国際特許分類[C07C309/74]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | スルホン酸;そのハライド,エステルまたは無水物 (1,275) | スルホン酸エステル (295) | エステル化されたスルホン酸基の硫黄原子が6員芳香環の炭素原子に結合しているもの (123) | 縮合環系の一部である6員芳香環の炭素原子に結合しているもの (4)
国際特許分類[C07C309/74]に分類される特許
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アルキル化剤の調製及び使用
【課題】放射性医薬品の合成又は修飾に使用し得る、標的化合物を迅速かつ有効にアルキル化するための組成物及び方法を提供する。
【解決手段】
X-(CR1R2)aCR3R4-LG(式中、aは、0、1、2又は3であり、R1、R2、R3及びR4は、独立にH、X又はアルキルであり、Xは、ハロゲン又は標識であり、但し、少なくとも一つのXがハロゲンである、LGは、脱離基である)を有するアルキル化剤を合成し、アルキル化剤を、アルキル化反応性基を含む標的化合物のアルキル化に適した条件下で、標的化合物と反応させる。アルキル化剤の合成は、約40℃〜80℃未満の温度で起こる。
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ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー
【課題】キノンジアジド化合物との相溶性が高く、ITO膜エッチング工程におけるレジスト剥離液耐性に優れた層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]シロキサンポリマー、及び[B]キノンジアジド化合物を含有し、[A]シロキサンポリマー中のアリール基のSi原子に対する含有率が60モル%を超え95モル%以下であるポジ型感放射線性組成物である。[A]シロキサンポリマーが、下記式(1)(式中、R1は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表す。R2は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表す。但し、これらのアルキル基、アルケニル基、及びアルキル基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。nは0から3の整数を表す)で示される化合物を少なくとも含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であってよい。
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新規ポリマー、荷電制御剤、及び静電荷像現像トナー
【課題】スルホン酸、スルホン酸エステル基、あるいはその誘導体を導入した新規なポリマーとその製造方法、及び前記ポリマーを作製するための新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で示されるユニットを含むことを特徴とするポリマー。
(式中、R1w、R1xはそれぞれ独立してハロゲン原子、または水素原子である。R1yはCH3基または水素原子である。R1a、R1b、R1cのいずれか一つは、SO3 R1fで示されるスルホン酸エステル基である。)
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オキシム誘導体および潜在酸としてのそれらの使用
本発明は、式(I、IIまたはIII)の新規な光酸発生剤化合物であり、ここで、R1は、例えばC1〜C18アルキルスルホニルまたはフェニルスルホニル、フェニル−C1〜C3アルキルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり、すべては、場合により置換されているか、あるいはR1は、基(a,bまたはc)であり;X1、X2およびX3は、互いに独立に、OまたはSであり;R’1は、例えば、フェニレンジスルホニル、ナフチレンジスルホニル、ジフェニレンジスルホニルまたはオキシジフェニレンジスルホニルであり、すべては、場合により置換されているか;R2は、ハロゲンまたはC1〜C10ハロアルキルであり;Xは、ハロゲンであり;Ar1はヘテロアリーレンであり、例えば、ビフェニリルまたはフルオレニルであり、あるいは置換ナフチルであり;Ar’1は、場合により置換されており;R8、R9、R10およびR11は、例えば、非置換またはハロゲンで置換されているC1〜C6アルキルであるか;あるいはR8、R9およびR10は、非置換またはC1〜C4アルキルもしくはハロゲンで置換されているフェニルであるか;あるいはR10およびR11は一緒に、非置換またはC1〜C4アルキルもしくはハロゲンで置換されている1,2−フェニレンまたはC2〜C6アルキレンである。
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