル酸５−オキソ−４−オキサトリシクロノニルと（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルとの共重合体に代表される樹脂（Ｂ２）から選ばれ、ネガ型では、ヒドロキシスチレン、（メタ）アクリル酸ないしマレイン酸の１種以上を必須成分とする（共）重合体に代表される樹脂と架橋剤とを含有する。 （もっと読む）

本発明は、殺菌、抗バクテリア、抗感染、抗菌、殺胞子、消毒、抗真菌および抗ウイルス化合物および組成物、並びに治療へのかかる組成物の新規な使用に関する。本明細書は、かかる新規な化合物および組成物の使用方法についても記載する。更に本明細書は、かかる化合物の調製方法も記載する。 （もっと読む）

【課題】 燃焼性が比較的高く、人体蓄積性に問題がなく、発生する酸の酸性度および沸点が十分高く、レジスト被膜中での拡散長が適度に短く、またマスクパターン依存性が小さい新規な感放射線性酸発生剤、該酸発生剤に関連するスルホン酸（誘導体）、並びに該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 感放射線性酸発生剤は、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有する。
【化１】


〔但し、Ｒはフッ素含有率が５０重量％以下である１価の有機基で、置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状の１価の炭化水素基、または該置換されてもよい１価の炭化水素基が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −等に結合した基を示し、Ｚ¹ およびＺ² はフッ素原子またはパーフルオロアルキル基を示す。〕
感放射線性樹脂組成物は、該酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】パターン形成時における解像度がライン・アンド・スペースパターンで９０ｎｍ以下かつ孤立ラインパターンで１００ｎｍ以下の特性を有し、下記式（１）の構造を有する酸発生剤と、酸解離性基を有するアルカリ不溶またはアルカリ難溶性の樹脂であり上記酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性になる酸解離性基含有樹脂とを含む。
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物理化学的性質に優れたシブトラミンの新規スルホン酸塩を開示する。また、前記化合物の製造方法、および前記化合物を含む薬学的組成物を開示する。 （もっと読む）

燃焼性や人体蓄積性に問題がなく、発生する酸の酸性度および沸点が高く、レジスト被膜中での酸の拡散長が適度に短く、マスクパターンの疎密度への依存性が小さく、平滑性に優れたレジストパターンを形成しうる新規な酸発生剤、該酸発生剤から発生するスルホン酸、該酸発生剤を合成する原料等として有用なスルホニルハライド化合物、並びに該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
酸発生剤は、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有する。


〔但し、Ｒ^１はアルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルコキシスルホニル基等の１価の置換基を示し、Ｒ^２〜Ｒ^４は水素原子またはアルキル基を示し、ｋは０以上の整数、ｎは０〜５の整数である。〕
感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。
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高い酸強度、低揮発性および低拡散率を有する光酸を提供する、光活性部分と過フッ素化多官能性アニオン部分（または初期アニオン部分）とを含む光酸発生剤（ＰＡＧ）が開示される。本発明はさらに、マイクロリソグラフィのためのフォトレジストおよび光重合などの用途のための光開始または酸触媒方法において用いられるような光酸発生剤に関する。 （もっと読む）