国際特許分類[C08F234/02]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 複素環中に1個以上の炭素―炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の共重合体 (27) | 環中に酸素を含有する単量体 (16)
国際特許分類[C08F234/02]に分類される特許
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環状エーテル共重合体、コーティング用樹脂組成物、光デバイス、光デバイス製造方法
本発明は、溶剤への溶解性に優れ、薄膜形成が容易な環状エーテル共重合体等の環状エーテル共重合体を提供する。
下記一般式(I)
(式中、R1及びR2は、同一又は異なって、F、H、Cl若しくは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表し、X1及びX2は、同一又は異なって、F、H、Cl若しくは−OR3を表し、R3は、炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表す。但し、R1又はR2の少なくとも何れかは、F若しくは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基である。)で表される1,3−ジオキソール環構造含有化合物と、エチレン型不飽和単量体とから得られる環状エーテル共重合体であって、上記環状エーテル共重合体は、ガラス転移点が100〜135℃であり、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン中35℃における固有粘度が0.01〜0.5dl/gであるものであることを特徴とする環状エーテル共重合体である。
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液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物及び半導体の製造法
【課題】 耐水性に優れ且つ高性能なレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 環状エーテル骨格を含むモノマー単位を含む液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物。前記環状エーテル骨格を含むモノマー単位として、下記式(Ia)〜(Ig)
から選択された少なくとも1種のモノマー単位を使用できる。
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新規な光学樹脂材料
【課題】光通信領域の光に対して吸収が小さく電気光学効果による屈折率の変化の大きい、光制御デバイス材料として有用な新規な光学樹脂材料を提供する。
【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環を有する含フッ素重合体に電気光学効果を有する化合物が分散または結合されてなる光学樹脂材料。たとえば、下記モノマー単位(A11)と下記モノマー単位(M11)を含む含フッ素重合体を含む被膜からなる電気光学効果を有する光学樹脂材料。
【化1】
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含フルオロポリマーを含む化学増幅型レジスト組成物
【課題】パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソルから誘導される繰返し単位を含むポリマーを含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】(a)(a−1)パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソルから誘導される下記式で表される繰返し単位と、
(a-2)ビニルから誘導される繰返し単位よりなる感光性ポリマーと、(b)光酸発生剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。
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ペリクル
【課題】ペリクル、および該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】ペリクル膜が枠体に接着されてなる露光処理用のペリクルであって、ペリクル膜が式CX1X2=CX3(CF2)nOCX4=CF2の環化重合により形成されたモノマー単位を必須とする含フッ素重合体からなるペリクル(ただし、X1、X2、X3、およびX4は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を示し、少なくとも1つは水素原子である。nは1または2を示す。)。該ペリクルを用いる露光処理方法。
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フッ素化ポリマーコーティングを有する植込み型医療器具、およびその塗布方法
本発明は、一般的に、フッ素化コーティングを有する植込み型医療器具、およびこれを塗布する方法に関する。より具体的には、本発明は、本発明は、非晶質フルオロポリマーを含む耐腐食性コーティングを有する植込み型金属系医療器具を提供する。 (もっと読む)
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