【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［式中、Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基であって、該環構造中に−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合を有し、該−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合に隣接しない１つ以上の炭素原子の置換基として酸素原子を有する。Ｑ^１は２価の連結基又は単結合であり、Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり、Ａ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】熱安定性に優れ、高量子収率で光環化反応を起こすチオフェン誘導体を提供すること。
【解決手段】式〔１〕または〔２〕で表されるチオフェン誘導体。
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有効治療量のドセタキセルを有効治療量のET-743との組合せで投与する工程を含む、癌に対して人体を治療する方法。 （もっと読む）