本発明は、フォトリソグラフィーによるサブミクロンパターン化に有効である新規なジアゾナフトキノンスルホン酸ビスフェノール誘導体、及びその作成方法を提供する。具体的には、本発明はアルカリ可溶樹脂、光活性化合物、及び界面活性剤とを含むフォトレジストコーティング膜に関する。作成されたフォトレジスト膜の膜厚は１ミクロン未満である。光活性化合物はアルカリ水溶液中に可溶性又は膨潤性を有し、光活性化合物として以下の式Ａで示されるジアゾナフトキノンスルホニクビスフェノルエステルが挙げられる。
（式Ａ）


ここで、DNQは2-ジアゾ-1-ナフトキノン-4-スルホニル, 2-ジアゾ-1-ナフトキノン-5-
スルホニル、1-ジアゾ-2-ナフトキノン-4-スルホニル基を示し、R, R¹はアルキル、アリ
ール、及び置換アリール基を示す。本発明は、さらに光感応性組成物をコーティング及び撮像する方法も提供する。
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【課題】 過酸化物を用いることなく、しかも脱塩のための冷却工程を不要とする低ホルムアルデヒド含有量のナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の製造方法を提供する。
【解決手段】 スルホン化及びホルムアルデヒド縮合反応後の反応混合物中のナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のスルホン酸基に対して、０．８〜１．２当量のＮａＯＨと、これに加えてＣａ（ＯＨ）₂とを加えることにより、アルカリ化をｐＨ１０．５〜１２．５の範囲で行う。次に、アルカリ化により生成した石膏を遠心分離、濾過等により除去する。 （もっと読む）

【課題】 イオン交換容量、触媒性能、プロトン伝導性が高く耐熱性に優れた固体酸の製造方法および固体酸の提供、およびこれを使用したプロトン伝導膜、固体酸触媒、イオン交換膜、膜電極接合体、燃料電池の提供。
【解決手段】 有機化合物を重縮合剤の存在下で減圧し、減圧下で加熱処理する際、反応温度と圧力条件を最適化することでスルホン酸化と炭化を同時に行い、１ステップの反応で固体酸を製造することにより、従来、スルホン酸化と炭化の２ステップ必要であった工程が１ステップになり製造コストを大幅に削減できるとともに、さらに高い酸価および硫黄含有率の高い固体酸を提供でき、従来２ステップで行っていた方法に比べ、高い触媒性能、イオン交換性能、プロトン伝導度を有する固体酸を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 医薬等の有用な原料である6−クロロ−2−ナフタレンスルホニルクロリドの製造方法及びその原料である6−クロロ−2−ナフタレンスルホン酸の製造方法を提供する。
【解決手段】 6−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸をジアゾ化し、無機塩の存在下にザンドマイヤー反応に付して6−クロロ−2−ナフタレンスルホン酸を得ること、及び当該6−クロロ−2−ナフタレンスルホン酸を極性溶剤の存在下、塩素化して6−クロロ−2−ナフタレンスルホニルクロリドを得ることからなり、本発明の方法によれば高収率で6−クロロ−2−ナフタレンスルホニルクロリドを得ることができる。 （もっと読む）