国際特許分類[C08F20/22]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素−炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体 (3,487) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (3,067) | エステル (2,452) | ハロゲンを含有するエステル (152)
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パーハロアルキル基を含有するもの (54)
国際特許分類[C08F20/22]に分類される特許
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含フッ素組成物およびその用途
【課題】表面処理剤として要求される性能、例えば、撥水撥油性、防汚性、離型性、基材に対する密着性、防蝕性、風合い、耐水性、耐油性、これら性能の耐久性を有する含フッ素組成物を提供する。
【解決手段】(a)式:
CH2=C(-X)-C(=O)-Y-Z-(CL(CF3)-CH2)a-Rf
[式中、Xは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Y は、-O- または -NH-であり、
Zは、直接結合または二価の有機基であり、
Rfは、炭素数1〜20のフルオロアルキル基であり、
Lは、フッ素原子または塩素原子または水素原子であり、
aは、1〜50の整数である。]
で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位
を有してなる含フッ素重合体を含んでなる含フッ素組成物。
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重合性液晶組成物および光学異方性フィルム
【課題】棒状液晶化合物を配向させたときに得られるフィルムのヘイズを低くすることができる、棒状液晶化合物を含む重合性液晶組成物の提供。
【解決手段】少なくとも1つの重合性基を有する棒状液晶化合物と、少なくとも1種のキラル剤と、少なくとも1種の下記式で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー由来の構成単位を含む(メタ)アクリル重合体と、を含む重合性液晶組成物。
(式中、R0は水素原子またはメチル基を表し、Xは−O−または−NR1−を表し、X0は水素原子またはフッ素原子を表し、R1は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表し、mは1〜6の整数を表し、nは1〜18の整数を表す。)
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フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法
【課題】フォトレジスト上塗り組成物および、前記上塗り組成物でコーティングされた基体、並びにネガティブトーン現像プロセスによって電子デバイスを形成する方法の提供。
【解決手段】以下の一般式(I)のモノマーを重合単位として含むポリマー、有機溶媒および塩基性クエンチャーを含む上塗り組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス(LER)で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、A14は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】CD均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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含フッ素化合物
【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(C−1)で表される化合物である含フッ素化合物。含フッ素化合物の前記エチレン性二重結合が開裂した構造の構成単位を有する高分子化合物である含フッ素化合物。式中、Qは1価の親水基から水素原子1つを除いた基であり、R2は、重合性基を含む置換基を有し、フッ素原子を有していてもよい芳香族環式基を含む有機基であり、前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、R3は−R41−R42で表される基である。R41は無置換の炭素数1〜9のアルキレン基であり、R42は炭素数1〜9のフッ素置換アルキル基である。ただし、R41とR42との炭素数の合計は10以下である。
[化1]
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ネマチック液晶組成物及びこれを使用した液晶表示素子
【課題】広い温度範囲において析出することなく、重合後の液晶配向規制力が高く、焼き付き等の表示特性に不具合を生じないPSA型表示素子に用いる新規な重合性化合物含有液晶組成物、及び、該重合性化合物含有液晶組成物を用いることで表示ムラ等のない表示品位に優れ、優れた表示特性を有する液晶表示素子を提供する。
【解決手段】少なくとも1種は、式(I)で表される重合性化合物、及びシクロヘキサン環を構造単位に有する非重合性液晶化合物を少なくとも1種又は2種以上含有する重合性化合物含有液晶組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターン製造時のCD均一性が良好であり、レジストパターンを形成した場合に欠陥の発生数を低減することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び(B)アルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。A1は、−(CH2)m1−、−(CH2)m2−O−(CH2)m3−又は−(CH2)m4−CO−O−(CH2)m5−を表す。m1〜m5は、それぞれ独立に、1〜6の整数を表す。R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたCD均一性を有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂及び(B)アルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。A1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び(B)式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、A1はアルカンジイル基;R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、*−CO−O−La−又は*−CH2−O−Lb−を表す。環W1は複素環を表す。]
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