【目的】 高密度集積回路プロセスに用いられるフォトレジスト材料の重合モノマーである各種の置換オキシスチレンを入手及び取扱いが容易な原料から操作簡易に高収量で製造することを目的とする。
【構成】 〔化１〕で示されるベンズアルデヒド誘導体とジブロムメタンとを亜鉛金属と活性な塩化物との存在下で有機溶媒中で反応し〔化２〕で示されるスチレン誘導体の製造方法。
【化１】


（式中Ｒは、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、酸素原子を含む５又は６原子複素環基もしくはアルキルシリル基を表す）
【化２】


（式中Ｒは前記と同一意義を有す） （もっと読む）

【目的】 耐熱性に優れ、金属表面に対する防錆作用が高く、しかも金属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることができるイミダゾールシラン化合物、その製造方法、及びそれを用いた金属表面処理剤を提供する。
【構成】 下記一般式（１）、（２）又は（３）で表されるイミダゾールシラン化合物。






（Ｒ¹はＨ、Ｃ１〜２０のアルキル基、Ｒ²はＨ、ビニル基、Ｃ１〜５のアルキル基、Ｒ³，Ｒ⁴はＣ１〜３のアルキル基、ｎは１〜３） （もっと読む）

通常液状のω−ヒドロフルオロアルキルエーテル化合物（およびその選択された混合物）は、１個以上のエーテルの酸素原子が挿入された、炭素原子の飽和プルフルオロ脂肪族連鎖を有している。これらの化合物は、例えば、対応するフルオロアルキルエーテルカルボン酸を脱炭酸することによって製造することができ、そして例え洗浄および乾燥の用途に有用である。 （もっと読む）