国際特許分類[C08F120/20]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体 (60) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (59) | エステル (44) | 多価アルコールまたはフェノールの (4)
国際特許分類[C08F120/20]に分類される特許
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キャスティング成形向け光学材料用ラジカル硬化性組成物
【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物の周辺部での不十分な硬化を防止できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形向け光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物(A)の1種又は2種以上と、1分間半減期温度が100℃〜160℃の範囲にあり且つ該温度が互いに異なる2種以上の熱ラジカル重合開始剤(B)を含有する。前記ラジカル硬化性化合物(A)としては、分子内に芳香環又は脂環を有する(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。前記分子内に芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステルとして、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、スチルベン環、ジベンゾチオフェン環及びカルバゾール環からなる群より選択された少なくとも1種の芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
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ソルダーレジスト組成物およびプリント配線板
【課題】変色劣化に起因した反射率の低下を防止し、かつ、高反射率で高解像度のソルダーレジスト組成物、及びそれを用いてソルダーレジストを形成して得られるプリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)カルボキシル基含有樹脂、(B)ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、(C)モノアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、(D)メラミン又はその誘導体、(E)光重合性モノマー、(F)ルチル型酸化チタン、(G)エポキシ化合物および(H)有機溶剤を含むソルダーレジスト組成物。
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透明ポリカーボネートブレンド
本発明は、ポリカーボネート(PC)と、メタクリル酸メチル(MMA)とメタクリル酸ナフチル又はメタクリル酸置換ナフチルとのコポリマーとの透明熱可塑性ブレンドに関する。このコポリマーは、高温においてさえポリカーボネートとの混和性に優れ、透明ポリカーボネートブレンドを作る。このブレンドは、その優れた光学特性を維持しながら、ポリカーボネートに改善された耐引っ掻き性を提供する。
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光硬化性樹脂組成物およびその硬化膜を有する積層体の製造方法
【課題】耐擦傷性、外観に優れた硬化膜の形成に有用な光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物(A)100部、式(1)又は(2)の化合物(B)0.1-10部、及び、式(3)又は(4)の化合物(C)0.1-10部を含む光硬化性樹脂組成物;及びその硬化膜の形成工程を含む積層体の製造方法[R1-R9,R11-R13,R16= H, C1-8アルキル,アリール,C1-8アルコキシル、R10= C1-8アルコキシル、R14-R15= C1-8アルキル,アリール,ベンゾイル]。
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