国際特許分類[C07F7/10]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物 (10,137) | 周期律表の第4族の元素を含有する化合物 (2,931) | ケイ素化合物 (2,397) | 1個以上のC−Si結合をもつ化合物 (2,192) | 窒素を含有するもの (444)
国際特許分類[C07F7/10]に分類される特許
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ピリジルピリミジン、その製造方法および液晶混合物におけるその使用
変色の防止された抗菌防黴処理方法と処理液
【目的】 トリアルコキシ-Si(CH2)3NHC(=NH)NH-Z1 (Z1は-CN または-C(=NH)NH-Z2、Z2はH、アルキル、または置換もしくは非置換フェニル) で示されるグアニジル基含有アルコキシシランの溶液で抗菌防黴処理した場合に認められる、処理後の材料の変色を防止する。
【構成】 上記抗菌防黴処理後に、ヒドロキシ基を有していてもよいアルキルスルホン酸またはアルキル硫酸またはこれらの塩の水溶液で処理する。
【効果】 上記シラン化合物による抗菌防黴効果を低下させずに変色を防止できる。
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シラナミン誘導体およびその製造方法並びに該シラナミン誘導体を用いたEL素子
【目的】精製容易で薄膜化時の再結晶化が遅く、イオン化ポテンシャルが低いシラナミン誘導体とその製造方法、および低電圧駆動が可能な新規の有機EL素子を提供する。
【構成】ジアリールアミンとハロゲン化シランとを反応させて得られる式(I)
(Ar1はC1〜6のアルキル基、C1〜6のアルコキシ基、(アルキル置換)フェノキシ基または(ビニル基置換)核炭素数6〜20のアリール基であり、Ar2は(i) (C1〜6アルキル基置換)核炭素数6〜20のアリーレン基であり、Ar3は(i) (C1〜3アルキル基置換)核炭素数6〜12のアリール基である)のシラナミン誘導体。また有機発光層を含む単層構造または複層構造の化合物層と、この化合物層を挾持する1対の電極とを備え、かつ前記化合物層の少なくとも1層が式(I)のシラナミン誘導体を含む有機EL素子。
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高純度溶融シリカガラスの非多孔質物体を作成する方法
【目的】 有害なまたは環境的に危険なHCl放出を伴うことなしに高純度シリカおよびそれを用いた光導波路ファイバを作成すること。
【構成】 酸化を伴う熱分解または火炎加水分解によってSiO2に変換され得るハロゲン化物を含まずケイ素を含有した蒸気状の化合物のガス流を生じさせ、前記ガス流を燃焼バ−ナの炎内に送り込んで溶融したSiO2無定形粒子を形成し、前記無定形粒子を支持体上に沈積させ、前記沈積と実質的に同時にまたはその後で、前記無定形粒子の沈積物をコンソリデ−トさせて事実上非多孔質の物体となす。この場合、(1)Si-O結合の解離エネルギ−より大きくないSi-R結合解離エネルギ−を有し、(2)350℃より高くない沸点を有し、(3)熱分解および/または加水分解によって、環境的に安全と認められるまたは放出が許容基準以下である分解生成物をSiO2のほかに生成するという特性を有するハロゲン化物を含まない蒸気状態の有機ケイ素-R化合物を用いる。
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